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DE COBRE
ELECTROWINNING (EW)
El Tesoro
Manto Verde
Lingada
Ctodos
EO de Cobre
ELECTRO OBTENCIN DE Cu
Nave de Electroltica
Celda Electroltica
Celda
Electrlito
Anodo (+)
Ctodo (-)
Solucin
H2O
H2SO4
CuSO4
aditivos
Impurezas
Electrlito
Celda
Anodo
Ctodo
Reacciones Principales
Anodo, oxidacin:
ER: Cu ----> Cu2++2e
EO: H2O ----> 2H+ + 0.5O2 + 2e
E0 = -0.34V
E0 = -1.23V
CuO22-
Cu2+
(Volt)
O2
H2O
CuO
Cu2O
H2O
H2
Cu
-1
14
pH
nodo
Ctodo
+2
O2
H 2O
Layout en Electro-Obtencin
10
11
20 - 60
100 - 160
13 - 30
100 - 200
150 - 300
75 - 95
2.1 - 2.2
2 - 2.4
12
Calidad Catdica
13
Calidad Catdica
Pureza
Composicin del electrolito
Aspecto
Distribucin de corriente, flujo de electrolito,
aditivos, temperatura
Concentracin
ms abundante
160-200 g/L
40-50 g/L
0.1-2 g/L
0.1-4 g/L
0.05-0.2 g/L
0.001-0.03 g/L
trazas
trazas
14
Composicin
del Ctodo
El Ctodo
proviene de la
EO de
soluciones ricas
procedentes de
SX o de la ER
del cobre blister
Cu (%)
Ni (g/t)
Pb (g/t)
S (g/t)
Te (g/t)
Se (g/t)
As (g/t)
Sb (g/t)
Bi (g/t)
Ag (g/t)
Au (g/t)
O2 (g/t)
99.970-99.998
0.1-4.0
0.1-10
3-6
0.06-10
0.1-10
0.1-10
0.05-15
0.02-5
0.4-25
0.1-0.8
50-200
15
Calidad
Grado "A"
Elem.
Se
Te
Bi
As
Sb
Pb
S
Fe
Sn
Ag
Unidad
ppm
ppm
ppm
ppm
ppm
ppm
ppm
ppm
ppm
ppm
Calidad
Rechazados
Calidad
Standard
Concentracion Maxima
Concentracion Maxima
Concentracion Maxima
1.0
1.0
1.0
2
1
3
9
5
2.0
2.0
2.0
5
4
5
15
10
12
25
10
2
3
15
15
25
30
25
10
25
16
EFECTOS QUIMICOS
IONIZACION
SOLUBILIDAD
17
800
700
600
500
400
300
200
100
0
0
50
Conductividad a 25C,
(mS/cm)
Viscosidad a 25C,
(mPa s)
1.8
1.7
1.6
1.5
1.4
1.3
1.2
1.1
1.0
CuO22-
Cu2+
(Volt)
1
O2
H2O
CuO
Cu2O
H2O
H2
Cu
-1
14
pH
18
Potencial Redox
El potencial redox (Eh) corresponde a una medida del
estado de oxidacin o reduccin de la mezcla de
electrlitos disueltos en la solucin (equivale a un
potencial mixto solucin-electrodo).
Se mide con un electrodo de platino que incorpora una
solucin de referencia (Ag/AgCl).
E = 0.2 V
Electrodo de pH
H+
Li+
H+
Li+
Buffered
Internal
Solution
Buffered
KCI Solution
Li+
External
Aqueous
Solution
Ag/AgCI
Internal Wire
.03 to .1 mm
Stem Glass
.001 mm
pH
Sensitive
Glass
19
Equilibrios en EW de Cu
Tensin de celda en EO de Cu
Vcell, EO = Ee + a + |c| + IR
R = (1/) (dac/A)
Ee = diferencia entre potenciales de equilibrio and. y catd., V
= sobrepotencial, V
I = intensidad de corriente, A
R = resistencia elctrica,
= conductividad, -1 m-1
dac = distancia nodo-ctodo, m
A = rea superficial del ctodo, m2
20
= F2
zi2 i Ci
(S/cm) (1/cm/)
i =
(S cm2/equivalente)
Movilidad Inica
Difusividad Inica
Di
RT
Di
= RT i
(cm2/s)
Re
d
*
A
21
Propiedades Fsico-Qumicas
Conductividad Elctrica
Densidad
Viscosidad
Conductancias Equivalentes y Coeficientes de
Difusin a 25C y Dilucin Infinita
H+
Cu2+
OHSO42-
i
(Scm2/equiv.)
349.8
54.0
197.6
80.0
Di
(cm2/s)
9.312
0.720
5.260
1.065
22
Cmo se Determinan , y ?
Mediciones
Estimaciones (Price & Davenport 1980; 1981):
CH +
CCu 2+
(cp )
10
T + 273.15
23
Eficiencia de corriente: =
i
ij: densidad de corriente utilizada
en la deposicin del cobre.
i: densidad de corriente total aplicada.
Energa Elctrica total, E:
E
c e ld a
nV
c e ld a
i
0 .0 3 6 j
i
kW h
m ol
24