Grupos

p Protectores
 Methyl Ether ROMe

„ Formation
1. Me2SO4, NaOH, Bu4N+I-, Organic Solvent 60-
60-90%
2. MeI or Me2SO4, NaH or KH, THF
3 CH2N2, Silica gel,
3. gel 0-
0-10 oC
C, 100% yield

S S S S

OH
CH2N2, Et2O
O
Silica gel
O O 83% O O
H H
OH O
Methyl Ether ROMe

4. MeI, Solid KOH, DMSO, 20o, 5-

5-30 min., 85%. Ref. T. Nakata,
Tetrahedron lett., 26, 6461 (1985)

5. Debido al incremento de la acidez y un reducido requerimiento

estérico del carbohydrato hydroxilo, t-BuOK puede usarse como una
base

OH O
O O

O t B OK MeI
t-BuOK, M I O
O O

O O
THF, 100%
O O
Methyl Ether ROMe

6. Me2SO4, DMSO, DMF, Ba(OH)2, BaO, rt. 18h, 98%

O
O

H3C
O
HO
CO2CH3
CO2CH3

Remoción
1. MeSiI,, CHCl3, 25oC,, 6h,, 95%

2. BBr3, NaI, 15 crown-

crown-5
Methyl Ester no son removidos
Methyl Ether ROMe

3. BBr3. ETOAC, 1h, 95%, o BBr3, CH2Cl2, ↑

OAc
OAc
O
BBr3, CH2Cl2
H3CO
-28 12oC

O
CO2CH3 CO2CH3 H
OAc
O CO2CH3
OAc

4. BF3•ET2O, HSCH2-CH2-SH, HCl, 15 h, 82%

5. O-CH3 OH

BzO OH BzO OH
AlCl3/Bu4N+I-

CH3CN, 83%

OH OH
O O

O O
 Methyl Ether

„ M t i til Eter
Metoximetil Et CH3OCH2-OR

1. CH3OCH2-Cl, NaH, THF, 80%

O O

H3C-S-H2CO H3C-S-H2CO

HO DME, reflux, 12h, 88% MOM-O

CO2CH2CH2-TMS CO2CH2CH2-TMS

Mono MOMO Derivados de Dioles

OH (MeO)3CH O DIBAH, -78o OMOM

10 min
OH CH2Cl2, r.t. 24h OH
O O
Methyl Ether

„ Remoción
1. Cat.HCl[], MeOH, 62oC, 15 min.
2. 6M HCl,, THF,, 50oC,, 95%

H H
Dowex, 50w
MeOH, 93%
OMOM OH
Methyl Ether

„ Tetrahydropirano Ether (THP

(THP--OR)
„ Dihydropirano, TsOH, CH2Cl2. 2oC
OR
O

Remoción
Explosión ocurre cuando se destila

OH B 2H 6
OTHP OTHP
H2O2- OH O
Methyl Ether

„ t-butil Éter
Puede ser preparado con varios alcoholes incluyendo alcoholes alílicos.
El éter es estable, excepto frente a los ácidos.
Isobutilene, BF3ET2O, H3PO4, 100%

OH O t Bu
O-t-Bu

O O

Remoción
N2, CF3COOH, 0
0--20o, 1
1--16 h, 80
80--90%
Benzyl Ether

„ Benzyl Ether (Br-

(Br-OR) PhCH2-O-R
1. BnCl, KOH, 140oC, 86%

2. BnCl, Bu4N+HSO4-, 50% KOH, Benzene.

3. NaH, THF, BnBr, Bu4N+I- 20o, 3h, 100%

BnO

BnBr, DMF
HO AgO
g 2, 48 h,, rt O
O 76%
O
O
Benzyl Ether

„ Remoción
R ió
1. H2/Pd
/Pd--C, EtOH, 95% Pd<, J. Org. Chem., 29, 3725, 1964.

2.
2 Raney Nickel W4
W4, EtOH,
EtOH H2

3. NaNH3, 15 seg., 97%

CO2CH3 CO2CH3
HO HO

H H

OBn OH
Benzyl Ether

Phenyl benzyl Ether p-C6H5-C6H4-CH2-OR / NaH

Remoción Pd/C H2 / EtOAc 52%
Ref. Am Chem. Soc, 113, 6320, 1991.

