La técnica de deposición por láser pulsado (PLD por sus siglas en inglés), es capaz de reproducir

casi cualquier tipo de material (óxidos, metales, polímeros) Su alta reproducibilidad

estequiométrica, y versatilidad, la ubican entre las más poderosas técnicas para la producción de
óxidos complejos, materiales multiferróicos magnetoeléctricos (ME), y semiconductores magneto-
diluídos, entre otros

Se puede controlar la cantidad de energía absorbida y, de este modo, la cantidad de material que
se puede eliminar por la aplicación de un simple pulso. Esto depende tanto de las propiedades
ópticas y termodinámicas del material como de la longitud de onda del láser.

El proceso se lleva a cabo controlando la duración de los pulsos láser, que pueden variar entre
unos milisegundos y unos femtosegundos, o controlando la intensidad del flujo. Este control
preciso hace que esta técnica sea muy valiosa tanto a nivel de investigación como a nivel
industrial.

Las capas de la superficie de un material pueden absorber la energía del láser de manera selectiva,
de manera particular en metales. De esta manera los pulsos de láseres de CO2 se pueden utilizar
para limpiar superficies, eliminar pinturas o recubrimientos, o preparar superficies para pintar sin
dañar la superficie de abajo. Los láseres de alta potencia limpian una gran mancha con un simple
pulso. Los láseres de baja potencia usan muchos pulsos pequeños que pueden escanear un área
determinada. Las ventajas son:

No se usan disolventes. Es un método poco contaminante desde un punto de vista

medioambiental con la ventaja añadida que los operarios no se ven expuestos a productos
químicos.

Es relativamente fácil de automatizar, por ejemplo, mediante el uso de robots.

El coste de operación es más bajo que otras técnicas como el lanzamiento de hielo seco sobre
superficies, aunque el capital invertido presente unos costes mucho más altos.

El proceso es menos abrasivo que otras técnicas, por ejemplo, no se dañan las fibras de carbono
insertadas en materiales de tipo composite.

La posibilidad de evaporar compuestos de elevada complejidad conservando la estequiometría.

la capacidad de controlar el espesor de la capa con buena precisión, lo que ha permitido trabajar
en sistemas de baja dimensionalidad donde se requieren espesores de unas cuantas monocapas.

La limpieza del proceso debida, por un lado, a que la fuente de energía se encuentra fuera de la
cámara de evaporación y, por otro, al bajo nivel de incorporación de impurezas debido a la corta
duración del proceso, típicamente, del orden de unos cuantos microsegundos.

El calor sobre el blanco es mínimo.

La ablación con láser pulsado de emisión en la región espectral del ultravioleta (UV) permite la
eliminación selectiva de capas superficiales de material polímero utilizado como recubrimiento
en distintos tipos de objetos y superficies artísticas.
En la ablación láser se evita el contacto físico entre la herramienta de limpieza y el
substrato pudiendo conseguirse un decapado de hasta 0.1 mm por pulso con resolución
lateral del orden de 50 mm, lo que permite un control muy preciso de la cantidad de
material eliminado
El proceso de PLD, en contraste con la complejidad de los fenómenos físicos
intervinientes, es un proceso conceptualmente simple; consiste en focalizar un haz
láser pulsado en un material (blanco) para conseguir así su remoción (ablación). El
material removido es eyectado en dirección perpendicular a la superficie del blanco,
formando un plasma o “pluma” de ablación. De esta manera, pulso a pulso, el
material del blanco es depositado en el sustrato ubicado justo enfrente, consiguiendo
así el crecimiento de la lámina. Las características del láser (fluencia, longitud de
onda, frecuencia de pulsos), la temperatura del sustrato, la atmósfera de crecimiento,
la distancia blanco-sustrato, entre otros, son los parámetros a optimizar para lograr el
crecimiento del material de interés.
Una película delgada es una capa de material con un espesor de varios nanómetros a
micras. Tienen un gran interés desde el punto de vista de la investigación, ya que permiten
estudiar las propiedades físicas y químicas de los sistemas cuasi-bidimensionales.
Se utiliza como revestimiento para modificar las propiedades físicas o químicas del sustrato
o para crear superestructuras con nuevas propiedades fisicoquímicas. Por lo tanto, tienen
una amplia gama de aplicaciones de nivel industrial: microelectrónica – sensores y
actuadores, memorias magnéticas, ópticas y opto-electrónica, recubrimientos para mejorar
las propiedades mecánicas y térmicas, corrosión / oxidación, para mejorar las propiedades
hidrófobas, envases propiedades de barrera, biocompatibilidad y otros.
A través de estas técnicas pueden obtener diversas estructuras tales como altas
temperaturesuperconductors, estructuras de carbono similar al diamante, polímeros,
materiales biocompatibles, materiales cerámicos.
Especificaciones: – cámara de deposición: cámara de alto vacío Ultra de acero inoxidable
con una presión base de menos than9x10-9 Torr. Cámara de carga con cierre de cremallera.
– Carrusel PLD: Hasta 6 Blanco 1 “o 3 2″ de diámetro. Soporte de la muestra con el
sistema de calefacción, con temperatura máxima de 850 ° C, compatible con O2.