GRUPO 1A - Netting Works Consultores

Consultores: Erika Alejandra Cristancho Ortiz

Oscar David Forero Ortiz
Adriana Cardenas Silva
Leonardo Fabio Salcedo Leguizamón
Saray Dayany Varela Silva

Modelo Conceptual de la Situación Planteada

La Empresa del caso de estudio es una Compañía dedicada a la implementación de semiconductores, llamada “AMD”
para la automatización y el control de sus procesos y el control de la calidad esta empresa ha contratado a la empresa
“Netting Works Consultores “, el objetivo principal de la empresa consultora es simular los procesos de nuevas
tecnologías de fabricación de circuitos integrados, con el fin de ejercer un mejor control de los tiempos. El sistema consta
de seis estaciones; Cleaning, Oxidation, Lithography, Etching, ion Implantation y Photoresist Strip. El proceso de
automatización comienza con los CI, que para este caso los llamaremos” waffers”, dichos elementos van montados sobre
10 soportes que son transportados por una banda, pasando por cada estación. La instalación de la primera Waffer al
soporte es realizada por un operario que se encuentra en la estación 1 y este proceso tarda 1 minuto aproximadamente, la
pieza procesada termina su ciclo en la estación 6, llamada (Photoresist Strip) y la Waffer es removida del soporte por un
operario y llevada a un almacén esterilizado, es allí cuando termina el proceso, luego el almacén de esterilizado recibe
una cantidad no mayor a 5000 Waffers y una vez completada esta cantidad se detiene la línea de producción. Los soportes
se mueven a una velocidad de 4 metros por minutos, mientras el operario se mueve a 20 metros por minuto con la Waffer
y a 40 metros por minuto cuando está libre de carga, la distancia entre estaciones es de 10 metros a 20 aproximadamente.
El mantenimiento en cada estación de trabajo debe hacerse cada 24 horas el cual puede durar entre 15 y 30 minutos. La
jornada de trabajo de cada operario es de 6 horas continuas por lo cual se trabaja 4 turnos.

Representación Gráfica

Gráfico 1. Representación gráfica del proceso productivo de la compañía de AMD.

Descripción construcción modelo sistema actual en Arena®

Módulo de Arena Empleado Descripción del Módulo Empleado

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El módulo create fue empleado para modelar la llegada de materiales “Soprtes AK”,
estas piezas (Waffers), se moverán por todo el sistema acompañado a la par del
soporte, para ello se configuro un tiempo Random Expo, por defecto, con un número
de entidades por arribo de 10 soportes y un máximo de arribos de (1).

Este módulo Process fue empleado para el procesamiento en la estación 1 y se

configura los siguientes parámetros; Con un tiempo de servicio de 9+WEIB (12.5,
Cleaning 4.37). Las unidades de tiempo serán en minutos de tipo valor agregado. Se configura
el recurso con un Seize Delay Release, para la maquina 1.
0

Este módulo Process fue empleado para el procesamiento en la estación 2 y se

configura los siguientes parámetros; Con un tiempo de servicio de distribución
Oxidacion ERLAN (9.06, 2). Las unidades de tiempo serán en minutos de tipo valor agregado.
Se configura el recurso con un Seize Delay Release, para la maquina 2.
0

Este módulo Process fue empleado para el procesamiento en la estación 3 y se

Litografia
configura los siguientes parámetros; Con un tiempo de servicio de distribución
ERLAN (12.2, 2). Las unidades de tiempo serán en minutos de tipo valor agregado y
0
se configura el recurso con un Seize Delay Release, para la maquina 3.

Este módulo Process fue empleado para el procesamiento en la estación 4 y se

Etching configura los siguientes parámetros; Con un tiempo de servicio de distribución
8+WEIB (11.8, 4.78). Las unidades de tiempo serán en minutos de tipo valor
0 agregado y se configura el recurso con un Seize Delay Release, para la maquina 4.

Este módulo Process fue empleado para el procesamiento en la estación 5 y se

Implantacion configura los siguientes parámetros; Con un tiempo de servicio de distribución
NORM (15.1, 2.94). Las unidades de tiempo serán en minutos de tipo valor agregado
0 y se configura el recurso con un Seize Delay Release, para la maquina 5.

Este módulo Process fue empleado para el procesamiento en la estación 6 y se

Photoresist configura los siguientes parámetros; Con un tiempo de servicio de distribución
6+WEIB (8.81, 4.47). Las unidades de tiempo serán en minutos de tipo valor
0 agregado y se configura el recurso con un Seize Delay Release, para la maquina 6.

