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ASIGNATURA
Electrónica
TRABAJO:
Evidencia de producto U3: Transistores de efecto campo
ALUMNOS:
GRADO:
6to cuatrimestre
GRUPO:
A1-6
MENTOR
Oscar Rafael Hernández
Transistores de efecto campo. pg. 1
INTRODUCCIÓN
Transistor de efecto de campo (FET) son dispositivos semiconductores donde el control de la corriente se
realiza mediante un campo eléctrico. Tienen las siguientes características:
- Dispositivo unipolar: un único tipo de portadores de carga
- Ocupa menos espacio en un circuito integrado que el bipolar, lo que supone una gran ventaja
para aplicaciones de microelectrónica
- Tienen una gran impedancia de entrada (del orden de MΩ)
La corriente entre Drenador (D) y Fuente (S) se controla mediante el campo creado por la polarización
inversa aplicada a la puerta (G).
Transistores de efecto campo pg. 2
Los transistores de efecto de campo son dispositivos tri-terminales en los que la corriente principal
se controla mediante una tensión. Las características principales son:
Hay dos familias de transistores de efecto de campo: los JFET y los MOSFET. Pese a que el concepto
básico de los FET se conocía ya en 1930, estos dispositivos sólo empezaron a fabricarse
comercialmente a partir de la década de los 60. Y a partir de los 80 los transistores de tipo MOSFET
han alcanzado una enorme popularidad. Comparados con los BJT, los transistores MOS ocupan
menos espacio, es decir, dentro de un circuito integrado puede incorporase un número mayor. Además,
su proceso de fabricación es también más simple. Además, existe un gran número de funciones
lógicas que pueden ser implementadas únicamente con transistores MOS (sin resistencias ni diodos).
Esto ha hecho del transistor MOS el componente estrella de la electrónica digital.
Un JFET de canal N se fabrica difundiendo una región de tipo P en un canal de tipo N, tal y como se
muestra en la Figura 1. A ambos lados del canal se conectan los terminales de fuente (S, Source) y drenaje
(D, Drain). El tercer terminal se denomina puerta (G, Gate).
D D
G G
S S
Canal N Canal P
+
IG ID
VDS
+ VDD
IS
VGG VGS
_ _
Para VGS = 0:
• VDS pequeña (<VP ): Canal casi completamente abierto => resistencia pequeña y aproximadamente
constante => comportamiento aproximadamente lineal => REGIÓN ÓHMICA
• VDS cercana a VP : canal se va cerrando por un punto y la resistencia aumenta con la tensión =>
comportamiento no lineal => REGIÓN DE CONTRACCIÓN
• VDS > VP : La resistencia rds es grande y aproximadamente constante => JFET fuente de corriente =>
REGIÓN DE SATURACIÓN
• VDS muy elevada: Conducción inversa en las uniones, ID se dispara y se produce fácilmente la
destrucción del JFET => REGIÓN DE RUPTURA
Transistores de efecto campo. pg. 5
ZONAS DE FUNCIONAMIENTO
RUPTURA:
VDS elevada
|VGS|= |Vp|
VDS
Región óhmica
Valores pequeños de VDS |VDS| < | |Vp| – |VGS| |
1 L
Resistencia óhmica: rds =
q. N D . µ n 2ac
Valores usuales de la resistencia: de 100 Ω a 100 KΩ -> rds > Rcesat (transistor bipolar)
ID = f(VDS) -> función lineal
Cada VGS define un valor de resistencia distinto
Transistores de efecto campo. pg. 6
Los transistores de efecto campo de unión JFET estudiados hasta ahora presentan la característica de que
con VGS = 0, ID no es nula cuando VDS ≠ 0.
