BM4000

Techniques du vide
Introduction
par
Jean LECLERC
Ingnieur de lcole suprieure de chimie industrielle de Lyon
Docteur 3e cycle Chimie minrale et structurale
Consultant
1.
1.1
1.2
1.3
1.4
1.5
1.6
1.7
1.8
1.9
Terminologie du vide ..............................................................................

Limites des domaines du vide....................................................................
Vide grossier ................................................................................................
Vide primaire................................................................................................
Vide intermdiaire ou vide moyen.............................................................
Vide secondaire ou vide pouss.................................................................
Ultravide (UHV ultra high vacuum)............................................................
Extrme-vide (XHV extreme high vacuum)...............................................
Vide absolu et vide parfait ..........................................................................
Vide propre...................................................................................................
2.
2.1
2.2
2.3
2.4
2.5
2.6
2.7
Charges de gaz .........................................................................................

Gaz de latmosphre ambiante ..................................................................
Vaporisation .................................................................................................
Dsorption. Dgazage .................................................................................
Permation...................................................................................................
Transporisation ............................................................................................
Rtrodiffusion. Rtromigration ..................................................................
Fuites ............................................................................................................
2.71 Fuites relles ........................................................................................
2.72 Fuites virtuelles ou fuites internes .....................................................
5
5
5
6
6
6
6
7
7
7
3.
3.1
3.2
3.3
Pompage. Niveau de pression..............................................................

Gnralits ...................................................................................................
Enceinte sous vide moyen ..........................................................................
Enceinte sous vide pouss .........................................................................
7
7
8
8
4.
4.1
4.2
4.3
Scurit ......................................................................................................
Scurit mcanique.....................................................................................
Scurits lies la physicochimie de certaines oprations sous vide ...
Environnement ............................................................................................
8
8
9
9
Pour en savoir plus...........................................................................................
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Doc. BM 4 000
e vide est le terme couramment utilis pour dsigner ltat dun gaz rarfi ou
lambiance correspondant un tat dont la pression est infrieure celle de
latmosphre. Cest un domaine trs vaste. Si la mtallurgie sous vide, limprgnation, le desschement, le schage assist ou non par le rayonnement infrarouge et
les micro-ondes, etc., peuvent se contenter dun vide grossier ou moyen, les revtements sous vide, llaboration des semi-conducteurs demandent un vide pouss.
Par ailleurs, les recherches sur les phnomnes de surface et de catalyse, les recherches en physique nuclaire et en physique des particules ncessitent du vide propre, de lultravide et mme de lextrme-vide.
Ds 1964, dans quelques laboratoires, certains ont obtenu des pressions de
10 -12 Pa. Bien que ce niveau soit trs bas, ce nest pas encore le vide parfait.
Toute reproduction sans autorisation du Centre franais dexploitation du droit de copie est strictement interdite.
Techniques de lIngnieur, trait Gnie mcanique
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TECHNIQUES DU VIDE ___________________________________________________________________________________________________________________
Afin dviter la contamination de lespace, on nutilise que trs partiellement le

vide spatial. On utilise seulement lantigravit. Cela est hors de propos dans
les articles de cette rubrique, articles qui ont t crits dans le but de faire
connatre les techniques du vide utilisables sur terre et de guider lingnieur et le
technicien dans leurs applications.
Il est bien vident que couvrir une chelle stendant sur plus de 15 puissances
de 10 ncessite des appareillages diffrents et faisant appel divers domaines
de la physique et de la chimie. Si le matriel actuel est de plus en plus performant, il nen est pas devenu moins exigeant pour autant. Au contraire, la spcificit des applications entrane une multiplication dquipements trs labors.
Le choix du matriel de pompage, des quipements de mesure et de contrle,
des matriaux mis en uvre devient primordial et une bonne connaissance de
la science du vide est indispensable. Si lon veut profiter des progrs raliss,
il faut savoir prendre des prcautions ds la conception de linstallation.
Afin de couvrir tous les domaines de connaissances ncessaires au technicien
du vide, la rubrique a donc t dcompose en diffrents articles. Le lecteur trouvera une partie thorique, une description des matriels et tout ce quil est
ncessaire de respecter dans llaboration des enceintes. Des exemples dapplications ainsi quun formulaire sont galement donns dans les divers traits de
la collection des Techniques de lIngnieur.
Il ne suffit pas davoir de bonnes connaissances techniques et scientifiques
pour russir dans le domaine du vide. Un solide bon sens et une bonne facult
de raisonnement sont ncessaires pour arriver agir avec succs en cas de
pannes vicieuses. Et surtout, trois qualits sont indispensables celui qui veut
faire du bon vide :
la patience : la pression ne descend pas dun facteur 104 et a fortiori dun
facteur 1010 en quelques minutes ;
la propret : un cheveu sous un joint, une rayure, une trace de doigt peuvent compromettre le succs dune exprience ;
la tnacit, voire lobstination : la recherche de fuites inlassablement
recommence est une rude preuve pour les nerfs.
De plus, il faudra lingnieur ou au technicien du vide tre multidisciplinaire : mcanicien, physicien et chimiste, lectricien et lectronicien,
thermicien, mtallurgiste..., car la science et la technique touchent toutes les disciplines.
1. Terminologie du vide
La loi des gaz parfaits donne la pression :
nRT
p = -----------v
1.1 Limites des domaines du vide

De la dpression lextrme-vide, les utilisateurs des techniques
du vide ont chacun leur vocabulaire qui, quelquefois, prte confusion pour les non-initis.
Le vide signifie absence de matire, par extension et communment, absence de gaz ou, du moins, gaz rarfi. Dans un volume
ferm, tanche, le nombre de molcules prsentes un instant
donn doit tre infrieur au nombre de molcules du mme volume
lorsquil est ouvert la pression atmosphrique. Cette dfinition est
insuffisante, car elle ne permet pas de quantifier par une mesure la
grandeur du phnomne. Comme il est difficile de compter les
molcules, on a choisi une grandeur physique proportionnelle ce
nombre de molcules : cest la pression.
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avec
nombre de molcules dans le volume considr,
constante des gaz parfaits,
temprature thermodynamique,
volume.
Le vide est alors le domaine des installations o la pression est

infrieure la pression atmosphrique (1,013.105 Pa, dans les conditions normales).
Nous rappellerons que lunit lgale de pression est le pascal et
que lon emploie encore frquemment le torr et le millibar (cf. article
Units lgales et facteurs de conversion dans ce trait) :
1 Pa = 0,75.10-2 Torr = 10-2 mbar
1 Torr = 133 Pa = 1,33 mbar
1 mbar = 1 hPa = 102 Pa = 0,75 Torr.
__________________________________________________________________________________________________________________
On a pris lhabitude de dlimiter la gamme des pressions infrieures la pression atmosphrique de 105 Pa 10-13 Pa en plusieurs domaines dfinis arbitrairement et dont les limites sont
approximatives :
domaine du vide grossier : de 105 Pa 102 Pa ;
domaine du vide moyen : de 102 Pa 10-1 Pa ;
TECHNIQUES DU VIDE
domaine du vide pouss : de 10-1 Pa 10-5 Pa ;

domaine de lultravide (UHV ultra high vacuum) : de 10-5 Pa
10-8 Pa ;
domaine de lextrme-vide (XHV extreme high vacuum) : infrieur 10-8 Pa.
Pour donner au lecteur une ide de ltendue du domaine, nous
avons port dans la figure 1 les bornes suprieures des pressions
communment admises dans diffrentes applications.
Petit rappel historique
Beaucoup dautres termes sont employs pour parler du vide.
1643
Torricelli et les fontainiers de Florence.
1648
Exprience du Puy de Dme par Pascal.
1859
Thorie cintique des gaz par Maxwell.
1880
Premire lampe incandescence par Edison.
1905
Pompe palette de Gaede.
1916
Pompe diffusion de Langmuir.
1950
Alpert atteint le domaine de lultravide.
1961
Premier vol spatial (Gagarine).
1964
Obtention de quelques 10-12 Pa
1969
Premiers pas de lhomme sur la Lune.
1995
Obtention de gravure industrielle 180 nm.
1.2 Vide grossier