OH O OH
O
CO2H CO2H

O OH

O OH O HO O OH O
O

No Cliva
O benzil eter
HO
 Éter de Silano

„ Trimetil Silano Éter (TMS-

(TMS-OR)
Formación Me3SiCl, Et3N, THF, 25o, 8h, 90%

0,5 Eq, HMDS, THF OTMS

OH
HO HO
1 gota TMS-Cl, Reflux

Remoción
e oc ó :

1. Bu4N+F-, THF, Conditions Apróticas.

2. K2CO3, MeOH Anhydrous, 0oC 100oC

Éter de Silano

„ Trietilsilano (TES-
(TES-OR) Et3SiOR
Et3SiCl,
SiCl Pyr
Remoción 2% HF o HF/Pyr.

„ t-Butil Dimethylsilylether TBDMS--OR (t-BuMe2-

TBDMS
SiOR)
„ TBDMS--Cl, Imidazole, DMF, 25oC, 10h, ↑%
TBDMS
Éter de Silano

OH
OTBDMS
COOH TBDMS-Cl
TBDMS Cl, DBU
R COOH
CH3CN, 0o, 24 h, rt. R
NH2
NH2

OH
OH
SO2Ph TBDMS-CL/
TBDMS CL/ Im
SO2Ph
DMF, 79%

HO
TBDMSO
Éter de Silano

„ Remoción
Bu4N+F-, THF, 25oC, 1h > 90% yield

El ión Fluoruro es muy básico, especialmente en

condiciones anhidras.
Ésta puede ser controlada con la adición de ácido acético.
acético

Comercial 1 TBAF, contiene H2O, ↓ rendimiento

M l
Molecular
l Sieve
Si 2.3%
2 3%

2 KF,, 18-
18-Crow
Crow--6
 Éter de Silano

Remoción selectivo de R
R--OH Primarios en presencia de Secundarios.
TBDMSO TBDMSO OH
OTBDMS

BOC-HN AcOH, H2O BOC-HN

O THF, 15 h, O

O O

o Ácido Trifluoroacético, H2O, CH2Cl2, (9:1), rt, 96h

B
B
O O

OTBDMS OTBDMS
TBDMSO HO
O O
Éter de Silano

„ R = TBDMS o TBDPS

B B
O O
K2CO3, MeOH
M OH

OH 48 h, rt
OH
RO HO
OTBDMS OTBDMS
Éter de Silano

„ TBDPS-OR (t-BuPh2-Si
El TBDPS- Si--O-R)
100 > más estable TBDMS
El TBDPS < estable frente a una base que TBDMS

K2CO3/MeOH
9M MH4OH 60oC
Estable
80% ACOH que cliva a TBDMS
HBr/AcOH
Éter de Silano

„ Formación
TBDPSi--Cl, Imidazol, DMF, rt
TBDPSi

Remueve con Bu4N+F-, THF, 25oC, 1

1--5h, 90%
Py, HF, THF

LiAlH4 en algunos casos puede remover

CONH2 CH2NH2
LiAlH4
CO2CH3 CH2OH
TBDPSO HO
 Acetato

„ Tricloro acetato
Formación Cl3C-COCl, Py, DMF, 20oC, 2 días, 87%

HO HO
S S

O HO HO
OH O O
TMSO TMSO
Cl3
O

Remoción,, NH3, EtOH, CGCl3, 6h, 81%

Es selectivo en presencia de acetato
Éster de Benzoato

„ Éster Benzoate (Bz

(Bz--OR) PhCO2-R
El Éster de Benzoato es uno de los más comunes
ésteres usados para protección de alcoholes,
> estables que acetatos

Formación BzCl o Bz2O, Py, 0oC Benzoilchloride / CH2Cl2

OH
OBz
OH
OBz
O
O

O
O
O
O
 Éster de Benzoato

„ Remoción selectiva
O B B
O
H2NNH2, ACOH, Py

20 C,
C 7 dias,
dias 80%
BzO BzO
OBz OH
BzO BzO

T.L. 35, 9717, 1994

Protección con cíclico acetales y cetales

„ Metilen Acetal
1. 40% CH2O, conc. HCl, 50oC, 4 días

2. Paraformaldehido, H2SO4, AcOH, 90oC, 1 h.

3. (MeO)2CH2, lutidine

4. CH2Br2, KOH, DMSO, rt, 49%

OH OH O O

CO2CH3
CO2CH3
OBn OBn
OBn OBn
Protección con cíclico acetales y cetales

„ Remoción
1. BCl3, CH2Cl, -80oC, 30 min.

2. HF, EtOH, THF, 0-

0-5oC, 14h
O
O

O O O OH
HO
HO OH

O
O
Protección con cíclicos acetales y cetales

„ Ethylidiene Acetal
CH3CHO, CH3CH(OMe)
( )2 o Paraldehyde,
y [ ] H2SO4/
TsOH, H2O, THF, 72%.

