1.

OBJETIVO

1.1. OBEJTIVO GENERAL

 Estudiar un procedimiento de electrodeposición de cromo, utilizando una metodología sencilla

sin de altos costos de operación.

1.2. OBJETIVO ESPECIFICO

 Realizar la electrodeposición del cromo en objetos de hierro donde se halla realizado

previamente una electrodeposición de cobre.

 Experimentar acerca de los parámetros respecto al proceso de electrodeposición del cromo.

 Identificar que ánodo (grafito – plomo) es mejor para un trabajo en laboratorio.

2. JUSTIFICACION

2.1. JUSTIFICACION ACADEMICA

Como estudiantes tenemos la responsabilidad de mostrar de manera adecuada el conocimiento

adquirido en nuestro desarrollo, proponiendo soluciones a corto y a largo plazo que ayuden al
desarrollo y así mismo dando a conocer los diversos procesos existentes para el progreso de nuestro
país.

2.2. JUSTIFICACION AMBIENTAL

Reducir los riesgos que el proceso conlleva ya que el rápido crecimiento de la población así como la
industrialización de la sociedad actual han traído como consecuencia el mejoramiento en la calidad
de vida de las personas, pero el costo ha sido un gran impacto ambiental sobre el aire, el agua y el
suelo. Los depósitos de cromo obtenidos por vía electrolítica son de gran importancia dentro del
campo de los recubrimientos decorativos e industriales, sin embargo el proceso convencional con
soluciones de cromo hexavalente presenta graves inconvenientes desde el punto de vista ambiental y
de salud ocupacional.

2.3. JUSTIFICACION ECONOMICA

En el mercado internacional, existen empresas que distribuyen actualmente productos con bañado de
cromo no solo en como recubrimiento para evita el desgaste o la corrosión atmosférica atributos que
debemos de tener en cuenta, sino en el mundo automovilístico ya en una faceta más estética.

3. MARCO TEORICO

La galvanotecnia es una técnica que consiste en la electrodeposición de un recubrimiento metálico

sobre una superficie que puede ser o no metálica. Según el sustrato empleado, la galvanotecnia se
divide en dos ramas: la galvanoplastia (recubrimientos sobre plásticos) y la galvanostegia
(recubrimientos sobre metales).

Los recubrimientos electrolíticos son relativamente económicos y ampliamente usados para obtener
materiales con características superiores (mayor dureza, conductividad, resistencia a la corrosión
etc.) que permiten un mayor campo de aplicaciones que de otra manera serian limitados por su alto
costo.
3.1. RECUBRIMIENTOS ELECTROLITICOS

El objetivo de un proceso de electrodeposición es obtener un depósito que se adhiera bien al sustrato

y que presente adecuadas propiedades mecánicas, físicas y químicas, además que las
especificaciones sean las mismas en todas las ocasiones, es decir que el proceso sea predecible y
reproducible. La mayoría de los metales pueden ser depositados con diferentes propiedades variando
las condiciones del proceso, por esta razón no es posible definir un único conjunto de condiciones. Es
muy importante la parte química del proceso ya que de la estabilidad de las soluciones en periodos
largos de tiempo dependerá su reproducibilidad, esto implica resistencia a cambios de temperatura,
cambios en la concentración de componentes, tolerancia a contaminantes, entre otros factores.

En relación a los mecanismos de óxido-reducción y las reacciones involucradas en el proceso se

encuentran cuatro tipos, en todos los casos se pueden obtener metales puros, aleaciones o
materiales compuestos:

1. Los recubrimientos electrolíticos convencionales, con terminales anódico y catódico del circuito,
para los cuales es necesario aplicar una corriente externa que proporcione la energía para las
reacciones.

2. Los recubrimientos químicos (auto catalítico) en los cuales la presencia de un par redox en la
solución permite la formación del depósito metálico sobre una superficie catalítica.

3. El anodizado que consiste en oxidar de manera controlada la superficie del metal base
(generalmente aluminio) por medio de corriente externa para obtener una película de óxido protector.

4. Los recubrimientos de conversión en los cuales se forma una película de óxido por la acción de
agentes oxidantes presentes en la solución.

3.2. FACTORES QUE AFECTAN LOS RECUBRIMIENTOS ELECTROLITICOS

En principio la selección de un sustrato y un recubrimiento puede abarcar un gran número de

materiales, ya que el sustrato puede ser un metal, polímero, cerámico o un material compuesto. El
recubrimiento por su parte puede ser un único metal, una aleación o una multicapa de metales.
En la práctica la selección solo se restringe por las posibilidades tecnológicas disponibles que van de
la mano con el factor económico. Una tendencia obvia es emplear materiales económicos como
sustratos por ejemplo el acero, metales de precio medio como el cobre o el níquel en películas
relativamente gruesas y materiales más costosos como oro, plata y platino en películas delgadas.

3.3. GENERALIDADES DE LA ELECTRODEPOSICIÓN

En la electrodeposición se presenta una disociación de los átomos de una solución que se da por
medio de la electricidad, en donde el electrolito es la solución que se va a someter a la disociación
electrolítica, los cuales se disocian en mayor o menor amplitud como partículas cargadas
eléctricamente, denominados iones. Estos átomos o grupo de átomos, pasan al estado de iones
cargados negativamente (aniones), si gana uno o más electrones, pero se considera que un átomo
pasa al estado de ion cargado positivamente (cationes), si este pierde uno o más electrones.

