UNIVERSITATEA OVIDIUS CONSTANTA

REFERAT STUDIUL METODEI THERMOIONIC VACUUM ARC IN DIFERITE CONFIGURATII, CA METODA DE DEPUNERE PENTRU NANOSTRUCTURI PE BAZA DE CARBON

Albu Dorel Florin Fizica Tehnologica IV

1. Introducere. Alaturi de tehnologiile traditionale existente nca de la mijlocul secolului trecut, astazi asistam la aparitia si perfectionarea unor tehnici moderne de depunere, unele reprezentnd chiar combinatii ale metodelor deja consacrate, care asigura un grad mare de puritate, de aderenta sau de rezistenta la uzura a straturilor depuse. Alaturi de tehnicile conventionale de depunere a straturilor subtiri (evaporarea sau electrodepunerea), procesele din plasma joaca un rol din ce n ce mai important n realizarea unor astfel de filme. Acoperirea suprafetelor cu filme groase sau subtiri dintr-un anumit material are o importanta din ce n ce mai mare, nu numai n procesul de fabricare a componentelor electronice, dar si n confectionarea dispozitivelor optice, a materialelor biomedicale si a straturilor protectoare usoare pentru aparatele de zbor. Straturile depuse au un rol de protectie mpotriva coroziunii, uzurii, acizilor, caldurii sau a altor influente din mediul nconjurator. Metoda Arcului Termoionic n Vid este o tehnologie prin care se pot face depuneri de straturi subtiri cu un grad de puritate crescuta n conditiile n care stratul care se depune este bombardat cu ionii de energie mare chiar ai materialului de depunere. Metoda arcului termoionic n vid (TVA) este o metoda competitiva, deoarece acest sistem poate ncalzi la temperaturi nalte orice material, fiind una din cele mai adecvate metode pentru evaporarea carbonului. De asemenea, prin utilizarea acestei tehnologii se fac depuneri de straturi subtiri cu un grad de puritate crescuta n conditiile n care stratul care se depune este bombardat cu ioni de energie mare ai materialului de depus. In acest tip de arc, catodul este incalzit la o temperatura la care sa se produca o emisie termoionica semnificativa. Fascilolul de electroni este accelerat prin aplicarea unei tensiuni inalte intre anod si catod (2-3 kV). Sub actiunea incidentei fascicolului de electroni, materialul din nacela mai intai se topeste, apoi incepe sa fiarba si apoi incepe sa se evapore. In acest mod, in spatiul dintre tunul electronic si nacela ce contine materialul de evaporat se stabileste o densitate stationara de atomi ai materialului continuu evaporat. La o crestere suplimentara de tensiune si in conditii de vid inaintat, se aprinde o descarcare stabila in vaporii materialului evaporat. Se obtine astfel o

plasma ce contine ionii energetici. Energia ionilor provine din faptul ca plasma se afla la un potential inalt fata de masa. Aceasta face ca filmul care se depune sa fie bombardat cu ioni de energie mare, natura ionilor care bombardeaza fiind chiar cea a a materialului care se depune.

2. Configuratiile electrozilor. Arcul termoionic in vid (TVA) poate fi realizat in conditii de vid inaintat (10-5 10-6 mbar) intre electrozii a caror configuratie este posibila intr-o geometrie liniara sau cilindrica atunci cand este v orba despre un singur tun electronic la catod. De asemenea, se poate realiza si montajul cu doua tunuri electronice, dispuse simetric fata de pozitia anodului. Inainte de a analiza configuratiile electrozilor in arcul TVA sunt necesare cateva precizari privind electrozii. Din punct de vedere al modului in care se produce emisia termoionica in vid, catodul poate fi incalzit direct sau indirect (cu ajutorul unui catod auxiliar). Configuratiile posibile pentru arcul TVA sunt: 2.1 Geometria un tun si o nacela

Metoda Arcului Termoionic in Vid (TVA) este descrisa ca fiind o metoda noua si potrivita pentru depuneri de filme subtiri cu puritate ridicata, cu structura compacta si foarte netede. TVA poate genera o plasma in vapori de metal pur, in interiorul unei incinte vidate si in conditiile aplicarii inaltei tensiuni, asigurand bombardamentul energetic cu ioni ai materialului ce urmeaza a fi depus. Energia ionilor poate fi controlata si modificata chiar in timpul depunerii.

