INGENIERIA ESPECIALIZADA

Consultores: Edwin de Jesús Alfaro

Jorge Leonardo Alape Herrera
Yeni Paola Castro Solarte
Ruby Catalina Monsalve Rocha
Yesica Andrea Gomez Gonzalez

Modelo Conceptual de la Situación Planteada

AMD busca la implementación de una nueva tecnología en la fabricación de circuitos integrados y

está siendo probada en una planta piloto durante dos meses para ver los tiempos arrojados por
estación, los cuales son objeto de análisis y estudio, para dar al gerente un informe sobre la
viabilidad del resultado esperado con esta implementación.

Se tiene en cuenta toda la información para realizar el diagrama de flujo de la compañía con la
situación actual, de este modo a estos datos de entrada se le realizarán los análisis estadísticos para
finalmente establecer los parámetros a utilizar en el modelo de simulación.

Representación Gráfica

Gráfico 1. Representación gráfica del proceso productivo de la compañía de AMD

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Descripción construcción modelo sistema actual en Arena®

Módulo de Arena
Descripción del Módulo Empleado
Empleado
Se usó para simular la entrada de los empleados, teniendo en cuenta que
son cuatro, uno por turno y cada turno es de seis horas.
Se crearon diez soportes, pero ingresa uno, dado que estos se vuelven a
reciclar el modulo no vuelve a funcionar, pero se requiere para correr el
simulador.

Son los retrasos que se deben tener en cuenta, como por ejemplo el
movimiento del operario que lleva el soporte para unirlo con la Waffer y
ponerlo en la estación cleaning o la trasferencia en la banda transportadora
de una estación a otra. Todos son iguales excepto el ultimo que es el doble
ya que se recorre el doble de distancia a la misma velocidad.
Cada uno de estos representa cada una de las maquinas o procesos, aquí se
representan todas las estaciones (Cleaning, Oxidation, Lithography, Etching,
Implantation y Photoresist Strip), a cada uno se le ingresa los datos a tomar,
funcionar y liberar, además se le incluye la distribución de probabilidades.
Este se usó para dividir el soporte de la Waffer, ya que el soporte se tiene que
devolver y la waffer va a bodega.

Con este módulo se simula la bodega con el fin de determinar que se ha

finalizado el proceso, además sin este módulo no es posible correr la
simulación.
Tabla 1. Descripción de los módulos empleados en la construcción del modelo de simulación del sistema actual

Parámetros de corrida del modelo del sistema actual y los de los proveedores en
Arena®

Nivel de Nivel de Precisión Longitud de la corrida Número de

Modelo
confianza (error máximo) (horas) réplicas
Sistema
Actual (10
soportes)

Propuesta
Mejora
(Número
óptimo de
soportes)
Tabla 2. Parámetros de corrida de los modelos de simulación del sistema actual y la propuesta

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Resultados del Modelo de Simulación (Sistema con 10 soportes AK)

Intervalo de Confianza
Indicadores
Promedio Half Width Lim. Inferior Lim. Superior

Tiempo de ciclo promedio de una

256.31 0,87 255,44 257,18
Waffer

Tiempo promedio de transferencia

20,5 0 20,5 20,5
de una Waffer

Tiempo promedio de fabricación de

256,31 0,87 255,44 257,18
una Waffer

Tiempo promedio total de espera de

123,97 0,78 123,19 124,75
una Waffer
Tiempo promedio de espera, de
una Waffer, en la estación cuello de 3,42 0,04 3.38 3,46
botella
Factor de utilización de la estación
0,80% 0 0,80% 0,80%
de Cleaning

Factor de utilización de la estación

0,72% 0 0,72% 0,72%
de Oxidation

Factor de utilización de la estación

0,97% 0 0,97% 0,97%
de Lithography

Factor de utilización de la estación

0,75% 0 0,75% 0,75%
de Etching

Factor de utilización de la estación

0,60% 0 0,60% 0,60%
de Ion Implantation

Factor de utilización de la estación

0,56% 0 0,56% 0,56%
de Photoresist Strip

Throughput (waffers/hora) 2,28 0.01 2,27 2,29

Tabla 3. Resumen resultados definitivos del modelo de simulación sistema actual

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Resultados del Modelo de Simulación (11 soportes)

Intervalo de Confianza
Indicadores
Promedio Half Width Lim. Inferior Lim. Superior

Tiempo de ciclo promedio de una

259,71 0,79 258,92 260,5
Waffer

Tiempo promedio de transferencia

20,5 0 20,5 20,5
de una Waffer

Tiempo promedio de fabricación de

279,5 0,79 278,71 280,29
una Waffer

Tiempo promedio total de espera de

147,12 0,69 146,43 147,81
una Waffer
Tiempo promedio de espera, de
una Waffer, en la estación cuello de 4,24 0,03 4,21 4,27
botella
Factor de utilización de la estación
0,81% 0 0,81% 0,81%
de Cleaning

Factor de utilización de la estación

0,72% 0 0,72% 0,72%
de Oxidation

Factor de utilización de la estación

0,97% 0 0,97% 0,97%
de Lithography

Factor de utilización de la estación

0,75% 0 0,75% 0,75%
de Etching

Factor de utilización de la estación

0,60% 0 0,60% 0,60%
de Ion Implantation

Factor de utilización de la estación

0,56% 0 0,56% 0,56%
de Photoresist Strip

Throughput (waffers/hora) 2,28 0.01 2,27 2,29

Tabla 4. Resumen resultados definitivos del modelo de simulación con el número óptimo de soportes

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Resultados Análisis de Sensibilidad para determinar el número de óptimo de soportes

Throughput
Número de Soportes AK Promedio
(waffers/hora)
1 0.4617
2 0.8895
3 1.2766
4 1.6057
5 1.8703
6 2.0562
7 2.2899
8 2.2962
9 2.3715
10 2.2627
11 2.3897
12 2.4027
13 2.4001
14 2.4066
15 2.4089
16 2.4129
17 2.4199
18 2.4298
19 2.4234
20 2.4164
Tabla 5. Resumen del Throughput del modelo de simulación variando el número de soportes

Conclusiones
 Utilizando la herramienta Anova del Output analizar se identifico que la mejor modificación
que se puede hacer en el proceso es el aumento de un soporte pasando de 10 a 11ya que
los datos arrojados por la simulación realizada muestran que con 11 soporte las estación
Lithography muestra un uso del 97 % y en las condiciones actuales del proceso aumentar más
de 11 soportes generaría una sobresaturación a la estación mencionada.
 Se recomienda validar el proceso ejecutado en la estación Lithography ya que este
representa el mas alto porcentaje de ocupación generando un desequilibrio en los
porcentajes de las demás estaciones obstruyendo el aumento de la eficiencia en ejecución
del proceso general.

1. Según el modelo obtenido se recomienda a la compañía AMD trabajar su línea de

producción con 11 soportes AK.

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2. El tiempo de calentamiento y la corrida total para estabilizar el modelo varia, de acuerdo al

tiempo analizado y de los objetos a medir.

Referencias

Material Modulo. SIMULACION, Politécnico Grancolombiano, Semestre 1 – 2019, Tutor Gomez

Aldana Jenny Maribel, Cartillas y Lecturas Complementarias, Semanas 1 a 5.

Simulación Arena. Sitio Web. Tomado de https://www.arenasimulation.com/

Orientación para realizar la simulación. Sitio Web. Tomado de

http://disi.unal.edu.co/profesores/jeortizt/Sim/Archivos/02.Arena/02C.%20CursoARENA_3_Inp
ut OutputAnalizersActualizado(JorgeOrtizT).pdf

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