Un proceso de electrodeposición se basa en una reacción electroquímica denominada electrolisis que

consiste en la descomposición de sustancias químicas en solución, conductoras de la corriente
eléctrica, esta descomposición se lleva a cabo mediante reacciones de óxido reducción.
Cuando a una disolución de una especie oxidante se le adiciona un reductor, se produce una
reacción química redox.
Si en lugar de adicionar un reductor, en la disolución se
introduce un conductor y este cede electrones a la disolución, tiene lugar una reacción
electroquímica, donde el cátodo es el electrodo que cede electrones a la disolución produciendo la
reducción de la especie electroquímica y el ánodo es el electrodo que toma electrones originando la
oxidación anódica

Al conductor se le denomina electrodo y al recipiente que contiene la disolución, celda electroquímica.

Al estudiar la electrolisis se deberá considerar solo aquellas soluciones que contienen disueltas sales,
ácidos o bases, donde ácido y básico son dos extremos y la posición media es neutra.

3.3.1. ELECTROLITO

En el caso de la deposición de metales, el electrolito es generalmente una solución acuosa de sales

metálicas, que con la adición de otros materiales para incrementar su conductividad, modifican la
textura del depósito y/o actúan como estabilizadores, pero en este caso, no se le adiciona ningún otro
material a parte de ácido sulfúrico, haciendo el proceso más limpio y económico.
Esta solución se somete a cambios electroquímicos o electrolisis cuando se aplica una corriente
eléctrica a través de los electrodos.

3.3.2. ELECTRODOS

Como electrodos generalmente se utilizan barras de metal, donde el grado de calidad y pureza de los
mismos debe ser óptimo. De no ser así, la solución se verá rápidamente contaminada.
La superficie de los ánodos y de los cátodos deben guardar una relación de por lo menos 1:1, o
ligeramente superior a favor de la superficie anódica que pueden llegar a ser de hasta 2:1. Si los
ánodos son pequeños se logra obtener una distribución de corriente adecuada del ánodo al cátodo.

En el caso de que la distancia entre el ánodo y el cátodo no sea uniforme, el proceso ofrecerá más
resistencia en los sitios más alejados por tanto, circulara la corriente con desigualdad, depositando el
metal de forma irregular. Estas irregularidades se presentan con mayor frecuencia cuando la distancia
entre los electrodos es pequeña, por lo que la distancia entre electrodos se tiene que aumentar
cuando los objetos son voluminosos o presentan mucha diferencia en su geometría.

3.3.3. INFLUENCIA DE VARIABLES EN LOS PROCESOS ELECTROLÍTICOS

En los procesos de electrodeposición intervienen diferentes parámetros entre los cuales están: la
densidad de corriente, temperatura, agitación, concentración de las soluciones, disposición de las
piezas en las celdas y preparación de la superficie para deposición.

3.3.3.1. DENSIDAD DE CORRIENTE

La diferencia de potencial sobre los electrodos del baño, o voltaje, expresado en voltios, es
importante para que se produzcan en el electrolito una circulación de corriente, expresada en
Amperes (A) y con la superficie de la pieza a electro depositar, se sabrá qué valor de corriente deberá
aplicarse en función del baño electrolítico del que se trate.
La densidad de corriente varia para cada proceso, pero por lo general cuando es mayor la densidad
de corriente mayor será el riesgo de obtener quemado en los bordes de las piezas y las partes
salientes. Para obtener depósitos uniformes, es necesario que la densidad de corriente utilizada sea
constante. Al aumentar la densidad de corriente hasta cierto límite se aumenta la velocidad de
electrodeposición, sin embargo cuando la densidad de corriente excede el valor límite de trabajo
(densidad crítica) se presenta una marcada tendencia de depósitos rugosos, frágiles y mal adheridos.

3.3.3.2. TEMPERATURA

La temperatura de la solución afecta muchos factores del proceso de deposición como la velocidad
de depósito, la activación y descomposición de químicos delicados, la resistencia a la corrosión del
equipo y la habilidad del depósito de adherirse a la superficie. La temperatura aumenta la solubilidad
de las sales en el electrolito y su conductividad, obteniendo concentraciones más elevadas y a partir
de allí, mejores densidades de corriente. De modo general, la temperatura para electrodeposición es
de gran importancia y no debe descender a 15˚C.

3.3.3.3. AGITACIÓN

La agitación de la solución suministra al cátodo la sal que se va agotando con el paso de la corriente,
reduciendo además, el espesor de la película de líquido adherida, barre las burbujas gaseosas que
pueden ocasionar cráteres, mezcla la solución y evita la estratificación de soluciones sobre el fondo
de la celda. La agitación es la que permite utilizar una densidad de corriente más elevada pues
permite una mejor difusión de los iones metálicos. Cuando se tiene agitación rápida se presenta el
problema del desprendimiento de partículas del ánodo, al mismo tiempo que se agita las partes
sedimentadas del fondo de la celda, ocasionando depósitos porosos y rugosos.

3.3.3.4. CONCENTRACIÓN DE LAS SOLUCIONES

Ventajas:

 Una conductividad mayor.