Ce terme normalis nous vient de la traduction du mot anglais
rough . Il choque de nombreux utilisateurs de ce vide et beaucoup le remplacent par vide industriel.
Ce dernier terme, dlicat dutilisation, prte souvent confusion.
Il dsigne, en gnral, le domaine de pression du vide grossier
(105 Pa 102 Pa), mais se caractrise par des dbits-volumes de
pompage trs grands ( partir de plusieurs centaines de mtres
cubes par heure jusqu plusieurs centaines de milliers de mtres
cubes par heure) appliqus de trs grosses installations de production (distillation sous vide, mtallurgie, procds chimiques,
etc.).
en laboratoire.
Procds chimiques
(distillation...)
Physique
des tats de surface
Mtallurgie
sous vide
Acclration de particules
Semi-conducteurs
Lyophilisation
Revtement sous vide
Imprgnation
Brasage
sous vide
Desschement
Soudure par faisceau d'lectrons

1011 1010 109 108 107
1013
1011
Extrme-vide
XHV
106
109
Agroalimentaire
105 104
103 102
101
107
105
103
Ultravide
UHV
Vide pouss
102
10
Vide moyen
103
104
105
p (Pa)
103
p (hPa ou mbar)
Vide grossier
Vide primaire
Figure 1 Domaines de pression pour diffrentes utilisations
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Tableau 1 Correspondance des units

pascal
(Pa)
millibar ou
hectopascal
mbar ou hPa
Torr ou mm Hg
atm
% vide
mm H2O
101 325
1 013,25
760
1,03.104
50 000
500
375
0,494
50,6
5 098
30 000
300
225
0,296
70,4
3 059
10 000
100
75
0,099
90,1
1 019
5 000
50
37,5
0,049
95,1
510
2 000
20
15
0,020
98
204
1 000
10
7,5
0,010
99
102
500
3,75
0,005
99,5
51
100
0,75
0,001
99,9
10
10
0,1
0,075
1.10-4
99,99
0,01
7,5.10-3
1.10-5
99,999
0,1
Certaines industries travaillent sur des installations beaucoup

plus petites (mtallisation sous vide par exemple ou fabrication de
circuits de micro-lectronique, etc.) ; le terme vide industriel ne
sapplique pas alors ces activits.
Ce domaine du vide industriel a dailleurs tendance crotre car
les besoins de lindustrie activent un dveloppement technologique
important de nouveaux matriels.
Nous attirons lattention sur un point trs particulier de dfinition de la mesure du vide.
Il est dusage courant de prendre la pression atmosphrique
normale pour rfrence et gale zro (nulle). On parle alors en
pression ngative et la pression du vide est alors comprise entre
0 et - 1 bar (ou encore - 1 kgf/cm2).
Dans le langage courant du vide industriel, cela peut prter
confusion car, parlant dun vide relatif de 30 cm Hg (soit environ
4.104 Pa), il sagit en fait dune pression absolue de 46 cm Hg
(soit environ 6.104 Pa). Malheureusement, certains constructeurs de manomtres mcaniques graduent ( tort) leurs appareils dans ce systme. Il faut donc bien prciser les units
employes.
Dans le milieu des utilisateurs de vide grossier, les fournisseurs
de matriels de pompage parlent encore en pourcentage de vide
obtenu avec les quipements. Telle pompe fera 99,9 % de vide (voire
99,99 % de vide). Cela correspond, partir de la pression atmosphrique, lextraction de 99,9 % des molcules prsentes dans le
volume (ou 99,99 %) et reprsente une pression absolue de 1 hPa
(ou de 0,1 hPa) (tableau 1). Pour dautres, cest le domaine du vide
primaire ou du prvidage ( 1.3).
1.3 Vide primaire
Lopration de ce pompage porte quelquefois le terme de prvidage (utilis en dtection de fuites).

Dans le domaine du vide primaire, les gaz scoulent dans les
rgimes dits turbulents, visqueux et laminaires.
Ce domaine est important, car il vacue 99,9 % en volume,
voire plus, des gaz dans les procds chimiques. On a alors affaire
des pompes dites de transfert. On entre, dans ce cas, dans diffrentes applications ayant dautres exigences (pompes sches).
1.4 Vide intermdiaire ou vide moyen

Son domaine va de 102 Pa environ 10-2 Pa. Le rgime dcoulement est laminaire et transitoire. Cette zone de pression entre le vide
grossier (ou vide primaire) et le vide pouss (vide secondaire) revt
une grande importance dans les grosses installations (suprieures
un volume de 1 m3 ou possdant une charge dgazante importante).
Le pompage dans cette zone est trs souvent effectu laide
dune pompe type Roots dont le but est de favoriser le fonctionnement de la pompe secondaire, car, dans ce domaine de pression, le
dbit-volume de la pompe primaire dcrot rapidement.
1.5 Vide secondaire ou vide pouss

Le vide secondaire est le vide obtenu par la pompe dite secondaire dans une installation.
Son domaine est classiquement celui des pompes diffusion et
des pompes turbomolculaires, cest--dire celui du vide pouss
(10-1 Pa 10-5 Pa). Ltat du gaz est rarfi et son rgime dcoulement est molculaire : cest le domaine du vide molculaire.
Vide pouss est le terme normalis pour le vide secondaire.
Le vide primaire est le vide obtenu par la premire pompe du systme de pompage. Il sagit, en gnral, de la pompe volumtrique
vacuant les gaz de lenceinte de la pression atmosphrique jusqu
environ 1 Pa.
1.6 Ultravide (UHV ultra high vacuum)
Vide prliminaire et vide prparatoire sont des synonymes de

vide primaire .
Son domaine stend sur un niveau de pression de 10-5 10-8 Pa.

