ESTUDO DO CONDICIONAMENTO CIDO

DO ESMALTE HUMANO. AVALIAO PELO

MICROSC~PIOELETRONICO DE VARREDURA

Flvia Magnani BEVILACQUA*

Sizenando de Toledo PORTO NETO**

RESUMO: Anteriormente ao desenvolvimento de tcnicas e materiais adesivos, o preparo cavitrio frewentemente envolvia a remoo de quantidades
significantes de estrutura dental sadia para reter as restauraes mecanicamente. A introduo da tcnica de condicionamento cido do esmalte por
~ u o n o c o r epossibilitou
~
a adeso de materiais a base de resina acrlica ao
esmalte, sendo um grande marco na Odontologia Restauradora Adesiva. Com
a evoluo dos materiais e tcnicas restauradoras, foram surgindo vrias solues cidas em diferentes concentraes para o condicionamento da superfcie do esmalte dental. Assim, o objetivo deste estudo foi avaliar, com uso da
Microscopia Eletrnica de Varredura, o condicionamento cido do esmalte
dental humano no tero mdio da face vestibular por diferentes solues e
tempo de aplicao de 30 e 60 segundos.
PALAVRAS-CHAVE:Ataque cido dentrio, esmalte dentrio.

Introduo
Conforme nos informa G ~ i n n e t to, esmalte
~
o mais resistente dos
tecidos mineralizados do corpo humano. Anatmica e fisiologicamente,
* Ps-graduandado Departamento de Odontologia Restauradora - Faculdade de Odontologia UNESP - 14801-903- Araraquara - SP.
** Departamento de Odontologia Restauradora - Faculdade de Odontologia - UNESP - 14801-903
- Araraquara - SP.

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com 95% (por volume) de substncia inorgnica, este tecido frgil sobrevive graas a suas caractersticas biofsicas exclusivas, juntamente com
a dentina, mais resiliente. O componente morfolgico bsico do esmalte
o prisma mineralizado, variando em tamanho de 4 a 7 micrometros,
tendo origem na regio mais prxima da juno amelo-dentinna,
seguindo um curso tortuoso nos dois teros internos do tecido antes de
chegar ao seu alinhamento paralelo no tero externo do esmalte.
Anteriormente ao desenvolvimento de tcnicas e materiais restauradores adesivos, o preparo cavitrio frequentemente envolvia a remoo de quantidades significantes de estrutura dental sadia para reter as
restauraes mecanicamente. A introduo da tcnica de condicionamento cido por Buonocore3 possibilitou a adeso de materiais a base
de resina acrlica ao esmalte, sendo um grande marco na Odontologia
Restauradora Adesiva. interessante notar que Buonocore3considerou
o mtodo limitado, sugerindo que este tipo de procedimento poderia ser
empregado para selamento de fssulas e fissuras com resina acrlica,
como preveno de crie dental. Atualrnente, o mtodo nos possibilita
realizar vrios procedimentos dentro da Odontologia, pois propicia um
aumento em rea de superfcie disponvel para adeso. Segundo RetiefI8
a superfcie do esmalte condicionado propicia aumento em rea de superfcie disponvel para adeso; as microporosidades no esmalte resultam em um padro de condicionamento ideal pelo umedecirnento da
superfcie de esmalte condicionado, o que facilita a penetrao do adesivo nas microporosidades, ligando mecanicamente a resina polimerizada ao esmalte.
Quanto as caractersticas do esmalte condicionado, Silverstone et
relataram que os padres de condicionamento cido do esmalte
variam de acordo com a soluo e concentrao do cido empregado e
so os seguintes: padro I - quando h remoo do centro dos prismas;
padro 11 - quando h remoo da periferia dos prismas; padro IiI quando ocorre uma destruio generalizada e a superfcie do esmalte
no apresenta morfologia definida. Vrios autores, ento, estudam o efeito de diferentes solues sobre o esmalte dental, como FavaI4que observou o condicionamento com cido fosfrico a 37%na estrutura do esmalte
vestibular e lingual de 25 terceiros molares inclusos, verificando a presena de maior nmero de figuras do condicionamento cido tipo I.
Outros
tambm avaliaram as caractersticas do esmalte
condicionado por diferentes cidos em diferentes tempos de aplicao.
Assim, nos propusemos a avaliar, pelo uso da Microscopia Eletrnica de Varredura, o condicionamento cido do esmalte dental humano
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no tero mdio da face vestibular por diferentes solues e tempo de

aplicao de 30 e 60 segundos.

Material e mtodo
Para realizao deste estudo foram selecionados 24 terceiros
molares humanos permanentes inclusos, isto , com as camadas aprismticas e prismticas integrasS4Os dentes foram extrados por indicao clnica e, imediatamente aps, foram lavados em gua destilada e
armazenados em lcool a 70%,para no se produzir efeitos adversos
.~
ento, um exame criteriosobre a estrutura do e ~ m a l t eExecutamos,
so da superfcie dos dentes selecionados com a finalidade de detectarmos possveis trincas no esmalte ou defeitos anatmicos que
propiciariam falsos resultados. As coroas foram separadas das raizes
dos dentes 2 mm abaixo do limite cemento-esmalte com discos de diamante montados em mandril para contra-ngulo, sempre refrigerando-se com gua o disco e o dente. Em seguida, a face lingual foi
seccionada com o intuito de obter uma base plana para posterior fixao no suporte do microscpio.
Foi feita uma limpeza em toda a coroa, incluindo as faces proximais,
vestibular e Iingual, com pasta de pedra-pomes e gua, com auxlio de
escovas de robinson montadas em contra-ngulo. A seguir, os dentes
foram secos para posterior aplicao das solues cidas especificadas
no Quadro 1.