 Una densidad de corriente más elevada.
 Una mayor eficiencia del proceso.

Desventajas:

 Costo más alto para la preparación de los procesos

 La tendencia de cristalización sobre las paredes de las celdas y de los electrodos.
 Probable descenso de la eficiencia catódica.

Por lo tanto, una solución electrolítica será conveniente cuando tenga pocos iones a depositar y
muchas moléculas no disociadas dispuestas a disociarse rápidamente, liberando de esta manera
iones metálicos que sustituirán a los que desaparecen de la película líquida catódica durante la
electrólisis.
Para obtener depósitos finamente cristalinos es preciso trabajar con soluciones de baja concentración
iónica, ya que ello da lugar a muchos núcleos de cristalización, y los cristales resultantes serán
pequeños.

3.3.3.5. DISPOSICIÓN DE LAS PIEZAS EN LAS CELDAS

Las piezas deben ubicarse de tal manera que queden dentro del flujo eléctrico de los electrodos y
bien cubierto por el electrolito, con el fin de que el depósito sea uniforme. Si las piezas a recubrir son
piezas huecas su ubicación debe ser tal que en ningún caso puedan retener burbujas de aire o gas
en el electrolito.

3.3.3.6. PREPARACIÓN DE LA SUPERFICIE PARA DEPOSICIÓN

Previo a cualquier tratamiento de electrodeposición, es imprescindible que se proceda a la limpieza

superficial, con el fin de eliminar toda presencia física o química de suciedad existente sobre la
superficie metálica a tratar. La eliminación de cualquier suciedad, es de gran importancia, ya que solo
se conseguirá un deposito durable, adherente y continuo, si esa superficie esta activada para recibir
los iones metálicos presentes en el proceso electrolítico.

Los métodos de limpieza son generalmente a base de solventes químicos, soluciones acidas o
alcalinas o emulsiones. El método que se utilizó en este trabajo fue el de soluciones acidas el cual se
emplea para la limpieza de piezas metálicas con óxidos en la superficie. Los ácidos más comunes
empleados en la disolución de estos óxidos son el sulfúrico para el acero, cobre, latón, crómico para
el aluminio, nítrico para aceros inoxidables, fosfórico para acero, aluminio, cobre y aceros inoxidables,
entre otros.

3.4. RECUBRIMIENTO DE COBRE

Los recubrimientos de cobre pueden efectuarse a partir

tanto de soluciones acidas como de básicas, es decir,
baños de cobre cúprico y cobre cuproso.
Emplea la industria galvánica, se emplean baños de cobre
con cianuro conjuntamente con baños de cobre ácidos. El
baño de cobre cianurado ofrece la ventaja de cobrear
cualquier metal, mientras que el baño acido no puede
aplicarse con efectividad sobre el hierro y el acero. En este
caso se suelen hacer un baño de cianuro y luego el de
acabado en baño acido.

Para la obtención de un recubrimiento cúprico hay que considerar que partiendo de baños distintos
siempre se obtendrá estructuras metálicas diferentes. Las electrodeposiciones de cobre más blandas
son las obtenidas con baños ácidos compuestos de sulfato de cobre y ácido sulfúrico. Los baños
cianurado ofrecen recubrimientos más o menos duros y frágiles pues la dureza viene determinada por
el contenido metálico y de cianuro, especialmente cuando el baño usa abrillantadores.

Considerando que la valencia determine el equivalente electroquímico de cobre, trabajando ambos

baños con una eficiencia catódica del 100 % como por ejemplo todos los baños de sales cúpricas,
particularmente en baños en sulfato de cobre, mientras los baños de cianuro la eficiencia no pasa de
70 % incluso llega a los 50 %. Otras ventajas de los baños cúpricos está en que las sales de estos
son más baratos que las de baños básicos, además los baños básicos, además los baños ácidos son
estables requiere mucho menor tiempo para su control.

El proceso es idéntico a cualquier otro tratamiento y presupone un perfecto desengrase.

Generalmente no es necesario neutralizar, dado que las piezas salen de un baño alcalino para entrar
a otro del mismo carácter. El material deberá ser enjuagado cuidadosamente antes del baño básico
de cobre.

3.4.1. BAÑOS ÁCIDOS

Los baños ácidos de cobre están compuestos por el sulfato de cobre y ácido sulfúrico. La sal
proporciona los iones metálicos y el ácido para reducir la resistividad, disminuir la concentración del
ion metálico, aumentar la corrosión del ánodo y evitar la precipitación de sales cuprosas o cúpricas.
Las concentraciones permisibles y las proporciones de sulfato de cobre de ácido están limitadas por
el hecho que el aumento de ácido sulfúrico disminuye la solubilidad de sulfato de cobre.

La utilización de baños de ácido de cobre es recomendable en la preparación de matrices, en el

recubrimiento metálico de madera o materiales petrolíferos y vidrio, o en todos aquellos casos en que
se requiera en corto tiempo un grueso precipitado libre casi completamente de hidrogeno. Estos
baños pueden aplicarse directamente sobre casi todos los metales, a excepción del hierro, zinc,
plomo y aluminio. Estos deben ser baños de cobre de cianurado o una limpieza básica y acida a la
pieza. Una tendencia indica un recubrimiento de alta densidad de corriente estas son inservibles. El
cobreado debe presentar un recubrimiento tenga siempre un color rojo carne claro.