Los transistores de efecto campo de puerta aislada (de acumulación) tienen ID nula con VGS = 0, lo cual es
interesante para trabajar en conmutación. Estos transistores de efecto campo de puerta aislada se suelen
llamar MOS (Metal Oxide Sc) y tienen una impedancia de entrada elevada, del orden de 1010 ÷ 1015 Ω
Tipos:
- Canal P -> sustrato N; impurificaciones P+
- Canal N -> sustrato P; impurificaciones N+
TRANSISTOR MOSFET
Las prestaciones del transistor MOSFET son similares a las del JFET, aunque su principio
de operación y su estructura interna son diferentes. Existen cuatro tipos de transistores
MOS:
• Enriquecimiento de canal N
• Enriquecimiento de canal P
• Empobrecimiento de canal N
• Empobrecimiento de canal P
La característica constructiva común a todos los tipos de transistor MOS es que el terminal de puerta
(G) está formado por una estructura de tipo Metal/Óxido/Semiconductor. El óxido es aislante, con lo
que la corriente de puerta es prácticamente nula, mucho menor que en los JFET. Por ello, los MOS
se emplean para tratar señales de muy baja potencia.
Transistores de efecto campo. pg. 8
MOS de acumulación
|VGS|
|VDS|
|BV|
Región de corte: |VGS| < |VTH|
Tensión de ruptura
Transistores de efecto campo pg. 9
1) Son dispositivos controlados por tensión con una impedancia de entrada muy elevada (107 a
1012ohmios).
3) Los FET son más estables con la temperatura que los BJT.
4) Los FET son más fáciles de fabricar que los BJT pues precisan menos pasos y permiten integrar
más dispositivos en un CI.
5) Los FET se comportan como resistencias controlados por tensión valores pequeños de tensión
drenaje-fuente.
6) La alta impedancia de entrada de los FET les permite retener carga el tiempo suficiente para
permitir su utilización como elementos de almacenamiento.
7) Los FET de potencia pueden disipar una potencia mayor y conmutar corrientes grandes.
1) Los FET presentan una respuesta en frecuencia pobre debido a la alta capacidad de entrada.
2) Los FET presentan una linealidad muy pobre, y en general son menos lineales que los BJT.
3) Los FET se pueden dañar debido a la electricidad estática. En este apartado se estudiarán
brevemente las características de ambos dispositivos orientadas principalmente a sus aplicaciones
analógicas.
Transistores de efecto campo pg. 10
MOSFET
Ejemplo practico: Para el circuito dado en la siguiente figura, calcular VGS, ID y VDS.
VDD =12V
VGS =8V
VT = 3 v
ID = K(VGS-VT)2
Sustituyendo valores de VGS tenemos,
Esto es una ecuación de segundo grado y se puede resolver usando la fórmula habitual.
960xI2D-9.64xID+0.01944=0 donde,
Vds=Vdd-IdxRd=12-7.2477×10-3x2x103=12-14.495=-2.495
En la práctica, el valor de VDS debe ser positivo, por lo tanto, Id =7.2477mA, no es válido.
Transistores de efecto campo pg. 11
(/(&75Ï1,&$%È6,&$
','4%+%+15FGVTCPUKUVQTGU,('6
3UREOHPD
D Considerar un transistor JFET de canal n cuyo terminal de puerta (G) está unido al
demostrar que:
ª § Y · § Y ·º
L N 9 S Y Y , '66 « ¨¨ ¨ », para ( d Yd 9S
« © 9 S ¸¹̧ ¨© 9 SW ¸¹̧ »
¬ ¼
L N 9 , para Yt 9S
S '66
,
6ROXFLyQ E R'6 f
3UREOHPD
Se desea utilizar un transistor JFET de canal n como una resistencia controlada por
tensión cuya característica de transferencia sea prácticamente lineal, para lo cual se
aplica al dispositivo una tensión VDS pequeña. Demostrar que el valor de la resistencia
§ 9 ·
variable del dispositivo rDS es:
¨ ¸
¨ . 9 ¸
S
9 © ¹
U
, § 9 ·
'6 S
¨ ¸
'6
¨ 9 ¸
' *6
© ¹ S
Hallar el rango de valores de rDS que se obtienen variando VGS desde 0 hasta 0.9Vp,
suponiendo que Vp=-4V e K=1mA/V2.
6ROXFLyQ N: d 5'6 d N:
Transistores de efecto campo pg. 15
Control De
Velocidad PWM
Para El Control
De Motores De
CC
Control de ventilador y
protector térmico para
amplificadores