Montajul experimental

Fig.1 Montajul experimental folosit pentru a produce TVA

Materialul care trebuie evaporat se afla in creuzetul sub forma de lingura care este realizat din tungsten si care are rolul de anod. Catodul este un filament realizat din sarma de tungsten cu diametrul de 0,5 0,8 mm si este montat in interiorul unui cilindru Whenelt realizat din molibden si care are un orificiu frontal cu diametrul de 5 6 mm. Acest ansamblu este montat in interiorul unei incinte vidate. Catodul este legat la pamant iar inalta tensiune ii este aplicata prin intermediul unui rezistor.

Figura 2 Functionarea arcului TVA geometria un tun

Aprinderea Arcului Termoionic in Vid (TVA) Pentru a putea aprinde arcul TVA, presiunea din incinta vidata trebuie sa fie mai mica de 10 tori. Filamentul catodului este incalzit la temperatura inalta pentru a se putea obtine o emisie termoelectronica semnificativa. In spatiul anod-catod este aplicata o diferenta de potential inalta. In aceste conditii, materialul din creuzet (anod) incepe sa se topeasca, apoi sa fiarba. In urma acestui proces, o densitate de atomi ai materialului evaporat se stabileste in spatiul dintre electrozi. Daca se continua cresterea inaltei tensiuni, va avea loc aprinderea arcului TVA in vaporii de la anod. De fapt, aceasta aprindere a arcului este diferita fata de bine-cunoscutele descarcari luminiscente. In cazul aprinderii arcului TVA, tensiunea aplicata va asigura gazul (vaporii de metal) necesar sa sustina descarcarea curentului, mai mult decat atat, imediat dupa aprinderea arcului, densitatea de atomi ai materialului evaporat la anod trebuie mentinuta, in ciuda faptului ca o parte din voltaj se va pierde pe rezistor, ceea ce face ca potentialul plasmei sa scada. Concluzii Sistemele dezvoltate pentru depunerile de filme (straturi subtiri) folosind metoda arcului TVA este foarte promitatoare atat din punct de vedere al calitatii inalte ale filmelor dar si din punct de vedere al puritatii acestora.

Datorita numarului mare de parametri ce pot fi controlati direct (implicit si un control al calitatii filmului), TVA va fi considerat ca una din cele mai bune sisteme de producere filme subtiri pentru nanostructuri.

2.2 Geometria un catod circular.

Arcul TVA este o plasma localizatata intr-un mediu in care exista vid, plasma care este initiata folosind un anod din metal, sau grafit si un tun electronic. Descarcarea este generata de termoelectronii emisi de filamentul din tungsten (incalzit) al unui catod. Montajul experimental este prezentat in figura de mai jos. Ionii creati in plasma sunt accelerati catre peretii incintei, respectiv catre substrat, datorita unei diferente de potential dintre plasma si peretii incintei (conectati la impamantare). Datorita presiunii scazute (9x10-4 Pa), energia ionilor este direct proportionala cu diferenta de potential. Aceasta este o caracteristica importanta a acestei metode deoarece energia ionilor poate fi direct controlata prin parametrii de functionare ai plasmei. Anodul consta dintr-o bara de carbon pur ce are diametrul de 12,5 mm. Datorita faptului ca anodul este in continuu erodat pe durata descarcarii, distanta dintre electrozi este controlata de un sistem computerizat in masura sa efectueze ajustarile mecanice (fine) necesare. Caracteristicile TVA sunt de asemenea preluate prin intermediul unor traductoare (de curent si tensiune) si transferate catre programul LabView.

Figura 4. Montaj experimental TVA un catod circular

Deoarece plasma arcului TVA nu umple incinta vidata, energia ionilor de carbon formati in plasma este data de relatia: E = e(Vo Vp), unde e = sarcina unui ion; Vo potentialul punctului in care ajung ionii (substratul) iar Vp potentialul plasmei. Astfel, pentru o valoare a lui Vo data (poate fi zero sau orice alta valoare), energia ionului este direct proportionala cu potentialul plasmei, deci poate fi corelata direct cu tensiunea si curentul arcului.

