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e-mail: hjuarez@cs.buap.mx 14 Sur y Av. San Claudio, San Manuel, C. P. 72570, Puebla,
México.
k3 (2) kr Ka [I]w ,
O3 + O 2O2 (etapa lenta)
RSiO2 = (10)
1 + Ka [I]w
Sumando las etapas elementales se obtiene la reacción
global y a partir de ésta es posible obtener de la Esta ecuación representa la velocidad de depósito de
velocidad de reacción global [8]: las películas de SiO2.
En este modelo podemos usar la aproximación de
k1 k3 [O3] 2 [O3]2 pseudo-estado-estacionario para los intermediarios, I.
RO3 = = kO3 (3) Debido a que concentración de I en el flujo de entrada
k2 [O2] [O2] es cero y en la salida se presenta en pequeñas
donde k3 es la constante de velocidad de la ecuación (2), cantidades, la velocidad de cambio también es
[O3] la concentración de ozono, [O2] es la concentración pequeña.
Si suponemos el estado estacionario y despejando [I] de 2 Qin [O3]in [O2]out , (18)
[O3]out =
la ec. (7) se obtiene: kO3 V
kTEOS
[ I] = [O3]2 [TEOS] Similarmente, considerando equilibrio global del
kI [O2] (11)
TEOS a través del reactor se obtiene
Qin [TEOS]in =
kTEOS 2
[O3]out [TEOS]out V + Qout [TEOS]out (19)
Así, la concentración del intermediario se obtiene en [O2]out
términos de la concentración de ozono y TEOS.
Considerando que existe un gradiente de temperatura
Sustituyendo la ec. (11) en la ec. (10) se obtiene:
en la fase gaseosa, Qout esta relacionado con Qin por
[4]:
kTEOS
krKa [O3] 2w [TEOS]w
kI [O2]
RSiO2 = Tout (20)
kTEOS (12) Qout = Qin
1 + Ka [O3] 2w [TEOS]w Tin
kI [O2]
donde [O3]w y [TEOS]w son las concentraciones de O3 y Tout y Tin son las Temperaturas de salida y entrada,
TEOS en la fase gaseosa cerca de la superficie de la respectivamente. Para nuestro sistema podemos
oblea, respectivamente. A presión atmosférica bajas considerar que Tout≈Tinn. De las ec. (18), (19), y
temperaturas, el segundo término del denominador del (20), se obtiene:
lado derecho de la ec. (11) es insignificante.
Por lo tanto la ec. (12) se simplifica de la forma: [TEOS]out =
[TEOS]in
1 +
kTEOS [O3]in (21)
kTEOS (13) kO3
RSiO2 = kr Ka [O3]2w [TEOS]w
kI [O2]
Consecuentemente, la velocidad de depósito se
Suponiendo que las concentraciones son uniformes obtiene en términos de las condiciones de
dentro del sistema, la ec. (13) se rescribe como, alimentación del reactor, de las ec. (14), (18), y (21)
como:
kd 2 (14)
RSiO2 = [O3]out [TEOS]out
[O2]out Qin [O3]in [TEOS]in
RSiO2 = ks
V 1 + kG [O3]in (22)
kd es igual a kr Ka kTEOS/kI y [O3]out, [O2]out, [TEOS]out
son las concentraciones del ozono, moléculas de
oxígeno y el tetraetoxisilano a la salida del sistema. donde kG = kTEOS/ k O 3 y ks = kd/k O 3 .
Considerando un equilibrio global del ozono a través Considerando que las reacciones homogéneas son
del reactor se obtiene: dominantes con respecto a las reacciones
heterogéneas, el segundo término del denominador se
kO3 2 (15) puede despreciar, la ec. (22) y se obtiene la razón de
Qin [O3]in = [O3] out V + Qout [O3]out
[O2]out depósito en términos de parámetros conocidos.
Fig.3. Espectros de absorbancia de las películas de Tomando en cuenta que [O3] es del 5%, usando las
SiO2 obtenidas a diferentes temperaturas y ecuaciones de Antonie [12], se obtuvo una
tiempos de depósito de 15 min. aproximación del valor de la concentración del ozono
como:
En la tabla 1 se presentan las razones de crecimiento y
los índices de refracción de las películas de SiO2 [O3]in = 5.75x10-4 mol cm-3
obtenidas (medido por un ellipsometro Rudolph) En
todas las películas, el índice de refracción está dentro El flujo volumétrico a la entrada del reactor es:
del intervalo correspondiente para películas de SiO2
Además se observa que la razón máxima de crecimiento Qin = 26.6 cm3/s
se obtiene a 175° C.
y el volumen en el reactor es:
Tabla I. Parámetros de las películas de SiO2.
V = 1021.4 cm3
Temperatura Razón de Índice de
de depósito crecimiento refracción Por lo que la constante A de la ec. (25) es:
[ºC] [nm/min.]
125 6 1.452 A = 8.98x10-13 mol2cm-6s-1
150 11 1.456
175 21 1.460 A partir de la tabla 1 podemos graficar la razón de
200 19 1.459 crecimiento en función del inverso de la temperatura
225 15 1.461 (Fig. 4). En esta figura se observa que la razón de
crecimiento se incrementa de acuerdo a la ec. (25), el
4.2. Comparación entre los resultados máximo se presenta en 175° C y a partir de ese valor
experimentales y el modelo teórico la razón de crecimiento disminuye. Este decremento
Uno de los objetivos del presente trabajo es comparar de acuerdo a algunos autores se debe al incremento de
los resultados experimentales (razones de crecimiento)
las reacciones en fase gaseosa y se explica con base a la 6. REFERENCIAS
ecuación 22. De esta misma figura (para 125, 150 y
175° C) podemos obtener la ecuación de Arrhenius la [1] E. Jung, W. N. Gill, J. Cryst. Growth 140 (1994)
cual será. 308-314.
[2] T. Whidden, Saraha Doiron and Sun Young Lee
R SiO 2 = 5.82 x10 −4 e −8744 / RT (26)
proceedings 198rd Meeting of the Electrochemical
Las diferencias entre las ecuaciones (25) y (26) radican Society (1998).
en el valor de Ks, en nuestro caso será de: [3] T. Homma, R. Yamaguchi, Y. Murao, J.
Electrochem. Soc. Vol. 140 (1993) 687-692.
ks = 6.48x108 e-8744/RT cm7/mol2. (24) [4]S. Romet, M. F. Couturier and T. K. Whidden,
Journal of the Electrochemical Society, 148 (2)G82-
Y se explica con base a las diferencias en las energías G90 (2001).
de activación en los sistemas de crecimiento y las [5] S. E. Babayan, J.Y. Jeong, A. Schütse, V. J. Tu,
condiciones de operación de Fugardi et al [10] y el que Maryam Moravej, G. S. Selwyn and R. F. Hicks,
se reporta en este trabajo. Plasma Sources Sci. Tech ol. 10 (2001) 573-578.
[6] S. W. Benson and A.E. Axworthy, J. Chem. Phys.
26 (1957) 1718.
[7] Y.A. Guerasimou, V. Dreving, E. Eriomin, A.
Razón de crecimiento(nm/min)