Ce domaine, rserv il y a quelques annes aux scientifiques (acc-
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__________________________________________________________________________________________________________________
lrateurs de particules), entre de plus en plus, dans certaines applications industrielles : fabrication de tubes lectroniques (tubes
rayons X, tubes images...), simulation spatiale et produits pour
satellite, etc. Ce domaine fait appel la science du vide, car tous les
problmes rencontrs deviennent ardus. Cest de la haute technologie, malheureusement trs coteuse.
1.7 Extrme-vide (XHV extreme high

vacuum)
Ce domaine stend sur un niveau de pression infrieur 10-8 Pa.
Les problmes de mesure ou du moins de leur validit commencent
ce stade. Les applications actuelles sont celles des physiciens pour
les tudes fondamentales sur la structure de la matire (acclrateurs).
1.8 Vide absolu et vide parfait

Le vide absolu est dfini thoriquement par un espace compltement dpourvu de matire. Ce terme est utilis ( tort) par certains
mcaniciens pour dsigner un trs bon vide dans le domaine du
vide grossier cest--dire environ 102 Pa, soit un millime de la pression normale. Les effets mcaniques des forces dues la pression
atmosphrique sont alors maximaux (ventouses de prhension par
exemple).
Le vide absolu est thorique car, pour une pression de 10-12 Pa
(dj difficile obtenir en laboratoire), il y a encore 270 000 molcules de gaz dans un volume de 1 litre et il faut se rendre dans les
espaces interstellaires pour obtenir suivant les endroits suite
linfluence du rayonnement solaire entre 0,2 et 10 particules par centimtre cube, soit une pression de 10-16 5.10-15 Pa.
Il semblerait que le vide parfait puisse tre obtenu en tranant un
disque derrire un appareil type navette spatiale 400 km au-dessus
de la Terre. Un volume sans molcules devrait alors stablir dans
un cne situ derrire le disque, la vitesse du disque tant 7 8 fois
plus grande que celle des molcules rgnant cette altitude.
1.9 Vide propre

Aprs avoir quantifi le niveau de vide par une mesure de pression, il a t ncessaire pour certaines applications de qualifier sa
nature, autrement dit de connatre la nature chimique des molcules
de gaz ou de vapeurs prsentes dans lenceinte pompe. Bien quil
nexiste pas de dfinition officielle du vide propre, on admet que les
molcules de gaz ou de vapeurs rsiduelles prsentes dans
lenceinte ne doivent provenir que de celle-ci par dsorption ou
dgazage ( 2.3) et non du systme ayant servi abaisser la pression dans cette enceinte.
Cette notion a pris son origine dans le fait que certaines installations renferment des produits (gaz ou vapeurs) issus des groupes de
pompage et que ces produits sont nfastes au procd ou au besoin
recherch. Il faut associer le terme de vide propre laction envisage et un utilisateur pourra se contenter dun niveau de pression et
dune qualit de vide qui seront rdhibitoires pour un autre (cf., dans
ce trait, article Nature et qualit du vide. Contamination). Cette
notion de qualit de vide rend quasiment obligatoire lutilisation des
analyseurs de pression partielle.
TECHNIQUES DU VIDE
De plus, la qualit de certaines fabrications rend indispensable

labsence de poussire et de particules (semi-conducteurs).
Vide sec est synonyme de vide propre et, dans le langage
courant, on parle de vide propre obtenu avec des pompes
sches.
La notion de vide propre conduit des installations de groupes de
pompage trs spcifiques car le pigeage des gaz et vapeurs indsirables par des baffles et des piges sur des groupes conventionnels
ne donne pas toujours les rsultats escompts. Elle entrane, de
plus, une conception de lenceinte du type ultravide (utilisation de
matriaux essentiellement mtalliques pour les jonctions, les passages, etc.).
Le pompage primaire est assur par des pompes mcaniques
sches ou par des pompes sorption, le pompage secondaire par
des pompes ioniques, cryogniques ou par des pompes turbomolculaires palier magntique (cf. article Pompes vide pouss dans
ce trait).
Le dveloppement des pompes sches est surtout d aux besoins
des chimistes et de lindustrie des semi-conducteurs. En effet, dans
de nombreuses applications, les produits pomps ragissent
chimiquement avec les constituants des pompes (pompes anneau
liquide, pompes joint dhuile), portant atteinte plus ou moins rapidement leur dure de vie. Pour certaines applications (transfert de
gaz pur ou de gaz radioactif), il faut, de plus en plus, des pompes
tanches qui ne contaminent pas les produits transfrs.
2. Charges de gaz
Pour faire le vide, il faut vacuer les gaz prsents dans la
chambre de travail. Pour calculer linstallation, il faut dfinir la
charge de gaz ou le flux pomper (figure 2) qui va sopposer
la descente en pression.
Nous ninsisterons que sur des points qui nous semblent importants. Le lecteur trouvera une analyse plus pousse dans larticle
Production du vide. Rappels thoriques de ce trait.
2.1 Gaz de latmosphre ambiante

Les enceintes destines tre mises sous vide renferment au
dpart des gaz la pression atmosphrique, soit environ 105 Pa. Ces
gaz peuvent tre de lair atmosphrique ou un mlange spcialement introduit pour les besoins du procd. Cette charge de gaz, la
plus facile vacuer est, bien sr, la plus importante en masse.
2.2 Vaporisation
Les systmes sous vide contiennent des gaz mais aussi des
vapeurs. Le terme de vapeur se rfre un gaz rel quand il est en
dessous de sa temprature critique. Quand un matriau est prsent,
quelques-unes de ses molcules prs de la surface ont suffisamment dnergie pour schapper dans lenceinte et devenir un gaz
(Vap, figure 2). Une lvation de temprature favorise le phnomne. Quand le matriau prsent est un liquide, lvaporation se
poursuit et donne une vapeur sche ou une vapeur saturante suivant sa quantit et le volume offert.
BM 4 000 - 5
linverse de la vaporisation, se trouve la condensation. Le

phnomne est utilis par les baffles et les piges froids pour amliorer le vide dans les installations et surtout comme moyen de pompage dans les cryopompes (cf. article Pompes vide dans ce trait).
Fr
Fv
Fv
Fv
Dif
2.3 Dsorption. Dgazage
Des
Tr
qG
Per
La dsorption regroupe, selon les auteurs, diffrents processus :
Procd
Vap
RR
qG
Des
Dif
Fr
Fv
flux gazeux
dsorption
diffusion
fuites relles
fuites virtuelles
Pompage
Per
RR
Tr
Vap
permation
rtrodiffusion-rtromigration
transporisation
vaporisation
la dsorption partir de la surface (Des, figure 2) de particules

gazeuses adsorbes ou absorbes physiquement (dsorption des
molcules de vapeur deau, dsorption de gaz rares par les mtaux
basse temprature par exemple) ;
la dsorption partir de la surface de particules gazeuses
adsorbes ou absorbes chimiquement (dsorption doxygne par
le tungstne par exemple) ;
la diffusion partir de lintrieur du matriau (Dif, figure 2)
sans autre interaction avec la surface (gaz rares dissous dans le
verre par exemple) ;
la diffusion partir de lintrieur du matriau avec interaction
avec la surface (dsorption physique ou chimique, recombinaison
par exemple).
Cette dsorption est fonction de ltat de surface, du couple gaz/
surface et de la temprature. On rsume tous ces phnomnes sous
le nom de dgazage. Ce terme utilis habituellement est impropre
car il ne fait pas la diffrence entre la dsorption (cest--dire ce qui
est sur la surface) et la diffusion (cest--dire ce qui est dans le matriau massif).
Figure 2 Diffrents flux de gaz pomper dans une enceinte
Le dgazage est le problme sur lequel on effectue le plus de