Concluzii S-a observat experimental ca valorile energiei ionilor de carbon variaza intr-o zona relativ restransa, adica aproximativ 450eV pentru voltaje cuprinse intre 700 1250 V.

Astfel de energii (inalte) nu s-au descoperit (experimental) in nicio alta plasma. Acest lucru ofera filmelor obtinute o anumita superioritate fata de filmele obtinute cu alte metode, acestea avand o compactare mai mare si o netezime (planeitate) mai buna.

2.3 Geometria 2 catozi circulari

Montajul experimental Metoda folosita se bazeaza pe metoda arcului TVA privind depunerile secventiale sau simultane de carbon si tungsten. Aceasta se bazeaza pe 2 dispuneri identice care vor produce 2 fascicule de electroni diferite, fascicule care au fost emise de catozii incalziti de surse externe. Fiecare catod este confectionat din sarma de tungsten cu diametrul de 1 mm. Fasciculele de ioni negativi sunt accelerate de voltajele mari ale anozilor, urmand ca apoi sa bombardeze simultan barele de grafit si tungsten avand un diametru de 10 mm si lungimea de 150 mm (vezi fig. 1). In ambele aranjamente, cilindrul Wehnelt, legat la impamantare, concentreaza fasciculele de electroni pe o portiune de aproximativ 1 mm in diametru de pe anod. Se vor forma 2 plasme, una in carbon pur si una in tungsten, in momentul in care este aplicata inalta tensiune (1 kV 2 kV) pe anod, respectiv pe catod. In camera de depunere presiunea este de 5 x10-4 Pa, presiune care a fost obtinuta cu ajutorul unei pompe mecanice si a uneia de difuzie. Arcul TVA s-a dovedit a fi o unealta cu eficienta ridicata pentru obtinerea de plasma fara picaturi in vaporii de metal, datorita unei incalziri eficiente asigurate de bombardarea cu electroni si in acelasi timp de evaporarea metalelor de la nivelul anodului la temperaturi de vaporizare de peste 3000K. Curentul folosit pentru incalzirea filamentului catodului a fost de 58,2 59 A pentru carbon si de 52,5 63,7 A pentru tungsten. Curentul de descarcare in vaporii de carbon a fost Idesc. = 1 1,8 A la un voltaj Udesc. = 1,5 1,8 kV.

Figura 1 Montajul experimental pentru depunerea de filme subtiri folosind simultan 2 TVA.

unde: HV = inalta tensiune; Rb 800 ; QMB1 si QMB2 microbalante cu cuart.

Concluzii Filmele de carbon si cele de tungsten au fost depuse secvential si simultan din 2 tinte, folosind metoda arcului TVA, pe substraturi aflate la distante diferite de sursa. In procesul de depunere secventiala, compozitia atomica a carbonului comparativ cu cea a Wolframului a fost de aproximativ 3 la 1, aproape de anodul cu carbon. Parametrii plasmei au fost aproximativ la fel, la fel a fost si rata de depunere ale celor 2 materiale. Diferentele majore apar in depunerea simultana a filmelor de Carbon si de Wolfram unde, pentru aceiasi parametri de descarcare, compozitia atomica de Carbon a crescut peste 65% pentru toate probele expuse celor 2 plasme, ajungand la 90% in apropierea anodului cu Carbon, in timp ce Wolframul a scazut usor ajungand intre 13% si 2%. Cand rata de depunere a Carbonului a crescut de 10 ori prin marirea puterii TVA, compozitia carbonului a sarit undeva peste 80% (ajungand la 98% in apropierea anodului cu Carbon), iar compozitia Wolframului a continuat sa scada sub 12%, ajungand chiar la 1%.

2.4 Geometria 2 tunuri si o nacela

Pentru experimentul urmator sunt folosite 2 configuratii diferite ale electrozilor arcului TVA (vezi figura de mai jos). Ambii electrozi sunt plasati in interiorul unei incinte in care se afla vid (10 -6 bari).

