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los procesos de difusin tambin bajo estas condiciones realmente implicar la difusin de
defectos individuales. En el caso de agrupaciones de los desperfectos que,
alternativamente, se ha propuesto que los grupos ms pequeos pueden mover como una
unidad. Un mecanismo de traslacin que se ha propuesto para un 4: 1 del clster en
wustita se ilustra en la Fig.5.10. Los procesos de salto en el movimiento de un 4: 1
complejo es bastante complejo, y el mecanismo requiere dos saltos diferentes,
secuenciales. Atom 1 salta para cubrir una vacante en el defecto complejo y por lo tanto
crea una oferta de empleo. En el proceso el ion intersticial en el clster se desplaza a la
vacante vecina. El movimiento de la agrupacin se completa cuando tomo de 2 se
desplaza de un sitio normal al sitio intersticial de la nueva ubicacin de la agrupacin.
d, = 1 s 2 = r i s
(5.19)
Pero es necesario para caracterizar adicionalmente D en diferentes estructuras
cristalinas (celosas o sub-retculas) y, posteriormente, para derivar expresiones para la
dependencia de la presin de oxgeno de la temperatura y la difusin en xidos metlicos.
Difusin de vacantes.
Vamos a considerar la difusin de vacantes en un elemental slido o un catin o un
sub-celosa de aniones. El nmero de saltos por unidad de tiempo, r, depende de varios
factores. En primer lugar, depende de la frecuencia de salto co hacia un sitio adyacente.
Adems, tambin es proporcional al nmero de sitios a los que el tomo puede saltar, es
decir, el nmero de posiciones de vecinos ms cercanos del tomo, Z. Finalmente, el
tomo slo puede saltar si una vacante se encuentra en un sitio adyacente, y esta
probabilidad viene dada por la fraccin (concentracin) de vacantes en el cristal, N d. Por
lo tanto, r es en este caso dado por r = (UZN, (5.33)
En slidos cristalinos la distancia de salto es una funcin de la estructura cristalina
y se puede expresar como una funcin del parmetro de celosa.
En un cristal bcc de un slido elemental, por ejemplo, cada tomo tiene 8 posiciones
vecino ms cercano o tomos, y por lo tanto en este caso, Z = 8. A partir de
consideraciones geomtricas simples de la estructura cristalina ms lejos se puede mostrar
que la
V3
saltar distancia est dada por s = a 0 -, donde una o es el parmetro de red. Al insertar estos
valores de Z y s en la ecuacin. 5.33 se obtiene
D r = a ) N d (5,34)
En general, D r para una estructura cbica est escrito
D r = o aa l (N i o (5.35)
donde A es un factor geomtrico que implica el factor de 1/6 (de Eq.5.21, el factor Z de
Eq.5.33 y la relacin entre la distancia de salto y el parmetro de red. Para la difusin de
vacantes en una red o bcc es por lo tanto igual a la unidad, De las mismas consideraciones
= e x p
RT R RT
d
( )
= exp
(ASD
-) exp
(AHD)
u) = v expRT
= V expR
exp
RT
(5.41)
donde m AG, AS m, y AH m representar la energa libre, la entropa y la entalpa de
cambio, respectivamente, conectado con el movimiento del tomo de la posicin de
equilibrio a la parte superior de la barrera y v potencial ("nu") representa la vibracin
frecuencia. v menudo se supone para igualar la frecuencia de Debye, es decir,
aproximadamente
13
1 / CT
Figura 5-13. El coeficiente de difusin para la difusin de oxgeno por el
mecanismo de vacante en un xido deficiente en oxgeno en el que las vacantes de
oxgeno son los defectos puntuales nativos predominantes. A altas temperaturas el xido
exhibe un comportamiento intrnseco y a temperaturas reducidas comportamiento
extrnseca (es decir, la concentracin de vacantes de oxgeno se determina por la
concentracin de cationes de valencia ms bajos).
La difusin de soluto intersticial.
De Eq.5.36 se ve que Nd no entra en la expresin para el coeficiente de difusin
para la difusin intersticial en soluciones diluidas, por lo tanto, en este caso la energa de
activacin, Q, representa la de la movilidad de los tomos intersticiales de difusin: AH m
= P.
Para la difusin intersticial entre los sitios octadricos en metales bcc hacer es por
la combinacin de las ecuaciones. 5,37 y 5,41 dada por
AS
D 0 = \ a ^ uexp-R ^ (5.51)
Suponiendo que u ~ 10 13 s -1 y una o = 1,510 -8 cm, y ya que es probable que AS
puede estimar un lmite inferior de D o de
N o> 510 -4 cm 2 s -1 (5,52)
m>
0, se
Eq. 5.55 todava lleva a cabo para la difusin intersticial de una solucin diluida de
un soluto disuelto intersticial, tales como elementos de luz (H, C, etc. en metales o
protones en xidos), pero en este caso el nmero de tomos o iones de soluto y el nmero
de defectos es por supuesto el mismo, de modo que en estos casos el coeficiente de
difusin para el soluto y de los defectos (intersticial) es el mismo.
Ejercicios
1. Random difusin (auto)
a) El coeficiente de auto-difusin de un metal con estructura cbica puede ser
expresado como
D = in s t2
6
donde n / t representa el salto de frecuencia (es decir, nmero de saltos n durante un
tiempo t). Cerca del punto de la mayora de metales fcc y bcc han d fusin ~ 10 -8 cm 2 / s.
yo) Si la distancia de salto es de 3 A, cul es la frecuencia de salto cerca de la fusin
apuntar?
ii)
frecuencia?
Cul
es
la
relacin
entre
esta
frecuencia
la
vibracin