IONIZACIÓN

3.1 Definición
Es un proceso en donde se generan iones (un átomo o una molécula que tiene carga
eléctrica a partir de ganar o de perder electrones).
Los iones cargados negativamente, debido a que ganan electrones, se denominan aniones
y los cargados positivamente, debido a la pérdida de electrones, se conocen como
cationes.
3.2 Tipos de ionización en tratamiento superficial:
Tratamientos con fuentes de plasma:
El plasma está considerado como el cuarto estado de la materia, que consiste en la
ionización (parcial o total) de un gas o mezcla de gases, gracias a la aplicación de un
campo eléctrico entre dos electrodos. Se generan especies activas (electrones, iones) que
interaccionan con las capas exteriores del sólido, modificándolo a nivel superficial.
Los tratamientos de materiales por plasma utilizan gas ionizado para generar
recubrimientos o modificar las propiedades superficiales de un material. “Las técnicas de
recubrimientos más conocidas son PVD y CVD asistidas por plasma, de amplio uso en
microelectrónica, óptica y recubrimientos duros sobre herramientas de corte (nitruro de
titanio, por ejemplo).” (Universidad Tecnológica Nacional, pág. 11) Estas técnicas
mediante la difusión intersticial logra que elementos como el nitrógeno pueda difundirse
dentro del material formando compuestos como el nitruro de hierro que provee dureza y
resistencia a la fatiga, además se puede generar barreras contra la corrosión.
Técnica de recubrimiento PVD:
Esta técnica está basada en la formación de un vapor del material que se pretende
depositar en capa delgada. Los tres tipos básicos de procesos de deposición física de
vapor son: deposición de vacío, chisporroteo o pulverización catódica y deposición
iónica. Estos procesos se realizan en alto vacío y a temperaturas que van de 200 a 500
°C (400 a 900 °F). La deposición de vacío consiste en que

“El metal se evapora a una temperatura alta en vacío y se deposita en el sustrato (que
por lo general se encuentra a temperatura ambiente o un poco más alta para mejorar la
unión). Se pueden depositar recubrimientos de espesor uniforme, incluso sobre formas
complejas. En la deposición de arco (PV/ARC, por sus siglas en inglés), el material de
recubrimiento (cátodo) se evapora mediante varios evaporadores de arco utilizando
arcos eléctricos altamente localizados. Los arcos producen un plasma altamente
reactivo, que consiste en vapor ionizado del material de recubrimiento. El vapor se
condensa sobre el sustrato (ánodo) y lo recubre. Las aplicaciones de este proceso son
funcionales (recubrimientos resistentes a la corrosión para aplicaciones de alta
temperatura, electrónica y óptica).” (Kalpakjian & Schmid, 2008)
 Figura 1. Deposición de Vacío
Fuente: (Kalpakjian & Schmid, 2008)

Técnica de recubrimiento CVD:

En la CVD habrá una interacción entre la mezcla y el sustrato calentado, lo que causará
una descomposición química del gas y la formación una película sólida en el sustrato.

“Las reacciones ocurren en una cámara de reacción sellada. El producto de la reacción

(ya sea un metal o un compuesto) forma un núcleo y crece en la superficie del sustrato
para formar el recubrimiento. La mayoría de las reacciones de CVD requieren calor. Sin
embargo, dependiendo de los productos químicos implicados, las reacciones pueden ser
provocadas por otras fuentes de energía, tales como la luz ultravioleta o un plasma.” (P.
Groover, 2007, pág. 678)

Figura 2. Deposición Química de Vapor

Fuente: (Gómez-Aleixandre, s.f.)

Nitruración Iónica:
Es un proceso de difusión que se realiza sobre la pieza acabada a temperaturas entre 275
y 580ºC en función del material base, sin variar sus dimensiones ni sus características
geométricas. Los bordes de la herramienta son aleados con nitrógeno, formando nitruros
con los elementos de aleación libres en el material base, mejorando las propiedades.
“Este tipo de nitruración puede trabajar sola sobre el material base dadas sus buenas
propiedades, entre ellas, mejora de la resistencia a la compresión, mejor ductilidad,
resistencia a la fatiga mecánica, optimización del coeficiente de rozamiento, mejora la
resistencia al desgaste, elevación de la dureza en los bordes, mejora de la estabilidad a
la corrosión. En los aceros inoxidables se potencia la resistencia a la oxidación y los
dota de resistencia a la abrasión de la cual éstos carecen, en el resto de aceros de obtiene
una mejor resistencia a oxidación y corrosión.” (Dorrenberg)
La nitruración por plasma resulta una excepcional base para los recubrimientos de
superficie, haciendo de enlace entre las durezas bajas del material base y las altas
durezas del recubrimiento, mejorando su rendimiento.
“La nitruración iónica consiste en colocar la o las piezas a nitrurar en una cámara
refrigerada (tipo de horno de pared fría). Se hace vacío, luego se introduce una mezcla
controlada de gases. Se crea una diferencia de potencial entre pieza (cátodo (-)) y pared
del horno (ánodo (+)). Bajo condiciones del proceso, temperatura, presión, tiempo,
diferencia de potencial y atmósfera, se produce la capa nitrurada.” (Universidad
Tecnológica Nacional, pág. 11)