Fig. 2 - Configuratia electrozilor arcului TVA cu catod incalzit

Dupa cum se vede in figura de mai sus, catodul este incalzit. Filamentul incalzit consta dintr-o bucla de 0,4 mm in diametru, din sarma tungsten cu diametrul de 1 mm. Catodul este plasat intr-un cilindru Wehnelt care are o deschidere in fata cu diametrul de 5 mm. Termoelectronii emisi de catre catod sunt concentrati de cilindrul Wehnelt si accelerati de catre anod de inalta tensiune aplicata. Catodul poate fi configurat in diferite geometrii fata de anod. Pozitia este definita de unghiul pe care il face catodul si anodul si care poate lua valori de la 00 la 900.

Anodul consta dintr-o nacela din tugsten in forma de lingura si care are grosimea de 0,2mm. Materialul ce urmeaza a fi evaporat se afla in aceasta nacela. Diametrul maxim al acestei cavitati este de 10 mm. Electrozii sunt conectati la inalta tensiune (5kV). Curentul de descarcare este controlat cu ajutorul unor rezistoare si prin ajustarea voltajului. Dupa ce a fost crescuta temperatura catodului si aplicarea unui voltaj potrivit atat anodului cat si catodului, materialul din nacela se va topi. Datorita electronilor accelerati (proveniti din catodul incalzit) care lovesc anodul, se produce o evaporare continua a materialului din nacela (anod), Drept urmare, in conditiile unei incinte in care se afla vid, va apare o densitate a atomilor de metal in spatiul dintre cei doi electrozi. Dupa o alta crestere a tensiunii aplicate va apare o escarcare luminoasa in spatiul interelectrodic care va fi urmata de o scadere a voltajului aplicat electrozilor si o crestere semnificativa a curentului de descarcare. Descarcarea are loc in vapori de metal pur.

Concluzii Dezvoltarea acestui nou tip de arc TVA in vapori proveniti de la anod si catod incalzit ofera noi posibilitati de cercetare ale acestor fenomene. In acelasi timp, aceste fenomene ofera avantaje substantiale in intrarea pe piata a acestor aplicatii. Arcul TVA are proprietati deosebite care deriva din conditiile de operare si din proprietatile plasmei obtinute.

2.5.a) Geometria 2 tunuri si 2 nacele

Tehnica de depunere a straturilor Carbon-Aluminiu se bazeaza pe 2 fascicule de electroni emise de 2 catozi din Wolfram incalziti care bombardeaza simultan cei 2 anozi, unul ce contine o bara din grafit cu puritatea 99% si unul (tip creuzet) ce contine granule de Aluminiu. Termoelectronii accelerati de inalta tensiune aplicata anozilor genereaza vaporizarea materialelor de la cei 2 anozi. Aplicarea inaltei tensiuni (1 5 kV) intre catozi si anozi va initia o plasma luminoasa in vapori de Carbon si Aluminiu. Atomii neutri, dar si cei ionizati (cu energii cuprinse intre 10 si 200 eV), sunt directionati catre substraturi. Presiunea din interiorul incintei de depunere este de 5x10-5 tori.

In timpul procesului de depunere, substraturile folosite (otel si sticla sub forma de discuri cu diametrul de 25 mm) au fost incalzite la o temperatura constanta de 2000 C. Rata de depunere si grosimea filmului sunt masurate si controlate cu ajutorul unei microbalante. Intensitatile curentilor ce incalzesc filamentele catozilor sunt intre 40 si 50 A. Intensitatea curentului arcului TVA si tensiunea pentru descarcarea in vapori de C sunt: Idisc. = 1,2 1,4 A si, respectiv, Udisc. = 700 950 V. In cazul descarcarii in vapori de Aluminiu, acestea au fost: Idesc. = 0,6 0,7 A si, respectiv, Udesc. = 800 900 V.

Figura 3 - Dispozitivul experimental pentru depuneri compozite C AL

Primul strat depus pe substraturi a fost cel de Al (cu o grosime de 300 mm), urmat de un strat compozit C-Al (cu o grosime de 2 m). Masurarea coeficientului de frecare a fost facuta cu un tribometru si consta din glisarea unor bile cu diametrul de 6 mm peste probele (substraturile obtinute), la temperatura camerei (220C) si umiditate relativa, iar incarcarea de 1N/10mm structura cristalina a depunerii substratului a fost investigata cu un defractometru.