recherches fondamentales et dtudes technologiques. Que faire
pour diminuer ce dgazage qui perturbe le vide dans les enceintes ?
Il faut faire trs attention ces vapeurs car, dans les pompes
mcaniques, la compression les rend nouveau liquides, mme
avec le lest dair ; elles peuvent alors se condenser dans la pompe
entranant une dgradation de celle-ci.
La temprature favorise le processus, mais dautres contraintes

dordre technologique (jonctions dmontables, passages tanches,
processus lui-mme) imposent de rester dans des limites raisonnables (300 400 C au maximum) et, quelquefois, ltuvage est
impossible.
Ces vapeurs peuvent aussi avoir tendance, si lenceinte nest pas

une temprature uniforme, se dposer sur une surface plus
froide (canalisations de rfrigration par exemple) et crer des
phnomnes parasites. Elles produisent ainsi une tension de vapeur
variable et la pression dans lenceinte sen trouve affecte en
oscillant de faon alatoire.
Cas particulier : pompage de leau

temprature ambiante (20 C), la tension de vapeur de leau
est de 2,33.103 Pa. Leau est donc facilement pompe par une
pompe primaire dont la pression limite est de 1 Pa. Mais sil
existe, dans un volume, une petite quantit deau (5 10 cm3),
lvaporation dune partie de celle-ci va transformer le reste en
glace ; la tension de vapeur de la glace est de 4.102 Pa - 5 C et
la vitesse de pompage sur le glaon sera dix fois plus faible.
Sans apport de chaleur, le glaon va se refroidir de plus en plus
et sa tension de vapeur devenir de plus en plus faible. Cest la
raison pour laquelle aprs un traitement de surface humide, il
faut toujours scher soigneusement les pices avant leur mise
sous vide en les tuvant.
Exemple : dans un tube essai en verre de diamtre 12 mm, mettons 6 cm3 deau ; aprs 35 min de pompage, leau est transforme en
glace et il faut poursuivre le pompage pendant plus de 3 h pour sublimer toute la glace temprature ambiante.
BM 4 000 - 6
On agit alors sur les traitements de surface (cf. article Traitements de surface des enceintes sous vide dans ce trait), sur le choix
des matriaux et la propret gnrale de linstallation.
Leau est llment le plus prsent et qui sabsorbe le mieux dans

les installations ; or leau se trouve dans lair ambiant raison de 30
40 g.m-3. Sabsorbant le mieux, elle est aussi la plus difficile
dsorber. Cest la raison pour laquelle il faut casser le vide (remplissage de lenceinte par un gaz) dans une enceinte en faisant entrer un
gaz sec [teneur en vapeur deau infrieure 10 p.p.m. (en volume)],
lidal tant dintroduire un gaz rare (argon qualit U) ou de lazote
(qualit R ou U).
2.4 Permation
Les gaz ont la possibilit de passer travers les solides mme si
les ouvertures prsentes ne sont pas assez grandes pour permettre
un flux rgulier. Le passage dun gaz travers une barrire solide
nayant aucun trou est appel permation (Per, figure 2). Le flux de
gaz unitaire sappelle coefficient de permabilit ou simplement
permabilit. Le mcanisme de ce phnomne est complexe et diffre suivant les gaz et les matriaux.
La permation est importante, car elle dtermine souvent la pression limite que lon peut obtenir dans une installation. Les matriaux
plastiques type lastomre doivent alors laisser la place aux matriaux mtalliques. Dans lultravide, la permabilit de lhydrogne
provenant de latmosphre et de la vapeur deau atmosphrique se
__________________________________________________________________________________________________________________
transformant en hydrogne limite les pressions les plus basses

obtenues.
2.5 Transporisation
Le phnomne de transporisation est diffrent de celui de la permation ( 2.4). Dans ce cas, il sagit de lcoulement dun gaz dans
des canaux capillaires. Ces canaux peuvent tre dus des dfauts
dhomognit dans le mtal ou crs volontairement pour des
applications spcifiques (barrire de diffusion gazeuse de lusine de
sparation isotopique de luranium).
Les alliages daluminium fondus prsentent couramment ce type
de dfaut. Il faut faire trs attention lors de la recette de ces pices
de fonderie. On parle alors de taux de fuite surfacique car on narrive
dceler les dfauts quen testant une surface de plusieurs dcimtres carrs. Cette mesure se fait par test global sous vide et par
accumulation. Il faut prendre soin de ne pas avoir de joints en lastomre dans la portion tester car si le test dure plus dune dizaine
de minutes, la permation du gaz traceur travers les joints perturbera la mesure.
2.6 Rtrodiffusion. Rtromigration

La rtrodiffusion (RR, figure 2) est due une petite fraction des
molcules du fluide moteur qui schappe des jets de la pompe diffusion ou de lhuile de graissage des paliers de la pompe turbomolculaire vers lenceinte pomper. Ces molcules schappent suite
des collisions avec les parois ou entre elles.
La technologie des pompes actuelles rend cette rtrodiffusion trs
faible.
La rtromigration (RR, figure 2) provient dune rvaporation
du fluide moteur ou de lhuile de graissage aprs un dplacement
mcanique entre les pompes, les canalisations et les parois de
lenceinte, d des phnomnes de capillarit.
Lutilisation de piges froids et de baffles diminue, sans lannuler
compltement, limportance de ces flux gazeux. Bien que ceux-ci
rduisent les vitesses de pompage, ils permettent dobtenir une
pollution maximale denviron 10-9 g.cm-2.min-1. Cette valeur est
faible ; souvent, cest la rtrodiffusion due au pompage primaire
mcanique qui est la principale cause de pollution dans les
enceintes (environ 3.10-5 g.cm-2.min-1).
2.7 Fuites
TECHNIQUES DU VIDE
Une fuite se caractrise parfaitement par son dbit que lon sait
quantifier, car la mesure des dbits de fuite (ou taux de fuite) se fait
de nos jours aisment et avec une prcision qui dpend surtout de
la taille de linstallation. Son influence sur ltanchit et ses consquences peuvent alors tre calcules.
Pour montrer lefficacit de la dtection de fuite par lhlium au
spectromtre de masse, nous pouvons donner quelques chiffres.
Exemple : la fuite minimale dcelable (en hlium) par un appareil en
parfait tat, reli directement la pice tester dont le volume est de
quelques dcimtres cubes, est de 10-12 Pa.m3.s-1. Pour une enceinte
dun volume de 50 m3, la limite de dtection sera de 10-9 Pa.m3.s-1.
Une installation sans fuite mesurable par les procds les plus
performants sera dite hermtique. Il faut toujours donner pour une
installation les spcifications dtanchit.
2.7.2 Fuites virtuelles ou fuites internes