HO
HO O
OH
O
OH

O
O
Protección con cíclicos acetales y cetales

„ Acetonida (Isopropylidena Cetal)

Más comúnmente utilizado en 1,2 diol.

OH Acetona, TsOH
O + OH
rt, 100%
OH OH
OH O O O

3 pentanone, THF, TsOH

90% (9:1)

OH O
Protección con cíclicos acetales y cetales

„ Isomerización

HO
O
TsOH
O
1 10
1:10 O
OH O
„ Remoción
1 1N HCl
1. HCl, TFH
2. 2N HCl, 80o, 6h
3.BCl
3 BCl3, Et2O
CF3CO2, THF, H2O, 83%
Protección con cíclico acetales y cetales

„ catalítico.
Ethoxietilene HC(OMe)3 o HC(OEt)3, Ácido catalí

O O
O O
HO HO
70%

HO OH O O

O
„ Remoción 98% Ácido Fórmico, HCl
O
OH
(t-Bu)2AlH
O

O
OMOM
Protección de Fenoles

„ Metil Éter

Formación
1. MeI, K2CO3, Cetona , Reflux, 6h
2. Me2SO4, NaOH, EtOH, reflux, 3h
OCH3 OH O OH
O O

Me2SO4, NaOH MeI, KCO3

catona, reflux, 6h

H3CO HO O

3. LiCO3, MeI, DMF, 55oC, 18h, 54-

54-90%
O O

HO HO

HO O
 Methyl Ether Ph-OMe

„ Diazometano, Éter,
É 80%

OH O
OH O

O
CH2N2, eter O
80%
BnO OH
BnO O
Methyl Ether Ph-OMe

„ Remoción
1. Me3SiI, CHCl3, 25oC, 72%
2 K+, Tolueno,
2. T l 18crow
18crow-
18 -6,
6 100%
3. Sodio Benzylselenide PhCH2SeNa o
sodio Tiocresolato pCH3-Ph C6H4SNa en DMF
Reflux

O O

N N
O HO
Methyl Ether Ph-OMe

J prakt. Chem / Chem Ztg., 337, 405, 1995

R
Remoción
ió
O OH
NO2 NO2
LiI
Quinolina
R R
O O

OH O O
O O OH
t-BuOK KF, Al2O3
Microondas
5h, 210 oC
Methyl Ether Ph-OMe

O O
O OH
O
O
AlCl3, 75&

Oo C, 3h.
Benzil Éter PhCH2-O-R

OH OBn

K2CO3, BnBr
B B

cetona, 71%
CO2CH3 CO2CH3

OH OH
Remoción, H2 / Pd/ C / Ac2O
Aril toluen sulfonato

A OSO2C6H4-p-CH
ArOSO CH3
O OH TsCl, K CO ,cetona O OTs
2 3

CH3I,K
I K2CO3

OH OH

NH2

OTs
NH2 Et3N
TsCl, CH2Cl2

OH
Py

NHTs

OH

Remoción KOH, H2O, EtOH

Protección de Catecoles

Acetato de Metileno
Formación CH2Br, NaOH,76% O
BrCH2Cl, DMF, CsCO3, 86%
Remoción AlBr3, CH3SCH3,
BCl3,CH3SCH3,83%, 98% O

Carbonato Cíclico
OH OH
OH O
F
Fosgeno
O
NaOH
OH O
 Acetales o Cetales R2(OCH3)2

MeOH, HCl seco, 2 min.

H
H
O
O O
O O

O
O

MeOH, MH4Cl, reflux, 1.5 h, 66%

O
H O
H

O O

O
1,3 Dioxano y 1,3 Dioxolanos

O O

H H
OH
O
O
OH O
TsOH, 91%

O OH O

OH
H+

O O O
1,3 Dioxano y 1,3 Dioxolanos

Remoción pyridium tosilato (PPTS), Cetona, Agua, calor, 100%

5% HCl, THF, 25o, 20 h.

O O
OAc OAc
O
O
O
OAc CO2CH3 OAc CO2CH3
N-t-Butoxicarbonilamida (BOC-NRCO-)

t-C
C4H9OCO-NRCO-
OCO NRCO
Formación (BOC)2O, Et3N, DMAP, 25o C, 15h, 78-96 %
BuLi, (BOC)2O

Remoción MeONa, LiOH, NH2NH2,

TMSOTf, CH2Cl2

H H
OH OH

N TMSOTf NH
O O
BOC CH2Cl2/ PhSH
O O 0oC , 1h
O O
HO HO