Concluzii Metoda TVA pentru depuneri de invelisuri compozite C-Al groase s-a dovedit a fi o tehnica foarte buna. Existenta Al cristalin in matricea Carbonului a fost pusa in evidenta cu ajutorul spectometrului. Analiza tribologica a aratat ca valoarea minima a coeficientului de frecare (0,28) pentru proba cu concentratie atomica cea mai mica este Al (27,7%)

2.5.b) Geometria 2 tunuri si 2 nacele

Configuratia arcului TVA cu 2 tun electronic si 2 nacele consta din 2 sisteme independente care genereaza fascicule de electroni incidente pe materialul situat la anod (Carbon sau metal), fiecare din cele 2 tunuri fiind conectat la sursa de inalta tensiune. Prin utilizarea metodei arcului TVA, depunerile metalice au loc in conditii de vid, sau vid inalt, fara a fi nevoie de prezenta vreunui gaz, ci doar vaporii materialului evaporat la anod. Aceasta metoda permite depuneri simultane de materiale diferite, oferind astfel posibilitatea obtinerii de straturi cu diferite materiale, in cazul de fata filme compozitia: C-Ar sau C-Cu. Tunurile electronice sunt aranjate simetric fata de substratul (care poate fi sticla sau otel) montat la o distanta de 40 mm fata de linia centrala. Intensitatea curentului ce incalzeste filamentul este If = 48 A la o rata de de punere de 3 /s. Presiunea din timpul descarcarii este de 1,5x10-6 7,5x10-6 Tori. In cazul aranjamentului experimental C-Ag se folosesc anozi din bara de Carbon cu diametrul de 12 mm si un creuzet ce contine cristale de Ag. Pe suportul pentru probe se fixeaza 5 discuri din otel inoxidabil (cu diametrul de 255 mm si grosimea de 3 mm) si 5 discuri din sticla optica, toate avand diametrul de 25 mm si 1 mm grosime. Suportul pentru probe se afla la o temperatura de 200 0C, fara posibilitatea de a se roti. Mai intai se depune un strat de Al de 300 mm, dupa care se continua cu Carbon si Argint simultan. Dupa terminarea depunerii se inregistreaza o grosime a stratului depus, de aproximativ 2mC/Ag + 300 nm Ag.

Fig. 5 - Distributia probelor in suport.

In cazul depunerilor C-Cu se foloseste pentru anozi o bara din Carbon si un creuzet ce contine Cu.

Concluzii Metoda TVA reprezinta o procedura buna in vederea obtinerii de filme multistrat cu un bun control al calitatii. Straturile Carbon-metal depuse cu metoda TVA in configuratia cu 2 tunuri electronice au fost investigate prin diferite metode. Rezultatele au relevat faptul ca cel mai mare coeficient de frecare a fost obtinut pentru 15% Ag in filmele C-Ag si pentru 25% Cu in cazurile C-Cu. Alte teste au demonstrat un bun caracter hidrofob al acestor depuneri.

3. Particularitatile plasmei arcului TVA. Particularitatile plasmei arcului TVA sunt urmatoarele: - formarea unei plasme cu un grad de puritate foarte ridicat datorita fapului ca n incinta nu se gasesc dect vaporii materialului din care este confectionat anodul. Datorita densitatii mari a plasmei gradul de ionizare este ridicat (peste 10%); - energia ionilor si a electronilor este mare; plasma vaporilor materialului anodului este stabila; - variatiile curentului de arc si a caderii de tensiune pe arc fiind de ordinul procentelor (1%) caderea catodica ajunge pna la nivelul kilovoltilor; - din datele obtinute prin microscopie electronica filmul depus prin metoda Arcului Termoionic n Vid prezinta un caracter uniform cu aspect caracteristic filmelor policristaline. n cazul filmelor nvestigate la nalta rezolutie s-a constatat structura filmului de tip amorf. Difractia electronilor pe film prezinta de asemenea caracteristicile unui film amorf, pozitia benzilor obtinute fiind apropiate de valorile distantelor interplanare specifice grafitului; - filmele de carbon depuse prin metoda Arcului Termoionic n Vid (TVA) pe diferite substraturi prezinta o puternica variatie a energiei de suprafata. Energia ionilor de carbon variaza n functie de distanta dintre proba si punctul de aprindere a descarcarii. Filmele obtinute prezinta un puternic caracter hidrofobic, ceea ce nseamna ca suprafata nu se uda cu apa, unghiul de contact are o valoare ridicata si implicit valoarea energiei de suprafata este scazuta. Rezulta ca energia de suprafata a straturilor depuse prin aceasta metoda depinde de distanta dintre proba si punctul de aprindere a plasmei. Studiul energiei de suprafata are o importanta majora datorita informatiilor pe care le ofera despre caracterul hidrofob sau hidrofil al suprafetei, caracteristica foarte importanta mai ales n aria aplicatiilor biomedicale; - aceasta tehnica este optima pentru depunerea oricarui material pe diferite substraturi, tocmai datorita posibilitatii de a modifica factorii geometrici si operationali, energia ionilor

