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Barros CCC Barros Prueba8
Figura 6: Anlisis qumico (FRX) de barros
andicos provenientes de prueba 8 y de
electrorefinacin convencional.
Los barros de la prueba 8, que fue en la que se
obtuvieron las mejores condiciones de trabajo,
presentan el contenido de cobre ms cercano al
valor de referencia, aunque mayor. Mientras que
elementos como plata, selenio y telurio estn
presentes en menores porcentajes. Pero hay que
destacar que esta muestra tiene contenida un
porcentaje de oro muy similar al porcentaje
presente en los barros obtenidos por la
electrorefinacin convencional.
A los barros, adems, se les hizo anlisis por
difraccin de rayos X (DRX). Los resultados se
presentan a continuacin en la tabla II.
Tabla II: Resultados Difraccin de Rayos X para
los barros generados en prueba 8.
Especie
componente
Composicin
Amorfo no identificable
Chalcantita CuSO
4
. 5H
2
O
Cloruro de
plata
AgCl
Paratacamita Cu
2
(OH)
3
Cl
xido de plata Ag
2
O
Selenato de
plata
Ag
2
SeO
4
Selenuro de
cobre arsnico
CuAsSe
xido de hierro Fe
3
O
4
Silicato de
plomo
Pb
3
Si
2
O
7
xido de
plomo arsnico
PbAs
2
O
6
xido de
plomo
antimonio
Pb
6
Sb
2
O
11
Arsenato de
cobre
hidrgeno
CuHAsO
4
Sulfuro de
bismuto
antimonio
Bi
0.96
Sb
1.04
S
3
La alta presencia de cobre en el barro generado por
la prueba 8 se corrobor con la presencia de la
especie chalcantita (CuSO
4
5H
2
O). Investigaciones
previas [8-9] han mostrado que el fenmeno de
pasivacin en el proceso de electrorefinacin de
cobre depende en gran medida de las propiedades
de los barros andicos, ya que estos forman capas
que cubren inicialmente la superficie andica,
dificultando la difusin de cobre al producirse la
disolucin andica. La precipitacin de una capa
de sulfato de cobre (CuSO
4
.
5H
2
O) no conductor
sobre la superficie del material andico, debido a
la sobresaturacin de cobre en el electrolito, se
considera como una razn directa para la
pasivacin. Corroborando esto, se observa que en
la muestra de barro analizada, se encuentra
presente esta especie (chalcantita).
Por otra parte, en el barro de la prueba 8, adems
de un alto contenido de cobre destaca la presencia
de As, Sb y Bi por sobre la referencia (barro
proveniente de electrorefinacin convencional). C.
Vargas [8] determin que en un nodo
convencional se pueden distinguir 3 zonas
caractersticas, destacando la zona central de los
nodos como aquella zona de mayor contenido de
impurezas. Como el scrap andico de cobre con el
cual se trabaj, representa los restos de nodos del
proceso convencional de electrorefinacin (zona
central de los nodos), la presencia de una mayor
cantidad de impurezas en los barros andicos de la
prueba 8 obedece a la situacin antes descrita.
3.4 Ctodos finales
Los ctodos finales provenientes de la prueba 8
fueron analizados qumicamente y los resultados se
presentan en la Tabla III, en la cual adems se
presenta la norma vigente en la divisin Codelco
Norte.
Tabla III: Resultados de anlisis qumico de los
ctodos (ppm) obtenidos en la prueba 8 y Norma
Codelco.
Elemento
Norma
CODELCO
Prueba 8
Ag 12 5
As 2 0,8
Bi 1 1,8
C 50 28
Cd 0 <0,1
Fe 5 1
Ni 0 <0,2
Pb 3 0,1
S 9 3
Sb 1 2,3
Sn 0 <0,5
Te 1 <0,2
Zn 0 <0,4
Los ctodos obtenidos de la prueba 8 presentan
mayores cantidades que las permitidas en
elementos como Bi y el Sb, adems de Cd, Ni, Sn
y Zn, que no estn permitidos.