3.4.1.1. ÁNODO

El ánodo deben ser de cobre o cable de cobre de 2.4 mm de diámetro enrollado en una placa a lo
largo.

3.4.1.2. SOLUCIONES EMPLEADAS

a) Sulfato de cobre 200 g/l

b) Ácido sulfúrico 50 g/l

3.4.1.3. CONDICIONES OPERATIVAS

El baño acido funciona a una temperatura que oscilan entra 20 a 50 ºC con una densidad de corriente
de 1 a 4 A/dm^2. Sin agitación y a una temperatura de 20 ºC admite una densidad de corriente 1.5
A/dm^2.

3.5. RECUBRIMIENTOS DE CROMO (CROMADOS)

Los recubrimientos de cromo comercialmente se dividen en

dos grupos: decorativo y duro. Para el uso decorativo se
emplea una capa delgada sobre una capa más gruesa de
níquel (aprox. 1 − 3% del metal total depositado) y en el
cromo duro se depositan recubrimientos gruesos para ser
utilizados en aplicaciones de ingeniería que requieren
resistencia al desgaste. El espesor de las películas de cromo
en los recubrimientos decorativos se encuentra entre 0.1 −
1.0 [𝜇𝑚] aproximadamente. Aunque son películas
relativamente delgadas ofrecen las propiedades físicas y
químicas necesarias para su aplicación, es decir que la
apariencia del depósito se mantiene durante la exposición a la
intemperie ya que el cromo tiene una mínima tendencia a mancharse u oxidarse por la acción del
ambiente atmosférico, sin embargo la resistencia a la corrosión del sistema sustrato/recubrimiento
depende también de las películas de níquel y/o cobre que se depositan previas al cromo. En el caso
del cromo duro se depositan en películas gruesas que van de 10 [𝜇𝑚] en adelante y sin ningún
recubrimiento previo, estos recubrimientos presentan una excelente resistencia a la corrosión y al
desgaste sin embargo su apariencia puede ser mate y deben ser pulidos mecánicamente.

Los electro depósitos de cromo son usados casi exclusivamente como recubrimiento protector,
muchas de las partes de máquinas y herramientas son fabricadas de materiales más baratos
(sustrato) que el cromo pero que ofrecen las propiedades mecánicas necesarias, los sustratos
empleados comúnmente son acero, aleaciones de zinc, aleaciones de cobre, plásticos y aluminio,
todos recubiertos con películas de níquel o cobre y níquel, los aceros inoxidables también son
recubiertos algunas veces con cromo o níquel/cromo aunque solo para aplicaciones especiales.

En procesos industriales de electrodeposición de cromo en piezas metálicas conductoras consiste

principalmente en aplicar una capa de cobre, niquelado y por ultimo una capa muy delgada de cromo.
La capa de cobre se encarga de ofrecer una superficie que facilita la electrodeposición de níquel, el
cual posee una gran resistencia contra la corrosión finalmente, la capa de cromo brinda un acabado
decorativo de alta pureza y excelente protección contra la corrosión atmosférica.

Los recubrimientos de cromo se pueden obtener a partir de soluciones de cromo hexavalente o

trivalente, aunque esta última es menos empleada comercialmente. Los recubrimientos obtenidos a
partir de Cr+6 presentan un color blanco azulado mientras los de 𝐶𝑟 +3 presentan colores grises
(como acero inoxidable). El cromo no puede ser depositado a partir de soluciones que contengan
solamente iones crómicos 𝐶𝑟 6 o iones 𝐶𝑟 +3 en solución acuosa. En el caso del cromo hexavalente
deben estar presentes radicales ácidos que actúen como catalizador de la reacción de reducción,
mientras que a las soluciones trivalentes se deben incluir sustancias formadores de complejos que
permitan la reducción a cromo metálico. En la mayoría de los casos las propiedades físicas del cromo
trivalente son equivalentes a las que se obtienen por procesos de cromo micro poroso o micro
discontinuo en soluciones de cromo hexavalente.

El ácido crómico se descompone por la corriente eléctrica en cromo metálico que se deposita en el
cátodo y oxígeno que se desprende en el ánodo. El ácido crómico (en realidad es un anhídrido
soluble en agua) contiene aproximadamente un 50 % en cromo metálico, esto significa que para que
un litro de baño pierda solo un 10 % de concentración tienen que haberse depositado 15 gramos de
cromo. Lo cual equivale a recubrir una superficie de aproximadamente dos metros cuadrado con una
capa de cromo de 1 micras, más que suficiente para efectos decorativos.
Pero la utilización de un pre baño con objetivo de aumentar la eficiencia de la electrodeposición del
cromo mediante la activación de la superficie de la placa. En una rápida inmersión en una solución de
𝐶𝑟𝑂3 en agua con una concentración 20 [𝑔/𝑙] a una temperatura ambiente.

