Sunteți pe pagina 1din 3

TEHNOLOGIA DE POLIMERIZARE CU AJUTORUL RADIATIEI UV

Cernelurile si lacurile care nu contin sau contin cantitati mici e sol!ent casti"a in ce in ce mai
multa im#ortanta$ %ineinteles ca in aceasta cate"orie intra sistemele cu #olimeri&are UV$
Avantajele cernelurilor UV sunt evidente, initial a contat cel mai mult protejarea mediului cernelurile UV
aproape ca nu contin solventi , deci nu sunt poluante. Intre timp, oricum, utilizatorii au fost convinsi de beneficiile
economice ale acestui sistem. Straturile aplicate sunt uscate imediat dupa procesul de polimerizare si o
procesare ulterioara se poate face imediat. Astfel productia este rapida si costurile sunt mult mai eficiente.
Sistemul de polimerizare cu ajutorul radiatiei UV consta dintr-o rasina reactiva (oligomeri sau prepolimeri
si un !solvent" reactiv, care se mai numeste !monomer". #atorita reactiei c$imice, monomerii sunt blocati intre
lanturile de polimeri , contribuind astfel la formarea filmului de cerneala. #oar energia radiatiei UV nu este
suficienta pentru a se produce polimerizarea. #in acest motiv, in cerneluri sau lacuri se amesteca fotoinitiatori sau
fotosensibilizatori.
Se utilizeaza doua sisteme UV, bazate pe doua mecanisme de reactie diferite%
Polimeri&area raicalica UV a lacurilor si a cernelurilor$
Polimeri&area cationica UV a lacurilor si a cernelurilor$
In mod curent, o cota mare a pietei o au cernelurile cu polimerizare radicalica. &ernelurile cu polimerizare
cationica sunt o e'ceptie, in special in aplicatiile serigrafice.
#iferentele dintre mecanismele lor, avantajele si dezavantajele lor sunt urmatoarele%
CERNELURI CU POLIMERIZARE RADICALICA
(entru acest tip de cerneluri sunt folosite rasini nesaturate, cu grupari foarte reactive, care vor da o
reactie de reticulare cu monomeri cu grupe terminale de acid acrilic (esteri acrilici. In amestec cu acrilatii, pot fi
reticulati in acelasi mod si alti compusi cu duble legaturi reactive, precum rasini poliesterice nesaturate si
monomeri vinilici precum stirenul.
#aca sunt e'pusi la radiatii UV, fotoinitiatorii se descompun spontan in radicali liberi care vor initia reactia
de polimerizare. Acesti radicali reactioneaza cu dubla legatura a rasinii sau a monomerului, rezultand o crestere a
(macroradicalului. ) alta molecula de rasina sau monomer se va atasa la acesti radicali. Se va produce o
crestere rapida a lantului, care nu se va opri decat printr-o reactie de intrerupere a lantului. Astfel se va forma o
structura macromoleculara reticulata tridimensionala, insolubila si rigida. *oate acestea se intampla in cateva
secunde sau zecimi de secunda, deci imediat dupa polimerizare se formeaza o pelicula cu rezistenta mare.
)'igenul din aer poate interfera cu aceasta reactie. +adicalii necesari pentru polimerizare au tendinta sa
reactioneze cu o'igenul la suprafata, aceasta reducand randamentul polimerizarii. ,'pertii numesc aceasta
efectul de in$ibare al o'igenului. Astfel, unele cuptoare lucreaza cu gaze inerte, in acest fel viteza de reactie
poate fi crescuta semnificativ sau pot fi utilizate cerneluri cu un continut scazut de fotoinitiator (scump.
,c$ipamentele cu gaz inert sunt rar folosite in aplicatiile serigrafice, oricum uneori sunt folosite pentru aplicatii de
lacuri- in special in industria de automobile.
In timpul polimerizarii are loc o contractie de volum. Aceasta are efecte negative- adeziunea pe
substraturi dificile este greu de obtinut si pe de alta parte tensiunile din substrat pot cauza curbarea suprafetei- in
special la materialele subtiri precum etic$etele, va apare efectul de !margine curbata". In general, contractia de
volum in timpul polimerizarii este de apro'imativ .-/. 0, in functie de compozitie.
#e obicei, monomerii nereactionati din cerneala cu polimerizare radicalica UV sunt mai mult sau mai putin
iritanti pentru piele si au un efect de sensibilizare a pielii. #easemenea manipularea cernelurilor UV necesita
masuri de precautie potrivite. &ernelurile polimerizate, pe de alta parte, nu prezinta nici un risc.
CERNELURI CU POLIMERIZARE CATIONICA
(olimerizarea cationica are un mecanism de reactie diferit. +asina de baza a acestui tip de cerneala este
un compus ce contine grupari o'iranice. Initiatorul folosit este un acid 1e2is sau 3roensted mascat, care e activat
prin e'punere. In continuare, procedura corespunde cu polimerizarea acida a sistemelor conventionale.