En cuanto a la calidad fsica, en la Figura 7 se
observa una imagen de los ctodos resultantes,
aqu se puede apreciar la calidad superficial de los
ctodos obtenidos, que en general fue buena.
Figura 7: Ctodos finales obtenidos desde la
prueba 8.
En definitiva, bajo ninguna de las condiciones de
trabajo experimentadas se logr obtener ctodos
con un grado de pureza de calidad comercial, por
lo que sera recomendable que una vez
establecidos los parmetros ptimos de trabajo
para la electrorefinacin del scrap, se estudiaran
los factores que estn influyendo en la calidad
qumica de los ctodos, como por ejemplo, la
dosificacin de aditivos.
4. CONCLUSIONES
Para mantener un bajo potencial de celda en las
pruebas de electrorefinacin de cobre andico, es
necesario contar con zonas de cobre limpias para
un mejor contacto. Dado su menor tamao, el
scrap de 2x2 cm permite cargar mayor cantidad de
trozos en el soporte andico, presentando para una
misma masa mayor rea superficial expuesta.
Al trabajar a una densidad de corriente entre 250 y
270 A/m
2
, combinada con activacin superficial
del material andico, se mantiene un voltaje de
celda adecuado, operando en rgimen continuo, y
no se forma la capa de producto sobre la superficie
del scrap de cobre andico.
Considerando en conjunto los parmetros de
recuperacin, eficiencia de corriente y voltaje de
celda, se puede decir que las mejores condiciones
de trabajo fueron las de la prueba 8: 97% de
recuperacin con 91% de eficiencia de corriente,
manteniendo un voltaje de celda estable durante
toda la experiencia. Esto demuestra que es posible
electrorefinar el scrap de cobre andico en forma
continua, manteniendo un estricto control de los
parmetros de operacin del proceso.
En las mejores condiciones de trabajo, no se logr
electrorefinar el 100% del material andico
alimentado y no se obtuvieron ctodos que
cumplieran con la calidad requerida.
RECOMENDACIONES
Es necesario realizar ms pruebas a nivel de
laboratorio para poder aumentar el porcentaje de
scrap tratado y no seguir generando residuos.
Realizar pruebas bajo las mejores condiciones de
trabajo obtenidas en este estudio (baja densidad de
corriente, recarga constante con material fresco y
activacin superficial) pero estudiando el tipo y
dosificacin de aditivos que regulen y mejoren la
calidad catdica.
Investigar, terica y experimentalmente, sobre la
efectividad de otros materiales para la fabricacin
de los soportes andicos.
REFERENCIAS
1. A. K. Biswas y W. G. Davenport, Extractive
Metallurgy of Copper, 3
a
ed. Pergamon Press,
Oxford, 1994, pag. 66.
2. G. Cifuentes, Electrometalurgia, 1
a
ed. Central
de Publicaciones USACH, Santiago, 1995.
3. R. Gana, M. Figueroa y A. Parodi, Proc.
Mining Latin America, I.M.M. ed., 1986, pg. 131.
4. R. Gana y M. Figueroa, Hydrometallurgy, 47
(1998) 149-188.
5. M. Figueroa, R. Gana, L. Kattan y A. Parodi, J.
Appl. Electrochem., 24 (1994) 206-210.
6. R. Gana, M. Figueroa, L. Kattan, J . Sanchez y
M. Esteso, J . Appl. Electrochem., 25 (1995)
240-246.
7. R. Gana, M. Figueroa, L. Kattan, J . Sanchez y
M. Esteso, J . Appl. Electrochem., 25 (1995)
1052-1056.
8. R. Morales, Trabajo de ttulo, Universidad de
Santiago de Chile, Santiago-Chile, 2001.
9. C. Vargas, Tesis Doctoral, Universidad de
Santiago de Chile, Santiago-Chile, 2002.
AGRADECIMIENTOS
Los autores expresan su agradecimiento a la
Divisin Codelco Norte de CODELCO-CHILE y a
la Universidad de Santiago de Chile por el
patrocinio y colaboracin para el desarrollo de este
estudio.