Figura 3. Nitruración Iónica

Fuente: (Granda-Gutiérrez, 2009)

Implantación Iónica:
En la implantación de iones, los iones se introducen en la superficie del material de la
pieza de trabajo. Los iones se aceleran en vacío de manera que entran al sustrato a una
profundidad de unos μm. La implantación de iones modifica las propiedades
superficiales aumentando la dureza superficial y mejorando la resistencia a la fricción,
al desgaste y a la corrosión.

Dependiendo de la energía según los átomos lleguen a la superficie, existen 3 procesos

diferentes: Si la energía es muy baja (10 Voltios de aceleración) los átomos se depositan
en superficie, creándose un recubrimiento. Si la aceleración es mayor (500 Voltios)
predomina un proceso de pulverización de la superficie conocido como Sputtering.
Finalmente, a energías mucho mayores (100.000 Voltios), los átomos pasan la
superficie incrustándose a una profundidad de unos μm.

“Por ejemplo, los iones de Nitrógeno acelerados con 100.000 Voltios se mueven en el
vacío a una velocidad de 1.170 Km/s y al chocar contra una superficie de Acero se
incrustan alcanzando profundidades de hasta 0,2 micras. Este es el proceso que
conocemos como implantación iónica.” (Vásquez Vaamonde & De Damborenea
Gonzalez, 2000, pág. 227)

Figura 4. Implantación Iónica

Fuente: (Vásquez Vaamonde & De Damborenea Gonzalez, 2000)

Beneficios:

 Endurecimiento de la superficie del material.

 Reducción de la fricción, lo que reduce el agarrotamiento.
 Aumento del límite de fatiga de hasta en un 30%.
 Tratamiento superficial sin aumento de temperatura (metalurgia en frío).
  Sin distorsión geométrica; preservación del estado de la superficie (por ejemplo,
el super acabado) y sus características mecánicas (por ejemplo, de acero
revenido a baja temperatura).
 Resistencia a la corrosión significativamente mejorada.

3.3 Materia Prima

Para la técnica de recubrimiento PVD:
En Bombardeo de Partículas los Materiales típicos de recubrimiento: Al2O3, Au, Cr,
Mo, SiO2, Si3N4, TiC, TiN.
Para las técnicas de recubrimiento CVD:
Los metales convenientes para recubrimiento mediante CVD incluyen el tungsteno, el
molibdeno, el titanio, el vanadio y el tantalio. La deposición química de vapor es
especialmente adecuada para la de compuestos, como el óxido de aluminio (Al2O3), el
dióxido de silicio (SiO2), el nitruro de silicio (Si3N4), el carburo de titanio (TiC) y el
nitruro de titanio (TiN).

Para la implantación Iónica:

Implantación Iónica de Nitrógeno:

La mayor parte de los problemas de desgaste de las herramientas tratadas por

implantación iónica se solucionan mediante la implantación de iones de Nitrógeno (14N+
ó 14N2+)

Implantación Iónica de Cromo:

La resistencia a la corrosión de los aceros de herramientas puede aumentar

considerablemente mediante la implantación de iones de Cromo (52Cr+).

3.4 Fases
Implantación Iónica:
El proceso de implantación iónica consiste en la creación de un haz de iones, su
aceleración hasta una energía prevista (normalmente 100 - 200 keV), y su impacto en
las zonas de la superficie que se desean proteger. Produce en las superficies cambios de
composición y estructura que son el origen de su aumento de resistencia al desgaste,
fricción y corrosión.

Los iones implantados se distribuyen en una profundidad que oscila entre 200 y 2000
capas atómicas (0.05µm 0.5µm) dependiendo del tipo de ion, del material base y de la
energía del bombardeo. El máximo de concentración, que para los iones ligeros como
Carbono o Nitrógeno puede superar el 50%, se sitúa a una cierta profundidad y luego
disminuye suavemente.