3.5.1. ÁNODO

Los ánodos se fabrican en plomo o mejor en una aleación de plomo-antimonio. También se pueden
realizar en grafito. Es conveniente aunque no imprescindible que el ánodo tenga al menos diez veces
más superficie que la de la pieza a recubrir, Para el recubrimiento en cromo duro, cuanto más cerca
este el ánodo del cátodo más uniforme es la distribución del cromo. En ese caso se recomienda que
ambos estén separados entre 2 𝑦 3 𝑐𝑚. Un ánodo que esté trabajando bien debe tener un color
grisáceo de óxido de plomo. Si el ánodo tiene un color amarillento es que se ha formado una capa de
cromado de plomo debido a que hay poca densidad de corriente. Conviene sacar los ánodos del
electrolito cuando no esté en operación.

3.5.2. SOLUCIONES EMPLEADAS

Baños para cromo duro

Tabla N°1

Acido crómico 250 gr/ litro

Ácido sulfúrico 250 gr /litro
Temperatura de trabajo de 36 a 45 ºC
Densidad de corriente de 6 a 12 A/dm2
Baños para cromo decorativo
Tabla N°2

Acido crómico comercial 250 a 400 gr/ litro

Ácido sulfúrico 1 a 2 gr /litro
Temperatura de trabajo de 45 a 65 ºC
Densidad de corriente de 15 a 50 A/dm2
3.5.3. CONDICIONES OPERATIVAS

3.5.3.1. CORRIENTE.

Para la electrólisis del cromo con una temperatura de 50 𝑎 60 [℃] tenemos que asumir una densidad
de corriente 20 𝑎 50 [𝐴/𝑑𝑚2 ]. A la pasiva aumenta la resistencia eléctrica del cromo y se disminuye la
adherencia de las capas subsiguientes.

3.5.3.2. VOLTAJE.

El voltaje está determinado por la configuración de la cuba y los electrodos. Lo que hay que controlar
es la intensidad. De cualquier manera el voltaje suele estar por debajo de los 7 voltios. El cromo duro
y el cromo brillante son exactamente iguales, lo único que ocurre es que la capa de cromo duro suele
ser mucho más gruesa y se aplican mayores intensidades para que este mayor espesor se consiga
antes.

4. METODOLOGIA EXPERIMENTAL

BAÑO DESENGRASANTE

1. Aforar una solución de 100 ml de hidróxido de sodio 0,5 [𝑀].

2. En un vaso de precipitados de 100 ml depositar 80 ml de la solución de hidróxido de sodio
preparada.
3. Depositar el objeto metálico por completo en el vaso de precipitados con la solución de
hidróxido de sodio por un tiempo de 5 minutos agitando la misma
4. Sacar el metal de la solución y lavarlo con agua destilada.

PRE BAÑO DE ÁCIDO SULFÚRICO ANTES DE LA DEPOSICIÓN DE COBRE

5. Aforar una solución de 100 ml de ácido sulfúrico 2 [𝑀].

6. En un vaso de precipitados de 100 ml depositar 80 ml de la solución de ácido sulfúrico
preparada.
7. Calentar la solución hasta una temperatura de 20 [℃].
8. Depositar el objeto metálico por completo en el vaso de precipitados con la solución de ácido
sulfúrico por un tiempo de 5 minutos.
9. Después de este tiempo retirar el metal de la solución y realizar una limpieza en otro vaso de
precipitados con agua destilada.

Nota: antes de depositar el objeto metálico en el pre baño este debe estar totalmente lijado y libre de
impurezas externas.

ELECTRODEPOSICIÓN DE COBRE – BAÑO ACIDO

Se optó por realizar una baño acido de cobre, dado que los materiales necesitados son los de fácil
acceso comparando con el baño alcalino.
 1. Pesar 25 gramos de 𝐶𝑢𝑆𝑂4 ∙ 5𝐻2 𝑂 y aforar hasta 100 ml, consiguiendo con esto una solución
de una concentración 1 [𝑀] de 𝐶𝑢𝑆𝑂4 .
2. Depositar los 100 ml de la solución en un vaso de precipitados de 100 ml.
3. Agregar a la solución de sulfato de cobre una cantidad de 7,5 g 𝐻2 𝑆𝑂4 .
4. Utilizar como ánodo una pieza de cobre y como cátodo el metal en el cual se realizó el pre
baño de ácidosulfúrico.
5. Para la electrodeposición utilizar una densidad de corriente de 12 [𝐴⁄ 2 ] y el voltaje no debe
𝑑𝑚
sobrepasar los 6 [𝑉] . Mantener la temperatura del baño entre 25 [℃] y el tiempo de la
electrolisis de 15 – 20 minutos.
6. Después de la electrolisis secar el metal.

PRE BAÑO DE ÁCIDO CRÓMICO ANTES DE LA DEPOSICIÓN DE CROMO

El objetivo de esta etapa es aumentar la eficacia de la electrodeposición de cromo mediante la

activación de la superficie de la placa.

1. Aforar una solución de 100 ml de ácido crómico 0,2 [𝑀].

2. En un vaso de precipitados de 100 ml depositar 80 ml de la solución preparada.
3. Introducir el metal (electro depositado de cobre) a la solución por un tiempo de 5 minutos.
4. Después de pasados 5 minutos retirar el metal y llevarlo al baño correspondiente para la
electrodeposición de cromo.

ELECTRODEPOSICIÓN DE CROMO – BAÑO ACIDO

1. Preparar como baño 100 ml

de solución de ácido crómico
1,5 [𝑀].
2. Agregar al baño 0,3 − 0,5 𝑚𝑙 de
ácido sulfúrico
concentrado al 97 %.
3. Utilizar como ánodo una pieza de grafito o una pieza del plomo, y el cátodo el metal con cobre
en el cual se realizó el pre baño de ácidocrómico.
4. Utilizar como condiciones operacionales para un depósito de cromo duro.