Ces fuites (Fv, figure 2) sont des fuites relles qui ne dbouchent
pas de lautre ct de la paroi mais dans lenceinte suppose
tanche.
Ces fuites virtuelles peuvent avoir deux origines.
Origine dordre structural : il sagit dune bulle de gaz occluse
lors de llaboration du matriau (figure 3 a) et qui, aprs usinage
de la pice, arrive trs prs de la surface en contact avec le vide
(figure 3 b) ; une trs petite fissure ou tapure peut alors cheminer
entre la paroi et la bulle crant une fuite trs faible, limite dans le
temps.
Origine dordre technologique : il sagit dune fuite due une
mauvaise conception de ltanchit : un volume de gaz peut tre
emprisonn entre deux joints (figure 4 a) ou entre deux soudures
(figure 4 b) dont ltanchit peut tre mise en cause ; ce volume ne
peut pas tre test car aucune communication directe nexiste pour
latteindre.
Ces fuites virtuelles peuvent voluer avec le temps par suite de
phnomnes de corrosion ou de contraintes thermiques. Elles
semblent tre alatoires, car, durant le temps de mise lair libre, la
pression interne remonte plus ou moins.
Cela peut aussi se produire pour une enceinte double paroi,
mais le test dtanchit peut alors tre effectu si la conception est
bonne. Nanmoins, il faut toujours faire attention aux serpentins et
aux chambres de refroidissement ou de rchauffage souds ou brass sur les parois externes des enceintes.
Il faut aussi prendre en compte les microvolumes emprisonns
par une vis, par le placage dune pice sur une autre...
Les fuites sont pour le vidiste le cauchemar de tous les instants,

car ds que la pression ne dcrot pas comme il le souhaite ou la
prvu, ce sont les fuites quil accuse.
Cet tat de fait a dailleurs amen un abus de langage qui nous fait
parler communment de deux catgories de fuites : les fuites relles
et les fuites virtuelles (Fr et Fv, figure 2).
2.7.1 Fuites relles

Ces fuites (Fr, figure 2) relvent du domaine dit de ltanchit
(cf. article Contrle de ltanchit dans le trait Mesures et
Contrle). On peut dfinir cette fuite comme tant un trou, ou un
ensemble de trous, dans la paroi dune enceinte, rsultant dun
dfaut amenant une discontinuit dans la matire ou dans lassemblage des lments entre eux et capable de laisser scouler un flux
de gaz par suite de la diffrence de pression ou de concentration
existant de part et dautre de la paroi.
avant usinage
aprs usinage
Figure 3 Fuite virtuelle dordre structural
BM 4 000 - 7
Malgr les efforts faits grce la normalisation ISO 9000, la qualit des produits et des matriaux peut voluer dans une fourchette faible, mais cet cart, peu important pour 99 % des applications, peut avoir pour le vide des consquences plus gnantes. Le
groupe de travail ISO TC 112 rajeunit les normes actuelles.
V
S
J
a
A
E
J
fuites par joint
atmosphre
espace incontrlable
double joint
S
V
fuites par soudures

soudures continues
vide
Figure 4 Fuite virtuelle dordre technologique
3. Pompage. Niveau
de pression
3.2 Enceinte sous vide moyen

Le prvidage jusquau vide moyen ne pose pas de problme particulier hormis celui de lvaporation de fluide basse tension de
vapeur (problmes du pompage de leau ou des solvants et de rsidus de produits de traitement de surface). La vitesse de pompage du
groupe est sensiblement constante de la pression atmosphrique
102 Pa et, dans ce domaine, la charge dgazante peut, dans certains
cas, tre considre comme ngligeable. Seules les fuites peuvent
perturber la descente en pression.
Durant cette priode de prvidage, la pression est donne par
qG
p = -----qV
avec
3.1 Gnralits
Le vide est une technologie droutante : le vidiste est souvent la
recherche du diagnostic lui permettant de comprendre ce qui se
passe dans son installation, puis le traitement appliqu, il en analyse
les effets pour aboutir au rsultat escompt. Les instruments de
mesure (peu nombreux) ne le renseignent que trs mal sur ce qui se
passe lintrieur. La complexit des phnomnes due linterdpendance des paramtres physicochimiques rend linterprtation
difficile.
La russite est dailleurs rgulirement remise en cause au cours
du temps car lexploitation ncessite elle aussi toutes les qualits
requises. Louverture dune porte ou dun sas, le changement dune
jauge, larrt puis la remise en route dun groupe de pompage
doivent se faire avec des procdures rigoureuses.
Bien quentours par le vide spatial (que nous commenons
apprivoiser), nous sommes contraints de dpenser normment
dnergie pour raliser un vide qui est loin den avoir la qualit.
Le demandeur nophyte dune installation sous vide un concepteur vidiste se trouve trs vite dans lembarras par les questions
que lui pose celui-ci :
quel sera le niveau de pression atteindre ; et pourquoi ?
quelle est la charge dgazante ?
quelle est limportance de la qualit du vide obtenir ?
linstallation sera-t-elle fonctionnement continu ou discontinu ? etc.
On peut remplir ainsi un questionnaire important faisant, en plus,
entrer les problmes de site, dconomie, etc.
Les progrs rcents (depuis les annes soixante-dix) permettent
aux spcialistes du vide de proposer tout un arsenal de solutions
pour des applications classiques. Mais ces solutions sont des
compromis et si la prvision ou la spcification changent quelque
peu, le problme est revoir entirement.
Le problme du cot est trs souvent un facteur dcisif et quelquefois, il vaut mieux investir dans le choix des matriaux ou dans
un bon traitement de surface que dans un systme de pompage plus
puissant. Une pompe capable de 10-4 Pa avec le dbit thorique suffisant nvacuera pas toujours lenceinte 10-4 Pa dans le temps
prvu. Il faut alors comprendre et analyser le procd. Il est souvent
utile de reproduire chelle rduite le phnomne pour ltudier
dans des enceintes plus instrumentes.
BM 4 000 - 8
qG
flux gazeux,
qV
dbit-volume.
Dans cette opration, il est recommand de protger la pompe

des gaz ou des produits corrosifs vacus de lenceinte qui pourraient lendommager en installant des piges lentre. Il faut faire
attention aux piges contenant un corps pouvant se pulvriser sous
les effets mcaniques (vibrations, frottements, clatements, etc.),
car les poudres se mlangent alors lhuile des pompes et les
dgts sont importants. On place donc un filtre dont la conductance
gne souvent le pompage. Les vapeurs condensables non corrosives seront vacues grce au lest dair.
Afin dviter la rtrodiffusion de la pompe, on effectuera le prvidage dans le temps le plus court en arrtant ce pompage vers 10 Pa.
3.3 Enceinte sous vide pouss

