Electrodeposicion del Cu

El principio de los mtodos de recubrimiento

electroltico o qumicos, tambin denominados
galvnicos, consiste en depositar por va
electroqumica, finas capas de metal sobre la
superficie de una pieza sumergida en una solucin
de agua con iones metlicos o electrolito, al
conectar una fuente externa de corriente directa.
Las capas formadas generalmente son de un
espesor entre 1 y 100 m. El metal que
constituye la capa se encuentra en el electrolito
en forma de iones. Tambin existen mtodos de
recubrimiento sin corriente externa, basados en
procesos de oxidacin o reduccin que, sin
embargo, son de menor importancia.

Las capas de recubrimiento se depositan
sobre una superficie metlica o no
metlica con ciertas propiedades, para
darle caractersticas que sta por s
misma no tiene, o bien, para fabricar
ciertas piezas con determinada
presentacin en el acabado. Si el objeto
no es conductor, se le hace conductivo,
por ejemplo, en la galvanizacin de
plsticos.

RECUBRIMIENTOS ELECTROLITICOS
Electrolisis: es un fenmeno por el cual
se produce una reaccin quimica
mediante la aplicacin de energa
externa. Es un proceso no espontneo.
Consiste :
De electrodos( nodo y ctodo: stos
pueden ser activos o inertes), un
electrolito (CuSO
4
)

,y una fuente de
voltaje
CELDA ELECTROLITICA CON
ELECTRODOS INERTES
En el nodo(+)
se da oxidacin
del agua
liberndose
oxigeno.
Debera
depositarse el
oxianin SO
4
2+
pero no as
debido a que
tiene menor
potencial de
oxidacin

En el ctodo se
deposita en
cobre Cu
2+
.
Como finas
laminas

ELECTROLISIS CON ELECTRODOS
ACTIVOS
En el nodo se libera
cationes de Cu2+
stos viajan por el
electrolito y se
deposita en le
ctodo.
El en nodo se da
una prdida de
masa. Dicha masa la
gana el ctodo.
Siempre los
electrones viajan del
nodo al ctodo.