Este módulo Dispose se representa el final o la culminación del modelo, el cual tiene
un máximo de 5000 waffers como unidades a almacenar, una vez establecida esa
cantidad a simulación se detiene.

Este módulo Timestamp se utilizó para contar el tiempo en la duración de los tiempos
calculados desde el punto instalado, hasta el módulo Record, al interior del sistema.

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Este módulo Record se utilizó como receptor del tiempo de intervalo Timestamp que
recorre todo el sistema y toma los datos en tiempo a partir del módulo previamente
configurado Timestamp.

El módulo Separate fue empleado para llevar los datos finales de nuevo al sistema y
también a la salida del almacén de esterilizado.

El módulo Failure nos permite realizar los fallos al interior del sistema de modelado,
en nuestro caso es un mantenimiento, que tiene una duración de 24 horas, con
tiempos (15 a 30) minutos.

Este módulo llamado Output (Throughput), el cual ser representa el tiempo de ciclo y
el rendimiento en el sistema, así como la medida en tiempo para el wip.

El módulo Resourse fue empleado para determinar que procesos requieren

mantenimiento.

El módulo Time Persistent se utilizó para crear una estadística, se guarda un archivo
en, que luego nos permita visualizar unas graficas estadísticas en el programa Output
Analyzer

El módulo Tally se utilizó para crear una estadística, que por medio de un enlace
externo ser utilizado en las representaciones de graficas en el output Analyzer.

Tally

Tabla 1. Descripción de los módulos empleados en la construcción del modelo de simulación del sistema actual

Parámetros de corrida del modelo del sistema actual y los de los proveedores en Arena®

Nivel de Nivel de Precisión Longitud de la corrida Número de

Modelo
confianza (error máximo) (horas) réplicas
Sistema Actual
(10 soportes) 95% 1% 60 horas 10

Propuesta 95% 1% 60 horas 6

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Mejora (17
soportes)
Tabla 2. Parámetros de corrida de los modelos de simulación del sistema actual y la propuesta.

Resultados del Modelo de Simulación (Sistema con 10 soportes AK)

Intervalo de Confianza
Indicadores
Half
Promedio Lim. Inferior Lim. Superior
Width
247.9 1.21 246.69 249.11
Tiempo de ciclo promedio de una Waffer

12.5 0 12.50 12.50

Tiempo promedio de transferencia de
una Waffer

Tiempo promedio de fabricación de una 111.64 0.15 111.49 111.79

Waffer
121.38 1.86 119.52 123.24
Tiempo promedio total de espera de una
Waffer
85.5 1.63 83.87 87.13
Tiempo promedio de espera, de una
Waffer, en la estación cuello de botella
81.09% 0 0.81 0.81
Factor de utilización de la estación de
Cleaning
71.82% 0.01 0.71 0.73
Factor de utilización de la estación de
Oxidation
95.98% 0 0.96 0.96
Factor de utilización de la estación de
Lithography
74.60% 0 0.75 0.75
Factor de utilización de la estación de
Etching
59.97% 0 0.60 0.60
Factor de utilización de la estación de Ion
Implantation
55.74% 0 0.56 0.56
Factor de utilización de la estación de
Photoresist Strip
2.31 0.01 2.30 2.32
Throughput (waffers/hora)

Tabla 3. Resumen resultados definitivos del modelo de simulación sistema actual.

Resultados del Modelo de Simulación (Sistema con 17 soportes AK)

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Intervalo de Confianza
Indicadores
Promedio Half Width Lim. Inferior Lim. Superior

Tiempo de ciclo promedio de una Waffer 414.9 5.63 409.27 420.53

Tiempo promedio de transferencia de una

12.5 0 12.50 12.50
Waffer

Tiempo promedio de fabricación de una

111.77 0.39 111.38 112.16
Waffer

Tiempo promedio total de espera de una

289.63 5.27 284.36 294.90
Waffer

Tiempo promedio de espera, de una

241.4 7.3 234.10 248.70
Waffer, en la estación cuello de botella

Factor de utilización de la estación de

82.72% 0.01 0.82 0.84
Cleaning

Factor de utilización de la estación de

73.67% 0.01 0.73 0.75
Oxidation

Factor de utilización de la estación de

98.43% 0 0.98 0.98
Lithography

Factor de utilización de la estación de

76.44% 0.01 0.75 0.77
Etching

Factor de utilización de la estación de Ion

61.38% 0.01 0.60 0.62
Implantation

Factor de utilización de la estación de

56.97% 0.01 0.56 0.58
Photoresist Strip

Throughput (waffers/hora) 2.36 0.03 2.33 2.39

Tabla 4. Resumen resultados definitivos del modelo de simulación con el número óptimo de soportes.