Le prvidage termin, on pompe pour obtenir le vide pouss (de
10 Pa 10-5 Pa au mieux), en effectuant les oprations de fermeture
et douverture des vannes correspondantes. Il est trs utile durant
cette opration de relever et denregistrer la courbe de descente en
pression. Lallure de cette courbe renseigne lutilisateur sur la faon
dont se passe le pompage et il peut dceler avec une certaine exprience si une anomalie se produit (fuite relle, dgazage trop important). Cest ce moment que commencent les problmes. Pour
montrer la difficult de linterprtation, nous exposerons un cas prcis.
Exemple : dans une enceinte de 46 m3 de forme vaguement cylindrique, de surface denviron 1 100 m2 avec des pompes dun dbitvolume de 140 m3.s-1, il a t obtenu en deux points opposs une
pression de 1,45.10-5 Pa et 1,7.10-5 Pa.
Lexamen des courbes de pression a fait apparatre aprs quelque
temps une pression de 7,7.10-4 Pa en un point et de 1,3.10-2 Pa avec
des oscillations lautre point.
Les oprateurs srs de leur dtection de fuite externe ont alors
pens une fuite deau sur un circuit interne. Le circuit deau (sous
8 bar) a t ferm et dcomprim. La pression dans lenceinte est
redescendue 2.10-3 Pa et, aprs purge de la canalisation deau,
2.10-4 Pa. Aprs louverture de lenceinte, on a dcouvert un bloc de
glace lendroit de la fuite. On a donc eu fuite deau, vaporation,
refroidissement, gel de leau et formation dun bouchon de glace puis
sublimation de la glace et le phnomne recommence, ce qui amne
les oscillations observes autour de 1,3.10-2 Pa.
__________________________________________________________________________________________________________________
TECHNIQUES DU VIDE
On voit, sur cet exemple, la complexit de lanalyse en cas dincident.
prendre la prcaution de mettre un filet ou de recouvrir dun film

plastique lextrieur pour viter les clats en cas de rupture.
Dans une enceinte du type four de fusion, de brasure, de fabrication de tubes lectroniques, etc., il faut imaginer tous les incidents
possibles et les liminer au fur et mesure. Cest la raison pour
laquelle on installe de plus en plus sur les installations des capteurs
de pressions partielles pour connatre la nature des gaz de lenceinte
tout moment (cf. article Production du Vide. Pompes. Appareils de
mesure dans ce trait).
Le second risque dordre mcanique est celui de lexplosion des

piges, baffles et pompes fixation cryogniques, qui aprs
rchauffage, remontent en pression.
Dans le cas denceintes procds chimiques particulirement

pollues, linterprtation des spectres enregistrs est complexe et il
est parfois difficile de dfinir le paramtre mettre en cause. Ce sont
les capteurs de mesures de pressions partielles qui ont permis
danalyser et de comprendre les phnomnes de pollution.
4. Scurit
Le vide comme toute installation industrielle ou de laboratoire a
ses problmes de scurit, qui, lheure actuelle, prennent de plus
en plus dimportance. Hormis les problmes de scurit courants, il
a ses problmes propres lis, dune part, la mcanique et, dautre
part, la physicochimie des oprations quil entrane.
4.1 Scurit mcanique

Il est ncessaire lors du projet deffectuer les calculs de lenceinte
suivant le code de calcul du CODAP : code franais de construction
des appareils pression non soumis la flamme [Partie C. Rgle de
calculs des enveloppes cylindriques, sphriques, coniques et des
fonds bombs soumis une pression extrieure].
En cas de non-respect des rgles de lart, on peut avoir un risque
dimplosion de lenceinte sous leffet de la pression atmosphrique (amenant une force de 104 daN sur 1 m2 denceinte). Les cas
dimplosion sont rares. Il existe, par contre, des cas de collapsage
denceinte, car les paisseurs ont t calcules trop fines, srement
par suite de compromis. Les remdes sont simples mme si parfois
ils sont coteux. Un cas spcial est celui de lutilisation denceintes
en verre et plus particulirement de cloches. Dans ce cas, il faut
Exemple : la capacit dune cryopompe de 1 000 L.s-1en argon est

denviron 500 L ( temprature et pression normales). Si ce gaz reste
contenu dans la pompe dont le volume est denviron 10 L, pendant le
recyclage la pression atteindra plus de 50 bar.
Il est donc indispensable de mettre une soupape de scurit et de
veiller aux piges et baffles lors de leur rchauffage.
4.2 Scurits lies la physicochimie

de certaines oprations sous vide
Il y a lieu de distinguer ce qui se droule lintrieur de lenceinte
et ce qui peut schapper lextrieur par le refoulement des
pompes. Lenceinte est par dfinition en dpression et, en cas de
rupture, cest lair (ou leau) qui rentre dans lenceinte. Il faut alors
examiner les risques (un four hydrogne sous dpression peut
exploser par suite dune rentre dair).
lintrieur de lenceinte, on peut avoir des ractions chimiques
imprvues par suite du dplacement de lquilibre de certains
composs. Il y a lieu aussi de tenir compte des capteurs filaments
chauds qui peuvent initier des dcompositions et provoquer ltincelle qui sera source dexplosion.
4.3 Environnement
Les rejets des pompes volumtriques sont particulirement surveiller car elles dgagent dans lair ambiant ce quelles ont pomp
dans les enceintes. Il sajoute lhuile et les produits de dcomposition de lhuile qui sont particulirement nocifs. Des filtres pour piger les arosols sont installs au refoulement des pompes mais
quelquefois cela est insuffisant et il faut canaliser les rejets lextrieur du btiment.
BM 4 000 - 9
P
O
U
R
Techniques du vide
Introduction
par
E
N
Jean LECLERC
Ingnieur de lcole suprieure de chimie industrielle de Lyon
Docteur 3e cycle Chimie minrale et structurale
Consultant
Bibliographie
Rfrences
[12]
HOLKEBOER (D.H.), JONES (D.W.), PAGANO

(F.) et SANTELER (D.J.). Vacuum techno-logy
and space simulation. A.I.P. 1993.
[13]
ROTH (A.). Vacuum technology. 3e dition

North Holland 1990.
[14]
VAN ATTA. Vacuum Science and Engi-neering. Mac Graw Hill 1966.
[1]
ROMMEL (G.). Notions de base en technique

du vide. S.F.V. 1995.
[2]
DUVAL (P.). Le vide. Ses applications, son

obtention. S.F.V. 1993.
[3]
DUVAL (P.). High Vacuum Production in the

microelectronics industry. Elsevier 1988.
[4]
OHANLON (J.F.). A users guide to vacuum

technology. John Wiley & Sons 1980.
Les domaines en relation avec le vide

dans les T.I.
[5]
HABLANIAN (M.H.). High Vacuum Technology. A practical guide. Marcel Dekker 1990.
Mesure du vide. Trait Mesures et Contrle R 2 050.
[6]
HARRIS (N.S.). Modern Vacuum Practice.

Mac Graw Hill 1989.
Spectroscopie de photo-lectrons XPS ou ESCA et

UPS. Trait Analyse et Caractrisation P 2 625.
Isolation sous vide. Trait Gnie lectrique D 2 540.
RICARD (A.). Plasmas ractifs. S.F.V. 1994.

RICHARDT (A.) et DURAND (A.M.). Le Vide,
les couches minces, les couches dures. In Fine
1994.
Technologie de fabrication de la micro-lectronique

- oprations lmentaires. Trait lectronique
E 2 410.
[9]
RICHARDT (A.) et DURAND (A.M.). La pratique du Vide et des dpts de couches minces.
In Fine 1995.
Dpts ioniques. Trait Matriaux mtalliques

M 1 663.
REDHEAD (P.A.), HOBSON (J.P.) et KORNELSEN (E.V.). The physical basis of ultra high
vacuum. A.I.P. 1993.
Adsorption. Trait Gnie des procds J 2 730.