5. Enjuagar con alcohol metílico o agua destilada y luego secar.

4.1. MATERIALES, EQUIPOS Y REACTIVOS

4.1.1. MATERIALES
Tabla N°3
Cantidad Materiales Características
4 Vaso de precipitados 100 ml – F/B
2 Vaso de precipitados 250 ml – F/B
4 Matraz aforado 100 ml
1 Vidrio de reloj
1 Piseta 500 ml
 1 Espátula
1 Cepillo de limpieza
2 Pipeta graduada 10 ml
2 Pro pipeta
1 Termómetro De mercurio
1 Jarra de metal
2 Lija De metal
1 Cronometro
1 Varilla de vidrio
1 Probeta graduadaTabla N°4 50 ml
Metales diversos a depositar
4.1.2. EQUIPOS
Tabla N°4

Equipo Componentes
Electrolisis Fuente de corriente continua, cables
conectores, pinzas cocodrilo, electrodo de
cobre y electrodo de grafito.
Determinación Balanza eléctrica
de masa
Calentador Hornilla eléctrica

4.1.3. REACTIVOS
Tabla N°5

Reactivo Formula molecular

Sulfato de cobre pentahidratado 𝐶𝑢𝑆𝑂4 ∗ 5𝐻2 𝑂
Ácido sulfúrico 𝐻2 𝑆𝑂4
Hidróxido de sodio 𝑁𝑎𝑂𝐻
Acido crómico 𝐻2 𝐶𝑟𝑂4

5. DATOS, CALCULOS Y RESULTADOS

5.1. DATOS

5.1.1. OBJETOS ANTES DEL PROCESO EXPERIMENTAL

CLAVO

Masa inicial 𝒎𝒐 = 𝟓, 𝟒𝟒 [𝒈]

Dimensiones ℎ = 3 [𝑐𝑚] ; 𝐷 = 3 [𝑚𝑚]

ARANDELA PEQUEÑA

Masa inicial 𝒎𝒐 = 𝟔, 𝟔𝟏 [𝒈]

Dimensiones 𝐷𝑒 = 1,9 [𝑐𝑚] ; 𝐷𝑖 = 0,9 [𝑐𝑚]

ARANDELA GRANDE

Masa inicial 𝒎𝒐 = 𝟐𝟎, 𝟔𝟏[𝒈]

 Dimensiones 𝐷𝑒 = 4,4 [𝑐𝑚] ; 𝐷𝑖 = 1,1 [𝑐𝑚]

5.1.2. OBJETOS – PROCESO DE COBREADO

CLAVO

Masa final del 𝒎𝒇−𝑪𝒖 = 𝟓, 𝟒𝟒 [𝒈]

proceso

Consideraciones operacionales
Intensidad de corriente 𝐼 = 0,08 [𝐴]
Volteje proporcionado 𝑉 = 0,5 [𝑉]
Tiempo de electrolisis 𝑡 = 15 [𝑠𝑒𝑔]

ARANDELA PEQUEÑA

Masa final del 𝒎𝒇−𝑪𝒖 = 𝟔, 𝟔𝟏 [𝒈]

proceso

Consideraciones operacionales
Intensidad de corriente 𝐼 = 0,05 [𝐴]
Volteje proporcionado 𝑉 = 0,5 [𝑉]
Tiempo de electrolisis 𝑡 = 15 [𝑠𝑒𝑔]

ARANDELA GRANDE

Masa final del 𝒎𝒇−𝑪𝒖 = 𝟐𝟎, 𝟔𝟏 [𝒈]

proceso

Consideraciones operacionales
Intensidad de corriente 𝐼 = 0,07 [𝐴]
Volteje proporcionado 𝑉 = 0,5 [𝑉]
Tiempo de electrolisis 𝑡 = 20 [𝑠𝑒𝑔]

5.1.3. OBJETOS – PROCESO DE CROMO

CLAVO

Masa final del 𝒎𝒇 = 𝟓, 𝟒𝟓 [𝒈]

proceso

Consideraciones operacionales
Intensidad de corriente 𝐼 = 0,53 [𝐴]
Volteje proporcionado 𝑉 = 2,4 [𝑉]
Tiempo de electrolisis 𝑡 = 5 [𝑚𝑖𝑛]
Temperatura del baño 𝑇 = 50 [℃]

ARANDELA PEQUEÑA

Masa final del 𝒎𝒇 = 𝟔, 𝟔𝟑 [𝒈]

proceso
 Consideraciones operacionales
Intensidad de corriente 𝐼 = 0,53 [𝐴]
Volteje proporcionado 𝑉 = 2,4[𝑉]
Tiempo de electrolisis 𝑡 = 8[𝑚𝑖𝑛]
Temperatura del baño 𝑇 = 60 [℃]

ARANDELA GRANDE

Masa final del 𝒎𝒇 = 𝟐𝟎, 𝟔𝟐[𝒈]

proceso

Consideraciones operacionales
Intensidad de corriente 𝐼 = 0,45[𝐴]
Volteje proporcionado 𝑉 = 2,2[𝑉]
Tiempo de electrolisis 𝑡 = 5[𝑚𝑖𝑛]
Temperatura del baño 𝑇 = 52 [℃]