Las superficies implantadas con iones tipo Boro, Carbono, Nitrógeno etc. se endurecen
como consecuencia de la formación de finos precipitados (Nitruros, etc). También la
introducción de dosis elevadas de estos elementos crea esfuerzos de compresión que
ayudan a bloquear las microgrietas y al cierre de los canales de corrosión. La capa de
óxido superficial presente en muchos metales puede cohesionarse contribuyendo
también a una mejor protección contra la corrosión y a una reducción de los coeficientes
de fricción.

“La implantación de iones metálicos tiene efectos muy diversos: Por ejemplo el Titanio,
en combinación con el Carbono, produce una drástica reducción del coeficiente de
fricción cosa que también la logra el Molibdeno en combinación con el Azufre. La
implantación de Cromo consigue formar capas de óxido muy coherentes que protegen
las superficies contra corrosión y desgaste.” (Vásquez Vaamonde & De Damborenea
Gonzalez, 2000, pág. 231)

3.5 Utilización
“Las 2 aplicaciones más importantes de la implantación iónica son el dopado de
semiconductores y el tratamiento de superficies metálicas. La primera aplicación es
completamente industrial de manera que las compañías microelectrónicas disponen de
equipos automáticos para la implantación en serie de las obleas de silicio con las que se
fabrican los chips.” (Vásquez Vaamonde & De Damborenea Gonzalez, 2000, pág. 233)
En este tipo de aplicación, la implantación iónica, crea nuevos materiales a la escala
dimensional típica de la electrónica.
La implantación de superficies metálicas para ser eficaz, requiere mayor cantidades de
iones empleados en la industria electrónica. Debido a esto su industrialización ha tenido
que esperar al desarrollo de equipos mil veces más potentes. Las aplicaciones actualmente
más empleadas tienen que ver con el aumento de la resistencia de desgaste, a la fricción
y a la corrosión. La mayor parte de las aplicaciones industriales se centran en el desgaste,
fricción y corrosión, pero hay otras situaciones concretas como el aumento a la resistencia
a la fatiga, posiblemente debido al bloqueo de las microgrietas en las superficies
implantadas, aumentos en la resistencia de cavitación, e tc.
En nitruración iónica:
Las aplicaciones habituales incluyen engranajes, cigüeñales, árboles de levas,
seguidores de levas, piezas de válvulas, tornillos de extrusión, herramientas de
fundición a presión, troqueles de forja, herramientas de conformado en frío, inyectores y
herramientas de moldeo de plástico, ejes largos, ejes, embragues y partes de motores. A
menudo se opta por la nitruración iónica en lugar de los procesos gaseosos
correspondientes.
“La nitruración iónica es adecuada para todos los materiales ferrosos, incluso los aceros
sinterizados con mayor porosidad, el hierro fundido y los aceros de herramienta de alta
aleación, incluso con contenidos de cromo superiores al 12%. Los aceros inoxidables y
las aleaciones basadas en níquel pueden someterse a nitruración iónica y mantener la
mayor parte de su resistencia a la corrosión si se aplican bajas temperaturas. La
nitruración iónica de las aleaciones de titanio y aluminio es una aplicación
especial.”(Bodycote, 2018)

Bibliografía
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https://www.bodycote.com/es/servicios/tratamiento-termico/carburizado-y-
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Dorrenberg. (s.f.). Nitruración por plasma. Obtenido de Plasma NITRURACIÓN:

http://www.dorrenberg.es/download/PLASMAnitruracion_DTT.pdf?fbclid=IwAR0I7CZy
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Gómez-Aleixandre, C. (s.f.). Técnicas de deposición química en fase de vapor (CVD). Obtenido

de Instituto de Ciencias de Materiales de Madrid:
https://www.icmm.csic.es/fis/espa/cvd.html

Granda-Gutiérrez, E. (Octubre de 2009). Diagrama esquemático del sistema de nitruración

iónica. Obtenido de ResearchGate: https://www.researchgate.net/figure/Figura-3-
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Kalpakjian, S., & Schmid, S. (2008). Manufactura, Ingeniería y Tecnología. México: Pearson
Prentice Hall.

P. Groover, M. (2007). Fundamentos de manufactura moderna . México: McGrawHill.

Universidad Tecnológica Nacional. (s.f.). Capítulo XIII - Nitruración. Obtenido de Universidad

Tecnológica Nacional:
https://www.frro.utn.edu.ar/repositorio/catedras/mecanica/5_anio/metalografia/13.
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Vásquez Vaamonde, A., & De Damborenea Gonzalez, J. (2000). Ciencia e ingeniería de la

superficie de los materiales metálicos. Madrid: Textos Universitarios.