putnd fi controlata n timpul depunerii iar plasma de vapori a materialului anodului fiind extrem de stabila, gradul mare de ionizare producndu-se datorita densitatii mari a plasmei.

4. Aplicatii ale tehnologiei arcului TVA ca metoda de depunere a straturilor subtiri. Studiile asupra arcului TVA au vizat in mod special aplicatiile ca metoda de depunere a filmelor subtiri pe un anumit substrat din mai multe motive: Depunerea are loc in vaporii materialului anodului, filmul depus continand chiar ionii acestui material si deci se obtine un strat cu un inalt grad de puritate; Datorita bombardamentului ionic, filmele depuse nu prezinta o structura columnara, au rugozitate redusa, fara granulatie si cu un inalt grad de aderenta; Energia ionilor depusi poate fi controlata in timpul depunerii depinzand de factorii geometrici si operationali; Plasma de vapori a a materialului anodului este extrem de stabila; Gradul mare de ionizare datorita densitatii mari a plasmei, este adecvata pentru depunerea oricarui tip de material, indiferent de punctul de topire al acestuia. Folosind aceasta tehnologie s-au realizat urmatoarele depuneri cu metoda TVA: Depuneri de straturi metalice: cu Ti, Cu, Zn, Ni, Cr, Ag, etc Depuneri de aliaje: Al-Ag2O3, Cu-Ag, Cu-Sn, Ni-Cr, etc Depuneri de oxizi: MgO, TiO Depuneri de carbon tip DLC (Diamond Like Carbon) Depuneri de materiale refractare: W, Re, Be.

Desigur ca in functie de tipul materialului care urmeaza a fi depus, configuratiile electrozilor difera de la o depune la alta.

5. Concluzii. Arcul termoionic n vid prezint interes deosebit att datorit spectrului larg de aplicaii n depunerea de straturi subiri ct mai ales n studiul propietilor plasmei i a proceselor fizice implicate. Datorit numrului mare de parametri direct implicai n controlul calitii filmului depus, aceast tehnic de depunere este considerat la ora actual una dintre cele mai eficiente tehnici pentru obinerea de filme nanostructurale de nalt puritate i duritate, aderenta bun, rugozitate mic i cu grad mare de compactitate. Parametri importani ai plasmei, cum ar fi temperatura electronilor, energia ionilor i gradul de ionizare al plasmei, pot fi uor controlai chiar n timpul procesului de depunere modificnd tensiunea pe arc, curentul de filament sau distana dintre electrozi.