Quadro 1 - Siglaltratamento, marca comercial, concentrao/tipo de

soluo cida e distribuidor
SiglaITratamento

Marca

ConcentraoITipo

C1

ScotchBond 11

cido fosfrico 35%

3M

C2

ScotchBond
MP

cido maleico 10%

3M

C3

Multi Bond
Alpha

cido fosfrico 10%

DFL

C4

Multi Bond
Alpha

cido fluoridrico 8%

DFL

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Distribuidor

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Os 24 dentes foram divididos em 4 grupos de 6 dentes cada. Para

cada grupo ou condio experimental (Cl, C2, C3, C4) as solues cidas foram aplicadas em dois nveis, aos 30 e 60 segundos sobre a superfcie vestibular. Aps este procedimento os dentes foram lavados com
gua recm-destilada e corrente por outros 60 segundos e colocados em
estufa a vcuo a 35 2 1C por 12 horas.
Cada amostra foi furada ao suporte do Microscpio Eletrnico de
Varredura e levada ao metalizador, onde recebeu cobertura com
ouro-paldio por evaporao. Obtivemos, ento, as fotomicrografias das
superfcies visuahzadas para posterior anlise das diferentes solues
cidas e diferentes tempos de aplicao (Quadro 2).
Quadro 2

Padres de condicionamento cido do esmalte

TIPO I
TIPO I1
TIPO ItI

remoo da periferia dos prismas de esmalte, com o centro intacto

remoo do centro dos prismas de esmalte, com as bordas intactas

destruio generalizada dos prismas de esmalte, sem morfologia definida

Resultado
O condicionamento cido da superfcie do esmalte foi realizado
com cido fosfrico a 35% durante 30 e 60 segundos (Cl), com cido
malico a 10%durante 30 e 60 segundos (C2),com cido fosfrico a 10%
durante 30 e 60 segundos (C3)e com cido fluordrico a 8% durante 30 e
60 segundos (C4).Como resultado, temos diferentes aspectos morfolgicos que podem ser visuahzados nas fotomicrografias obtidas pelo
Microscpio Eletrnico de Varredura com aumento de 2.000 vezes, as
quais esto relacionadas nas Figuras de 1 a 8.

Discusso
As alteraes na morfologia da superfcie do esmalte condicionado
com cido fosfrico podem prontamente ser estudadas pela tcnica de
microscopia eletrnica de varredura, uma vez que a superfcie do esmalte no condicionado apresenta-se com morfologia sem caracterstica.
Os resultados deste estudo revelam que, pela observao das Figuras 1 e 2, o padro de condicionamento cido do esmalte (Cl) encon322

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trado tanto no tempo de 30 como de 60 segundos o padro tipo I, em

que temos a remoo do centro dos prismas de esmalte e as bordas dos
prismas esto praticamente intactas. Este achado encontra respaldo no
trabalho de Fava et al.,5que estudaram pela microscopia eletrnica de
varredura o condicionamento com cido fosfrico a 37% na estrutura do
esmalte vestibular e lingual de terceiros molares inclusos, verificando a
presena de maior nmero de figuras apresentando o padro tipo I.
Barkmeier et al.l relatam que a morfologia da superfcie do esmalte
seguida de condicionamento com cido fosfrico a 37%por 15 segundos
e 60 segundos foi essencialmente a mesma e nenhuma diferena no
padro ou caracterstica do esmalte condicionado foi observada. Caractersticas retentivas da superfcie condicionada foram determinadas por
comparao de resistncia a trao em superfcie lisa do esmalte de
pr-molares. Nenhuma diferena foi encontrada na remoo da resina
do esmalte condicionado por 15 ou 60 segundos.
A superfcie do esmalte condicionado desta forma, segundo ~ e t i e f , ~
aumenta em rea disponvel para adeso, microporosidades no esmalte
resultando em um padro de condicionamento ideal, umedecimento da
superfcie do esmalte condicionado que facilita a penetrao do adesivo
nas microporosidades; os "tags" de resina se estendem no esmalte condicionado, ligando mecanicamente a resina poherizada ao esmalte.
Passando a observar as Figuras 3 e 4, o padro de condicionamento
cido do esmalte (C2) encontrado para o tempo de 30 segundos (Figura
3) o padro tipo 11, em que temos uma remoo da periferia dos prismas de esmalte, permanecendo o centro praticamente intacto. Nossos
resultados so semelhantes aos de Swift Jr. & Cioelo que, realizando
estudo com a finalidade de observar a resistncia a trao do esmalte
condicionado com cido fosfrico a 35% por 15 segundos, do cido
malico a 10%por 15 segundos, do cido oxlico a 1,6%por 30 segundos
e do cido fosfrico a 10%por 15 segundos, obtiveram valores de ordem
de 24,5 Mpa para o cido fosfrico a 35%, de 13,2 Mpa para o cido
malico e cido fosfrico a 10%e de 6,3 Mpa para o cido oxlico. Os
autores sugerem que estudos so necessrios para determinar o tempo
de condicionamento do esmalte com esses agentes.
Trio10 et al.ll tambm a m a m que a resistncia a trao das amostras com cido malico a 10%por 15 segundos estatisticamente menor
do que os valores obtidos com cido fosfrico a 35%.
Em nosso estudo, o padro tipo I foi encontrado tambm para o tempo
de 60 segundos (Figura 4), quando utizamos o cido malico a 10%.
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Considerando as Figuras 5 e 6, o padro de condicionamento cido