5.2. CALCULOS

PROCESO DE DEPOSICION DEL COBRE

En el proceso de deposición del cobre sobre los objetos de hierro, estos siguen la ecuación de
reducción:
𝐶𝑢+2 + 2𝑒 − → 𝐶𝑢0

Con esta ecuación y los valores recolectados en laboratorio, se procederá al determinar la cantidad
de cobre depositado sobre los objetos, utilizando las ecuaciones conocidas de:

𝑞 =𝐼∗𝑡

1 𝑚𝑜𝑙 𝑒 − 1 𝑚𝑜𝑙 𝑒𝑙𝑒𝑚𝑒𝑛𝑡𝑜 𝑝𝑟𝑜𝑑𝑢𝑐𝑖𝑑𝑜 # [𝑔] 𝑑𝑒 𝑒𝑙𝑒𝑚𝑒𝑛𝑡𝑜 𝑝𝑟𝑜𝑑𝑢𝑐𝑖𝑑𝑜

𝑚𝐷 = 𝑞 × × −
×
96500 [𝐶] # 𝑚𝑜𝑙 𝑒 𝑝𝑒𝑟𝑑𝑖𝑑𝑜𝑠 𝑜 𝑔𝑎𝑛𝑎𝑑𝑜𝑠 1 𝑚𝑜𝑙 𝑒𝑙𝑒𝑚𝑒𝑛𝑡𝑜 𝑝𝑟𝑜𝑑𝑢𝑐𝑖𝑑𝑜

CLAVO
𝑞 = 0,08 [𝐴] ∗ 15 [𝑠𝑒𝑔] → 𝑞 = 1,2 [𝐶]

1 𝑚𝑜𝑙 𝑒 − 1 𝑚𝑜𝑙 𝐶𝑢0 64 [𝑔]𝐶𝑢0

𝑚𝐷 = 1,2 [𝐶] × × × → 𝑚𝐷 = 0,0004 [𝑔]𝐶𝑢0
96500 [𝐶] 2 𝑚𝑜𝑙 𝑒 − 1 𝑚𝑜𝑙 𝐶𝑢0

ARANDELA PEQUEÑA

𝑞 = 0,05 [𝐴] ∗ 15 [𝑠𝑒𝑔] → 𝑞 = 0,75 [𝐶]

1 𝑚𝑜𝑙 𝑒 − 1 𝑚𝑜𝑙 𝐶𝑢0 64 [𝑔]𝐶𝑢0

𝑚𝐷 = 0,75 [𝐶] × × × → 𝑚𝐷 = 0,0003 [𝑔]𝐶𝑢0
96500 [𝐶] 2 𝑚𝑜𝑙 𝑒 − 1 𝑚𝑜𝑙 𝐶𝑢0

ARANDELA GRANDE
 𝑞 = 0,07 [𝐴] ∗ 20 [𝑠𝑒𝑔] → 𝑞 = 1,4 [𝐶]

1 𝑚𝑜𝑙 𝑒 − 1 𝑚𝑜𝑙 𝐶𝑢0 64 [𝑔]𝐶𝑢0

𝑚𝐷 = 1,4 [𝐶] × × × → 𝑚𝐷 = 0,0005 [𝑔]𝐶𝑢0
96500 [𝐶] 2 𝑚𝑜𝑙 𝑒 − 1 𝑚𝑜𝑙 𝐶𝑢0

PROCESO DE DEPOSICION DEL CROMO

Para el proceso de electrolisis del cromo la ecuación de la misma es:

6 𝑒 − + 8 𝐻 + + 𝐶𝑟𝑂4 = → 𝐶𝑟 0 + 4 𝐻2 𝑂

CLAVO
60 [𝑠𝑒𝑔]
𝑞 = 0,53 [𝐴] ∗ 5 [𝑚𝑖𝑛] ∗ → 𝑞 = 159 [𝐶]
1 [𝑚𝑖𝑛]

1 𝑚𝑜𝑙 𝑒 − 1 𝑚𝑜𝑙 𝐶𝑟 0 52 [𝑔]𝐶𝑟 0

𝑚𝐷 = 159 [𝐶] × × × → 𝑚𝐷 = 0,014 [𝑔]𝐶𝑟 0
96500 [𝐶] 6 𝑚𝑜𝑙 𝑒 − 1 𝑚𝑜𝑙 𝐶𝑟 0

ARANDELA PEQUEÑA

60 [𝑠𝑒𝑔]
𝑞 = 0,53 [𝐴] ∗ 8[𝑚𝑖𝑛] ∗ → 𝑞 = 254,4[𝐶]
1 [𝑚𝑖𝑛]

1 𝑚𝑜𝑙 𝑒 − 1 𝑚𝑜𝑙 𝐶𝑟 0 52 [𝑔]𝐶𝑟 0

𝑚𝐷 = 254,4[𝐶] × × × → 𝑚𝐷 = 0,023[𝑔]𝐶𝑟 0
96500 [𝐶] 6 𝑚𝑜𝑙 𝑒 − 1 𝑚𝑜𝑙 𝐶𝑟 0

ARANDELA GRANDE

60 [𝑠𝑒𝑔]
𝑞 = 0,45[𝐴] ∗ 5 [𝑚𝑖𝑛] ∗ → 𝑞 = 135[𝐶]
1 [𝑚𝑖𝑛]