Uzual, rasina folosita este cicloalifatica epo'i, cu reactivitate mare. (rotonul continut de acid induce
desc$iderea inelelor epo'idice, initiind polimerizarea cu lanturi continue, in crestere. &ontractia de volum cu acest
tip de polimerizare este mai scazut, in general circa 4-.0, caz in care adeziunea este mai buna pentru alte
substrate.
&ontrar cu polimerizarea initiata radicalic, aici produsii scindarii fotoinitiatorului !rezista! mai mult- astfel
reactia continua si dupa e'punere. (olimerizarea incepe la suprafata, si apoi continua lent. Acidul poate difuza
prin substratul inca lic$id si sa polimerizeze aceste parti care nu au fost e'puse direct. (rocesul de polimerizare
continua la intuneric. Acest proces poate fi avantajos pentru imprimari cu cerneluri foarte opace, cand razele UV
nu penetreaza tot stratul, catre substrat, care pe de alta parte ar cauza o polimerizare insuficienta in cazul
cernelurilor cu polimerizare radicalica.
&ombinarea epo'izilor cu polioli permite ajustarea pe scara larga a proprietatilor filmului de cerneala de la
rigid la fle'ibil, in functie de cerintele individuale.
(rocesarea cernelurilor UV cu polimerizare cationica nu necesita masuri speciale, datorita urmatoarelor
proprietati care trebuiesc luate in consideratie. #e obicei, cand se lucreaza cu orice tip de cerneala, masina
trebuie sa fie curatata in prealabil, c$iar si cele mai mici urme de substante al5aline pot incetini sau c$iar stopa
polimerizarea completa. #e e'emplu contaminarea cu amine poate sa fie din cauza aminelor continute des de
cernelurile UV radicalice. #easemenea, unii pigmenti sau filleri au proprietati al5aline, deci lacurile de acoperire
UV cationice nu pot polimeriza peste cerneluri ce contin pigmenti alcalini. In plus, agentii si aditivii au'iliari pot
avea caracter alcalin- daca sunt adaugati in cerneluri, acestea vor deveni inutilizabile. #eci sunt necesare
intotdeauna pre-teste.
Unul dintre avantajele esentiale este acela ca este insensibila fata de o'igen. )ricum, umiditatea crescuta
poate avea efecte defavorizante asupra polimerizarii. 6olosirea unui cuptor I+ inaintea celui UV poate fi destul de
avantajoasa. (e deoparte umiditatea relativa este redusa, iar pe dealtaparte c$iar si o mica crestere de
temperatura va imbunatati viteza de reactie in timpul e'punerii UV. #eci caldura va mari post polimerizarea dupa
uscare.
In general cernelurile UV cationice au un potential de risc mai scazut decat cernelurile cu polimerizare
radicalica. 7irosul cernelii lic$ide precum si a celei polimerizate este scazut. Aceste proprietati sunt favorabile
pentru utilizatori.
(e scurt, toate avantajele sunt%
6ilmele au o foarte buna fle'ibilitate
Aderenta pe plastice, metale si sticla este foarte buna
Aproape ca nu au miros
+ezistenta e'celenta la abraziune
+ezistenta c$imica buna
,fect de bariera mare
In ciuda acestor proprietati e'celente sunt si urmatoarele limitari%
&a la toate sistemele epo'idice, rezistenta outdoor este inca limitata, c$iar daca se pot obtine
imbunatatiri semnificative folosind anumiti aditivi
(retul materialelor prime pentru cernelurile si lacurile UV cationice sunt mult mai mari decat al celor
pentru sistemele radicalice comune. 1a acest aspect am vrea sa punem punct pe afinitatea lacurilor
epo'i conventionale, care pot fi procesate fie in cuptor, fie ca sisteme in doi componenti. (rocesarea
acestor sisteme conventionale !costa" mai mult timp si mai multi bani decat sistemele cu polimerizare
UV, facand astfel diferente mari de cost ale materialelor. &a intreg, te$nologia UV, poate fi c$iar mai
ieftina.
&$iar daca cantitatea de cerneluri si lacuri UV cationice folosite este complet scazuta, #epartamentul de
&ercetare si #ezvoltare al &oates urmareste indeaproape acest tip de cerneluri. In special pentru acele aplicatii
unde folosirea cernelurilor UV conventionale vor ajunge la limita capacitatii, ne asteptam sa ajungem sa stapanim
noi cerinte te$nice. In plus, preturile actuale mari pentru fotoinitiatori vor scade incet, dar sigur.
Daca aceasta teninta continua' cernelurile UV cationice !or casti"a si"ur semni(icatie in !iitor$
Coates )creen In*s Gm+H este e,a #re"atit #entru a (ace (ata acestor noi cerinte$
,d2in *afelmeier
+esearc$ 8 #evelopment
2
&oates Screen In5s 9mb:
3