do esmalte (C3)encontrado tanto no tempo de 30 como no de 60 segundos o padro tipo 11, tendo melhor definio na Figura 6. Conforme os
resultados deste estudo, fica evidente que nossas observaes so contrrias as de Ianzano & GwinnettI7 que avaliaram o desempenho do
cido fosfrico a 10%por 20 segundos em leses de eroso e abraso,
relatando bom comportamento das restauraes quanto a reteno,
manchamento, integridade marginal, crie secundria de sensibilidade
aps um ano de avaliao.
Neste grupo C3, porm, nossos resultados so semelhantes aos trabalhos de Swift Jr. & Cloe l0 e Trio10 et al.ll
Avaliando as Figuras 7 e 8, o padro de condicionamento cido do
esmalte (C4) encontrado tanto no tempo de 30 como no de 60 segundos
o padro tipo iII, em que ocorre uma destruio generalizada e a
superfcie de esmalte no apresenta morfologia definida, conforme nos
informa Silverstone et al.9Portanto, a soluo aqui empregada, o cido
fluordrico a 8%,no uma soluo que deva ser utilizada na clnica chria para a confeco das restauraes a base de resina composta.

FIGURA 1 - Aspecto morfolgico da superfcie do esmalte condicionado com cido

Tipo I.
fosfbrico a 35%,durante 30 segundos (2.000~).

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FIGURA 2

- Aspecto morfolgico da superfcie do esmalte condicionado com cido fosfrico a 35%, durante 60 segundos (2.000~).
Tipo I.

FIGURA 3 - Aspecto morfolgico da superfcie do esmalte condicionado com cido

Tipo II.
malico a 10%,durante 30 segundos (2.000~).

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FIGURA 4

- Aspecto morfolgco da superfcie do esmalte condicionado com cido

Tipo 11.
malico a 10%,durante 60 segundos (2.000~).

FIGURA 5 - Aspecto morfolgco da superfcie do esmalte condicionado com cido fosfrico a 10%,durante 30 segundos (2.000~).
Tipo 11.

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FIGURA 6

- Aspecto morfolgico da superfcie do esmalte condicionado com cido fosfrico a 10%, durante 60 segundos (2.000~).
Tipo 11.

FIGURA 7

- Aspecto morfolgico da superfcie do esmalte condicionado com cido fluondrico a 8%,durante 30 segundos (2.000~).
Tipo 111.

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FIGURA 8 - Aspecto morfolgico da superfcie do esmalte condicionado com cido fluondrico a 8%,durante 60 segundos (2.000~).Tipo Iii.

Concluso
Com os resultados obtidos, podemos concluir que:
o cido fosfrico a 35% nos tempos de 30 e 60 segundos promove
padro de condicionamento tipo I no esmalte;
o cido malico a 10%no tempo de 60 segundos promove padro de
condicionamento tipo I no esmalte e, no tempo de 30 segundos,
padro tipo 11;
o cido fosfrico a 10% nos tempos de 30 e 60 segundos promove
padro de condicionamento tipo 11 no esmalte;
o cido fluondrico a 8% nos tempos de 30 e 60 segundos no deve ser
utilizado como soluo condicionadora do esmalte dental.

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BEVILACQUA, F. M., PORTO NETO, S. de T. Human enamel acid etching

study. Evaluation with scanning electron rnicroscopy. Rev. Odontol.

UNESP (So Paulo), v.27, n. 1, p.319-330, 1998.
ABSmCT: Before the development of techniques and bonding matenals, the
cavity prepara tion frequently envolved significant amounts of higid dental
structure to me~ha~cally
retain the restoration. m e introduction of the enamel acid etching techniqueb y Buonocore in 1955, made possble the adhesion
of matenals based in acrilic resin to the enamel, and it was an extremely
important phase for the Adhesive Restorative Denmtry. As the materials and
techniques evoluted, many acid solutions appeared with dfferentconcentrations for acid etching on the dental enamel. So, the aim of this study was to
evaluate, using the scanning electron mcroscopy, the human dental enamel
etching in the middle third of the buccal face of the tooth, using drfferentsolutions and time of apllication.
i KEYVVORDS: Dental acid etching, dental enamel.
i

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