Spectromtrie des pertes dnergie des lectrons
dans les solides. Trait Analyse et Caractrisation
P 2 635.
[8]
[11]
Dpts par vaporation sous vide. Trait Matriaux

mtalliques M 1 655.
Granulomtrie des particules en mouvement et des

arosols. Trait Mesures et Contrle R 2 360.
[7]
WUTZ (M.), ADAM (H.) et WALCHER (W.).

Theory and practice of vacuum technology.
F. Wieweg & Sohn 1989.
Gaz ioniss et plasmas. Trait Gnie lectrique

D 320.
Dpts par pulvrisation cathodique. Trait Matriaux mtalliques M 1 657.
Fours trs haute temprature. Fours sous vide.

Trait Gnie lectrique D 832.
[10]
tanchit en mcanique. Trait Gnie mcanique

B 5 420.
Contrle de ltanchit. Trait Mesures et Contrle

R 2 055.
Spectromtrie de masse. Trait Analyse et Caractrisation P 2 615.
Spectroscopie des lectrons Auger. Trait Analyse
et Caractrisation P 2 620.
Dpts chimiques partir dune phase gazeuse.

Trait Matriaux mtalliques M 1 660.
Application la spectromtrie dcharge luminescente. Trait Matriaux mtalliques M 1 675.
Contrle des revtements en production industrielle. Trait Matriaux mtalliques M 1 680.
Traitement de surface : lexique.
Soudage par faisceaux haute nergie : faisceaux
dlectrons et laser. Trait Gnie mcanique B 7 740.
Normalisation
International Organization for Standardization (ISO)
DIS 1609-3
ISO 1000
Systme dunits SI et recommandations pour lutilisation des multiples et de certaines autres units.
ISO 3669
1986
Technologie du Vide : brides tuvables. Dimensions.
ISO 3530
1979
Technologie du Vide : calibrage des dtecteurs de fuite

type spectromtre de masse.
1981
ISO 554
1976
Atmosphre standard.
ISO 3529/I
1981
Technologie du Vide : vocabulaire partie 1.
ISO 3529/II
1981
S
A
V
O
I
R
Technologie du Vide : dimensions des brides.
DIS 3570/1
Jauges (capteurs) vide : mthodes normalises pour le

calibrage. Partie 1 : diminution de pression par flux continu dans le domaine 10-1 10-5 Pa.
ISO 3529/III 1981
ISO 2861/I
1974
Technologie du Vide : raccords rapides. Dimensions. Partie 1 : raccords collier.
DIS 3567
Jauges (capteurs) vide : calibrage par comparaison

directe avec un capteur de rfrence.
ISO 2861/II
1980
Technologie du Vide : assemblage rapide. Dimensions.

Partie 2 : raccords de type filet.
DIS 3568
Jauges (capteurs) vide ionisation : calibrage par comparaison directe avec un capteur de rfrence.
Toute reproduction sans autorisation du Centre franais dexploitation du droit de copie

est strictement interdite. - Techniques de lIngnieur, trait Gnie mcanique
BM 4 000 - 1
P
L
U
S
P
O
U
R
DIS 5300
ISO 1607/1
E
N
ISO 1607/2
ISO 1608/1
ISO 1608/2
DIS 3556/1
S
A
V
O
I
R
P
L
U
S
DIS 5304
Jauges (capteurs) vide du type conductivit thermique : calibrage par comparaison directe avec un capteur
de rfrence.
1980
1978
1980
1978
Deutsches Institut fr Normung

1301
Pompes vide volumtriques : mesure des performances.

Partie 1 : mesure du dbit-volume (vitesse de pompage).
Pompes vide volumtriques : mesure des performances.
Partie 2 : mesure de la pression limite.
Pompes fluide moteur : mesure des performances.
Partie 1 : mesure du dbit-volume (vitesse de pompage).
Pompes fluide moteur : mesure des performances.
Partie 2 : mesurage de la pression critique au refoulement.
12.1985 Units. Partie 1. Noms. Symboles.

4.82
Partie 1. Supplment. Noms et symboles.
2.78
* Partie 2. Sous-multiples.
10.79
* Partie 3. Facteurs de conversion.
1304
2.78
Symboles gnraux utiliser dans les formules.
1306
6.84
Densit. Table de donnes.
1313
4.78
quations physiques.
1314
2.77
* Pression : dfinition. Units.
1343
8.86
Mesurage des caractristiques. Partie 1 : pompes ioniques.

Classification en technique du vide.
28400
Association franaise de normalisation (AFNOR)

NF X 10-500
NF X 10-501
Rfrences denvironnement.
Technologie du Vide. Vocabulaire et Dfinitions.
7.79
Partie 1 : Termes gnraux.
10.80
Partie 2 : Pompes vide.
nov. 1975 Vocabulaire. Termes gnraux.

mai 1976 Vocabulaire. Pompes vide.
10.80
Partie 3 : Capteurs et jauges vide.
3.76
Partie 4 : Revtement sous vide.
nov. 1975 Pompes ioniques pulvrisation. Mesurage des

caractristiques de fonctionnement.
3.81
Partie 5 : Schage par le vide et le froid.
10.80
Partie 6 : Techniques danalyse de surface.
NF X 10-511
nov. 1971 Pompes primaires volumtriques vide. Mesure du

dbit-volume.
7.78
Partie 7 : Mtallurgie sous vide.
NF X 10-512
nov. 1975 Pompes primaires volumtriques. Mesurage de la

pression limite.
10.80
Partie 8 : Systme sous vide : composants et accessoires.
28401
11.76
Technologie du Vide : symboles graphiques.
28402
12.76
Technologie du Vide : quantits, symboles, units.
9.86
Technologie du Vide : raccords rapides et assemblages

(brides).
X 10-502
NF X 10-507
NF X 10-515
mai 1980 Termes et dfinitions. Manomtres vide. Lexique

multilingue.
nov. 1971 Pompes vide et jet de vapeur. Mesure de dbitvolume.
NF X 10-516
nov. 1975 Pompes jet de vapeur. Mesurage de la pression critique de refoulement.
28403
NF X 10-519
nov. 1975 Pompes turbo-molculaires. Mesurage des caractristiques de fonctionnement.
28404
10.86
Technologie du Vide : brides. Dimensions.
28410
11.68
* Mesures des pressions partielles par spectromtre de

masse : termes techniques, quantits spcifiques, conditions opratoires.
X 10-520
nov. 1974 Mesure de la pression dans les systmes vide industriels.
NF X 10-521
aot 1976 Manomtres. talonnage. Mthode par comparaison

directe.
28411
3.76
Technologie du Vide : spcifications dacceptation des

dtecteurs de fuite type spectromtre de masse.
NF X 10-522
aot 1976 Manomtre ionisation. talonnage. Mthode par

comparaison directe.
28416
3.76
X 10-523
nov. 1972 Mthodes gnrales dtalonnage des manomtres