5. Bibliografie.
Tamer Akan, Operation parameters of the Termionic Vacuum Arc Discharge, Turk J Physics, 2003, p.70 Adrian Stoica, Rodica Vldoiu, Geavit Musa, Victor Ciupin, Mirela Contulov, Vilma Burkova, Olga Blhov, Mechanical properties of thin films deposited by TVA and G-TVA methods, Chemicke Listy, 2007, p.132 R. Vldoiu, V. Ciupin, M. Contulov, A. Mande, V. Dinc, G. Prodan, C.P. Lungu, Structure and tribological properties of carbon based nanocomposites grown by TVA me thod, Journal of Optoelectronics and Advanced Materials Vol.12, No.3, March 2010, p.554 C. Surdu-Bob, R. Vldoiu, M. Bdulescu, G. Musa, Control over the / ratio by tuning plasma parameters of the Thermoionic Vacuum Arc, Diamond & Related Materials, Vol.17, 2008, p.1625, 1626 C. Surdu-Bob, M. Bdulescu, C. Iacob, C. Porosnicu, C.P. Lungu, Ion energy distribution analysis of the TVA plasma ignited in carbon vapours using RFA, Journal of Physics: Conference Series, Vol. 207,IOP Publishing, 2010, p.2 A. Marcu, C.M. Tico, C. Grigoriu, I. Jepu, C. Porosnicu, A.M. Lungu, C.P. Lungu, Simultaneous carbon and tungsten thin film deposition using two thermionic vacuum arcs, Thin Solid Films, Vol.519, 2011, p.4074 Olthoff J K, Van Brunt R J, Radovanov S B, Rees J A 1994 Science, Measurement and Technology IEE Proceedings 141/2, 105-10 Richter F 1996 Physikalische Bltter 52 355 (in German) Ivanov et al Surf.ace Coat. Technol. 1997 92 1X-156

Lee J K et al 2005 Plasma Sources Sci. Technol. 14 89 97 Bohm C and Perrin J 1993 Rev. Sci. Instrum. 64/1 Surdu-Bob C C, Mustata I and Iacob C 2007 J. Optoelectron. Adv. Mater. 9/9 29324 Surdu-Bob C C, Vladoiu R, Badulescu M and Musa G 2008 Diamond Relat. Mater. 17/7-10 1625-8 Third InternationalWorkshop&SummerSchoolonPlasmaPhysics2008 IOP Publishing Journal ofPhysics:ConferenceSeries 207 (2010) 012018 doi:10.1088/1742-6596/207/1/012018 K. Sugiyama, M. Mayer, V. Rohde, M. Balden, Th. Drbeck, A. Herrmann, S. Lindig, A. Wiltner, H.W. Mller, R. Nucl. Fusion 50 (2010) 035001. K. Bewilogua, R. Wittorf, H. Thomsen, M. Weber, Thin Solid Films 447 (448) (2004) 142. W.-N. Li, Y.-S. Ding, S.L. Suib, J.F. DiCarlo, F.S. Galasso, Surf. Coat. Technol. 190 (2005) 366. A. Lamperti, P.M. Oss, Appl. Surf. Sci. 205 (2003) 1138 and references therein. T. Yajima, S. Umemura, S. Hirono, A. Imoto, R. Kaneko, Surf. Coat. Technol. 169 (170) (2003) 274. M. Bilek, M. Chhowalla, M. Milne, W.I., Appl. Phys. Lett. 71 (1997) 1777. J. Budai, Z. Tth, A. Juhsz, G. Szakcs, E. Szilgyi, M. Veres, M. Kos, Appl. Phys. 100 (2006) 043501. C.P. Lungu, I. Mustata, G. Musa, A.M. Lungu, V. Zaroschi, K. Iwasaki, R. Tanaka, Y. Matsumura, I. Iwanaga, H. Tanaka, T. Oi, K. Fujita, Surf. Coat. Technol. 200 (2005) 399. C.P. Lungu, I. Mustata, G. Musa, V. Zaroschi, A.M. Lungu, K. Iwasaki, Vacuum 76 (2004) 127. C.P. Lungu, A.M. Lungu, P. Chiru, A. Tudor, R. Brescia, Int. J. Surf. Sci. Eng. 4 (2010) 191. I. Mustata, C.P. Lungu, A.M. Lungu, V. Zaroski, M. Blideran, V. Ciupina, Vacuum 76 (2004) 131. C.P. Lungu, I. Mustata, V. Zaroschi, A.M. Lungu, A. Anghel, P. Chiru, M. Rubel, P. Coad, G.F. Matthews, Phys. Scr. T128 (2007) 157. H.O. Pierson, Handbook of Carbon, Graphite, Diamond and Fullerenes, Noyes Publications, New-Jersey, 1993. J. Emsley, The Elements, 3rd ed.Oxford University Press, 1998. V. Tiron, C. Aniculaesei, G. Popa, J. Autom. Mobile Robot Intell. Syst. 4 (2009) 147.