Resultados Análisis de Sensibilidad para determinar el número de óptimo de soportes

A continuación, se deben presentar los resultados del Throughput para el modelo de simulación variando el número de
soportes. Estos resultados serán obtenidos teniendo en cuenta los parámetros de corrida determinados por usted para cada
sistema.

Throughput
Número de Soportes AK Promedio
(waffers/hora)

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1 0.45
2 0.87
3 1.25
4 1.57
5 1.81
6 2.00
7 2.13
8 2.21
9 2.25
10 2.31
11 2.32
12 2.33
13 2.33
14 2.34
15 2.34
16 2.35
17 2.36
18 2.35
19 2.36
20 2.34
Tabla 5. Resumen del Throughput del modelo de simulación variando el número de soportes.

Conclusiones

 Aprendimos a utilizar la entrada de datos con la herramienta Imput Analyzer, así como determinar los diferentes tipos
de distribuciones para el caso de estudio, esto nos permitió diseñar el modelo y finalizar analizando los datos de salida
con la herramienta Output Analyzer, fue en esta ultima que logramos observar la importancia del rendimiento en un
sistema automatizado, para el caso específico de AMD se buscó el máximo rendimiento con un numero determinado
de soportes, llegando a la conclusión que 17 soportes seria la opción más productiva.

 El sistema con 10 soportes mantiene un rendimiento de 2.31 waffers/hora, se observa una mejora de rendimiento con
la utilización de 17 soportes, aumentando el rendimiento a un 2.36 waffers/hora, que para efectos de producción para
la empresa AMD, repercuta en ahorro de costos y tiempo.

 Para los parámetros de corrida del modelo del sistema actual, se calculó la Longitud de la corrida en 60 horas, una
desviación estándar de 2.03 y un Número de réplicas de 6, datos fundamentales para realizar el modelado final del
sistema con 17 soportes.

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Recomendación

La recomendación que Netting Works Consultores realiza a la empresa AMD, es la de implementar 17 soportes en el
actual sistema de 10 soportes, prueba de ello son los resultados obtenidos con el rendimiento del sistema y su variación
del numero de soportes, concluyendo que 17 soportes presentan un mayor índice de Throughput con un valor de 2.36
waffers/hora.

Referencias:

- Tercer encuentro sincrónico (lunes 1 de abril) es la número 599. Link tomado de: https://ca-
sas.bbcollab.com/site/external/jwsdetect/nativeplayback.jnlp?sid=2010324&psid=2019-04-
01.1703.M.A116CA7825D3ECC960E3442D30A5DF.vcr

- La grabación del cuarto encuentro sincrónico (lunes 8 de abril) es la número 604. Link directo:
https://casas.bbcollab.com/site/external/jwsdetect/nativeplayback.jnlp?sid=2010324&psid=2019-04-
08.1442.M.A116CA7825D3ECC960E3442D30A5DF.vcr

- 2014). Análisis de datos con Input Analyzer de Arena; Publicado el 19 jun., tomado de:
https://www.youtube.com/watch?v=s6shb0bYss4
- (2011). Lanner Group, Geoffrey Hook. Business Process Modeling and Simulation. Proceedings of the 2011 Winter
Simulation Conference (pág. 17). Phoenix: 7ST UK.

- (2018). Alejandro González; Como generar curva de distribución normal; tomado de;
https://www.youtube.com/watch?v=f6_sNK2jw_I

- (2012). Teresas; Distribuciones de probabilidad; https://www.youtube.com/watch?v=unUpFZiI6DM

- (2019). La grabación del quinto encuentro sincrónico (lunes 22 de abril) es la número 610. Link
directo;https://casas.bbcollab.com/site/external/jwsdetect/nativeplayback.jnlp?sid=2010324&psid=2019-04-
22.1701.M.A116CA7825D3ECC960E3442D30A5DF.vcr 

- (2018). La grabación del sexto encuentro sincrónico (lunes 29 de abril) es la número 615. Link
directohttps://casas.bbcollab.com/site/external/jwsdetect/nativeplayback.jnlp?sid=2010324&psid=2019-04-
29.1711.M.A116CA7825D3ECC960E3442D30A5DF.vcr

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