pour les basses pressions.
Technologie du Vide : calibrage des capteurs entre

10-3 mbar et 10-7 mbar. Mthode par diminution de la
pression en flux continu.
28417
3.76
Technologie du Vide : mesure des dbits par la mthode

volumtrique pression constante.
28418
5.76
Technologie du Vide : mthode de calibrage par comparaison directe avec un capteur de rfrence. Partie 1 : Principes de base.
9.78
Partie 2 : Capteurs ionisation.
8.80
Partie 3 : Capteur conductivit thermique.
8.83
Technologie du Vide : spcifications de recette des pompes

rotatives. Partie 1 : Pompes piston rotatif et palettes
dans le domaine du vide grossier et moyen.
NF X 10-524
aot 1976 Manomtres. talonnage. Mthode dynamique.
X 10-525
nov. 1979 Manomtres vide du type conductibilit thermique. talonnage par comparaison directe avec un
manomtre de rfrence.
NF X 10-530
nov. 1975 Spectromtres de masse dtecteurs de fuites. talonnage.
NF X 10-531
juil. 1981
Fuite calibre dhlium pour dtecteur de fuite. talonnage.
NF X 10-541
avr. 1976
Technique du vide. Essais de rception des jecteurs

jet de vapeur deau.
NF E 04-201
avr. 1978
Symboles graphiques utiliser en technique du vide.
E 29-720
nov. 1974 lments de raccordement pour le vide pouss. Principes de base.
28426
3.76
Partie 2 : Pompes Roots dans le domaine du vide moyen.
28427
2.83

diffusion et jet de vapeur.
28428
11.78

turbomolculaires.
NF E 29-721
nov. 1974 Brides vide pouss. Dimensions.
NF E 29-722
nov. 1974 Brides tournantes pour collets vide pouss. Joncs

dassemblage. Dimensions.
28429
8.85
* Technologie du Vide : spcification de recette des pompes ioniques getter.
NF E 29-723
nov. 1974 Collets vide pouss. Dimensions.
28430
11.84
NF E 29-724
nov. 1974 Raccords rapides collier pour le vide pouss.

Dimensions.
* Technologie du Vide : mthodes de mesure des pompes

et compresseurs jet de vapeur.
28431
1.87
E 29-726
nov. 1974 Tubes en acier pour canalisation de vide. Dimensions.

anneau liquide.
E 29-728
aot 1971 Brides plates pour ultra-vide. Dimensions.
66038
4.71
Tables de conversion mbar-Torr.
E 29-729
nov. 1979 Brides tuvables. Dimensions.
Doc. BM 4 000 - 2
Les normes marques * sont aussi disponibles en anglais.

__________________________________________________________________________________________________________________
PNEUROP
6602
1979
British Standards Institute

Conditions de rception des pompes vide. Partie 1 : Pompes rotatives joints dhuile et pompes Roots.
1780
1985
Spcification des capteurs de pression.
3423
1986
Recommandations pour le dimensionnement des appareils sous vide en verre.
3436
1963
Mthodes dpreuve pour ltanchit au gaz des installations sous vide.
5543
1978
Technologie du Vide. Symboles graphiques.
5555
1981
Application des normes nationales pour la rception et les

mesures des pompes vide jets de vapeur et des compresseurs.
Units SI et recommandations pour lutilisation de leurs

multiples et de certaines autres units.
5914
1980
Mthodes de calibrage des dtecteurs de fuites type spectromtre de masse utilis en technologie du vide.
Brides et jonctions. Dimensions.
6134
1981
Spcification des interrupteurs sous vide et sous pression.
5607
1972
Conditions de rception des pompes vide. Partie 2 : Pompes vapeur.
5608
1973
Conditions de rception des pompes vide. Partie 3 : Pompes turbomolculaires.
5615
1976
Conditions de rception des pompes vide. Partie 4 : Pompes ionisation.
6601
6608
1978
1981
TECHNIQUES DU VIDE
P
O
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Techniques du vide

Terminologie du vide ..............................................................................

Charges de gaz .........................................................................................

Pompage. Niveau de pression..............................................................

Pour en savoir plus...........................................................................................

TECHNIQUES DU VIDE ___________________________________________________________________________________________________________________

Afin dviter la contamination de lespace, on nutilise que trs partiellement le

La loi des gaz parfaits donne la pression :

1.1 Limites des domaines du vide

nombre de molcules dans le volume considr,

constante des gaz parfaits,

Le vide est alors le domaine des installations o la pression est

domaine du vide pouss : de 10-1 Pa 10-5 Pa ;

Petit rappel historique

Beaucoup dautres termes sont employs pour parler du vide.

Torricelli et les fontainiers de Florence.

Exprience du Puy de Dme par Pascal.

Thorie cintique des gaz par Maxwell.

Premire lampe incandescence par Edison.

Pompe palette de Gaede.

Pompe diffusion de Langmuir.

Alpert atteint le domaine de lultravide.

Premier vol spatial (Gagarine).

Obtention de quelques 10-12 Pa

Premiers pas de lhomme sur la Lune.

Obtention de gravure industrielle 180 nm.

1.2 Vide grossier

Revtement sous vide

Soudure par faisceau d'lectrons

Figure 1 Domaines de pression pour diffrentes utilisations

TECHNIQUES DU VIDE ___________________________________________________________________________________________________________________

Tableau 1 Correspondance des units

Certaines industries travaillent sur des installations beaucoup

1.3 Vide primaire

Lopration de ce pompage porte quelquefois le terme de prvidage (utilis en dtection de fuites).

1.4 Vide intermdiaire ou vide moyen

1.5 Vide secondaire ou vide pouss

1.6 Ultravide (UHV ultra high vacuum)

Vide prliminaire et vide prparatoire sont des synonymes de

Son domaine stend sur un niveau de pression de 10-5 10-8 Pa.

1.7 Extrme-vide (XHV extreme high

1.8 Vide absolu et vide parfait

1.9 Vide propre

De plus, la qualit de certaines fabrications rend indispensable

2.1 Gaz de latmosphre ambiante

TECHNIQUES DU VIDE ___________________________________________________________________________________________________________________

linverse de la vaporisation, se trouve la condensation. Le

2.3 Dsorption. Dgazage

La dsorption regroupe, selon les auteurs, diffrents processus :

la dsorption partir de la surface (Des, figure 2) de particules

Figure 2 Diffrents flux de gaz pomper dans une enceinte

Le dgazage est le problme sur lequel on effectue le plus de

La temprature favorise le processus, mais dautres contraintes

Ces vapeurs peuvent aussi avoir tendance, si lenceinte nest pas

Cas particulier : pompage de leau

Leau est llment le plus prsent et qui sabsorbe le mieux dans

transformant en hydrogne limite les pressions les plus basses

2.6 Rtrodiffusion. Rtromigration

2.7.2 Fuites virtuelles ou fuites internes

Les fuites sont pour le vidiste le cauchemar de tous les instants,

2.7.1 Fuites relles

Figure 3 Fuite virtuelle dordre structural

TECHNIQUES DU VIDE ___________________________________________________________________________________________________________________

fuites par joint