1 𝑚𝑜𝑙 𝑒 − 1 𝑚𝑜𝑙 𝐶𝑟 0 52 [𝑔]𝐶𝑟 0

𝑚𝐷 = 135[𝐶] × × × → 𝑚𝐷 = 0,012[𝑔]𝐶𝑟 0
96500 [𝐶] 6 𝑚𝑜𝑙 𝑒 − 1 𝑚𝑜𝑙 𝐶𝑟 0

5.3. RESULTADOS

El proceso que nos interesa analizar es del cromado, razón por la cual solo se calculara para esta el
rendimiento para cada objeto metálico.
Para calcular el rendimiento de la electrolisis se utilizara la ecuación:

𝑚𝑎𝑠𝑎 𝑟𝑒𝑎𝑙
%𝑅 = × 100 %
𝑚𝑎𝑠𝑎 𝑡𝑒𝑜𝑟𝑖𝑐𝑎

Donde la masa real será calculada por diferencia de peso inicial y final, con la ecuación:

𝑚𝑟 = 𝑚𝑓 − 𝑚𝑜
CLAVO
 𝑚𝑟−𝐶𝑙𝑎𝑣𝑜 = 5,45 [𝑔] − 5,44 [𝑔] → 𝑚𝑟−𝐶𝑙𝑎𝑣𝑜 = 0,01 [𝑔]

Sabiendo que la masa teórica de cromo depositada es de: 𝑚𝑡−𝐶𝑙𝑎𝑣𝑜 = 0,014 [𝑔]

0,01 [𝑔]
%𝑅 = × 100 %
0,014 [𝑔]

% 𝑅 = 71,4 %
ARANDELA PEQUEÑA

𝑚𝑟−𝐴𝑟. 𝑃𝑒𝑞𝑢𝑒ñ𝑎 = 6,63[𝑔] − 6,61[𝑔] → 𝑚𝑟−𝐴𝑟. 𝑃𝑒𝑞𝑢𝑒ñ𝑎 = 0,02[𝑔]

Sabiendo que la masa teórica de cromo depositada es de: 𝑚𝑡−𝐴𝑟. 𝑃𝑒𝑞𝑢𝑒ñ𝑎 = 0,023 [𝑔]

0,02[𝑔]
%𝑅 = × 100 %
0,023[𝑔]

% 𝑅 = 86,9 %

ARANDELA GRANDE

𝑚𝑟−𝐴𝑟. 𝐺𝑟𝑎𝑛𝑑𝑒 = 20,61[𝑔] − 20,62[𝑔] → 𝑚𝑟−𝐴𝑟. 𝐺𝑟𝑎𝑛𝑑𝑒 = 0,01[𝑔]

Sabiendo que la masa teórica de cromo depositada es de:𝑚𝑡−𝐴𝑟. 𝐺𝑟𝑎𝑛𝑑𝑒 = 0,012[𝑔]

0,01[𝑔]
%𝑅 = × 100 %
0,012[𝑔]

% 𝑅 = 83 %

6. DISCUSION DE RESULTADOS

 Durante el proceso de cromado, en una primera instancia se utilizó en ánodo de plomo ya que
a investigaciones realizadas este produciría mejores resultados, pero fue descartada dado que
este producía mucho oxido y perjudicando nuestro experimento, es por esta razón que se
utilizó un ánodo de grafito, afectando en el rendimiento de la reacción.

 El tiempo electrodeposición de cobre es pequeño, porqué solo se necesita para nuestro

experimento una capa delgada de cobre, donde se realizara posteriormente la
electrodeposición del cromo.

 No se consiguió un cromo depositado bastante brillante, ya que para lograr esto se tendría
que haber agregado al baño de cromo abrillantantes para lograr este propósito.

 Se cambiaron las consideraciones experimentales de la electrolisis de cobre y cromo ya que

en repetidos tratamientos se cometieron errores y para lograr nuestro objetivo se tuvo que
realizar estos cambias, y a fin de cuentas si beneficiaron a nuestro experimento.

7. CONCLUSIONES
8. BIBLIOGRAFIA

 Alcance de la galvanotecnia, Arequipa, Perú 1989

 Perspectiva general del cromado industrial: (Características físicas de tipo de bromado),

Química- Física, Facultad de Ciencias, por ENRIQUE JULVE.

 Obtención y caracterización electroquímica y estructural de recubrimientos de cromo

decorativo a partir de soluciones de cromo trivalente I.Q. OSCAR JAVIER SUAREZ GARCIA-
CODIGO 291432

 Diseño, construcción y puesta en marcha de un equipo de electrodeposición de cromo para el

laboratorio de ingeniería química NELSON ARTAVIA VEGA

 Tratamiento electroquímico para la remoción de metales pesados en residuos líquidos

peligrosos generados en los laboratorios de docencia de la universidad del Cauca, JULIO
CESAR GIL SOLANO.

 https://es.wikibooks.org/wiki/Ingenier%C3%ADa_de_fabricaci%C3%B3n/Cromado

 http://tecnicadelcromado.blogspot.com/