Exploración de Metodologı́as de Fabricación en

Microelectrónica y Sistemas
Microelectromecánicos.
Proyecto Especial I

Reporte de trabajo realizado

Autor: Sebastian Bonilla Osorio Asesor: Alba G. Ávila Bernal.

2 de junio de 2008

Universidad de los Andes

Departamento de Ingenierı́a Eléctrica y Electrónica
Índice general

1. Introducción 2
1.1. Descripción del proyecto . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 2
1.2. Organización del documento . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 2

2. Estado y funcionamiento del equipo 3

2.1. Descripción de la cámara copiadora DEVERE 480 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 3
2.1.1. Implementos y accesorios . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 4
2.2. Funcionamiento de la cámara copiadora DEVERE 480 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 4
2.2.1. Procedimiento de enfoque y tamaño de copiado . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 5
2.2.2. Obturador y diafragma . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 6
2.3. Mantenimiento de la cámara copiadora DEVERE 480 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 7

3. Consideraciones en la generación de fotomáscaras 8

3.1. Proceso de generación de fotomáscaras . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 8
3.2. Materiales . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 9
3.2.1. Substratos . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 9
3.2.2. Photoresists . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 9
3.2.3. Pelı́culas metálicas . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 9
3.2.4. Quı́micos de revelado . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 9

4. Generación de máscaras con la Copiadora DEVERE 480 10

5. Proveedores e Insumos 14
5.0.5. Photmask Blanks . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 14
5.0.6. Substratos . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 14
5.0.7. Material fotográfico . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 14
5.0.8. Equipo . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 15
5.0.9. Quı́micos . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 15

A. Comunicaciones con fabricantes y vendedores 16

B. Muestras fı́sicas de las máscaras fabricadas 18

1
Capı́tulo 1

Introducción

El presente documento describe el trabajo realizado a través de los últimos 4 meses en el curso Proyecto Especial
I. Aquı́ se describen todos los procedimiento y desarrollos llevados a cabo, asi como los resultados obtenidos a través
del proceso.

1.1. Descripción del proyecto

Se establecerá una metodologı́a reproducible de fabricación de Cantilévers y Membranas a partir de los equipos de
los que se dispondrá en la nueva sala blanca de fabricación. Ası́ mismo se explorará la fabricación de las geometrı́as
requeridas en las mascaras, ası́ como la fabricación en de las máscaras en sı́. Se evaluaran los requerimientos de mascaras
en dispositivos de microelectrónica y dispositivos MEMS.1

1.2. Organización del documento

El presente documento se encuentra organizado de la siguiente forma. Se expondrán los detalles generales del
funcionamiento de la cámara copiadora DEVERE 480, con la cual se trabajó durante el semestre. Luego se darán los
detalles del trabajo realizado, ası́ como también se describirán todos los hallazgos hechos a través de la investigación
y se dejará constancia en este documetno de todos los puntos importantes a tener en cuenta en la Exploración de
Metodologı́as de Fabricación en Microelectrónica y Sistemas Microelectromecánicos. Por último se listan los fabricantes
y proveedores de forma tal que se pueda acceder a ellos con facilidad en caso de ser necesario, y se concluye el proyecto
dando lugar a los pasos a seguir en la investigación.

1 La descripción aquı́ hecha se basa en el documento de aprobación presentado al inicio del proyecto

2
Capı́tulo 2

Estado y funcionamiento del equipo

2.1. Descripción de la cámara copiadora DEVERE 480

La cámara copiadora DEVERE 480 es una unidad de reproducción o copiado vertical con la cual es posible pasar de
modelos de 750x1000mm, a placas o pelı́culas de hasta 180x240mm. Este equipo goza de una sólida columna maquinada
especialmente para brindar precisión, rigidez, longevidad y confiabilidad. [1] El equipo se puede describir básicamente
como una cámara fotográfica análoga, acoplada a un sistema de enfoque y distancia variables. Las partes y detalles
técnicos del equipo se encuentran descritos en [2].
La cámara adquirida por el Centro de Microelectrónica de la Universidad de los Andes (CMUA), fue suplida por
el proveedor Odissey Sales ubicado en Inglaterra.1 El equipo adiquirido hace parte de la gama de equipos remanufac-
turados del proveedor, sin embargo se encuentra en un excelente estado.
La figura 2.1 ilustra el estado actual del equipo del cual se dispone en el CMUA, en comparación con la figura 2.2
en la cual se observa el estado inicial óptimo del equipo.

Figura 2.1: Cámara Copiadora DEVERE 480 disponible en el CMUA

1 Los datos el proveedor se describen en el capı́tulo 5

3
 Figura 2.2: Cámara Copiadora DEVERE 480 de catálogo [1]

2.1.1. Implementos y accesorios

Para el correcto funcionamiento y operación del equipo son necesarios los siguientes accesorios, los cuales se incluýen
en la compra inicial del equipo:

1. Brazos soporte de las lámparas con base de fijación a la mesa de copiado.

2. Vidrio esmerilado y resortes de sujeción.

Con el objeto de poner en funcionamiento el equipo se requieren de los siguientes implementos y accesorios:
1. Un par de lámparas de copiado con sus respectivas bombillas de tungsteno de vidrio esmerilado (150 a 250 W)*.
2. Cronometro regresivo.
3. Pinzas de bamboo para manipular las pelı́culas o placas.
4. Cubetas para preparación de quı́micos y revelado.
5. Luz de seguridad dependiendo de la sensibilidad de la emulsión o photoresist usado.
*NOTA: Se recomienda como paso previo a la fabricacón de las lámparas tener una especificación clara de los
componentes a usar en el procedimiento por lo siguiente: Al saber la emulsión sensible a usar se especifican las
bombillas requeridas y de esta forma poder conocer el tamaño del porta bombillo ası́ como de su rosca. Estos detalles
son necesarios a la hora de mandar a fabricar estos elementos.2

2.2. Funcionamiento de la cámara copiadora DEVERE 480

Con el fin de ejemplificar el funcionamiento del equipo la figura 2.3 ilustra las partes principales a tener en cuenta.
1. Espejo retractil.
2. Vidrio esmerilado y soporte.
3. Ruedas de control y ajuste.
2 Se recomienda el proveedor Poder Fotográfico como fabricante de las lámparas

4
 4. Seguros.
5. Lente y obturador.

Espejo retractil (1)

Vidrio esmerilado
y soporte de resorte (2)

Ruedas de control y ajuste(3)

Seguros (4)

Lente y obturador(5)

Figura 2.3: Partes de Cámara Copiadora DEVERE 480

Las ruedas de ajuste(3) controlan el movimiento del negativo y los lentes. A partir de estas es posible fijar tanto
el tamaño como el enfoque de la pieza puesta sobre la mesa. Cuando las lamparas se encienden e iluminan de manera
uniforme la mesa, la imagen se proyecta sobre el vidrio esmerilado superior(2) y se debe observar a partir del espejo
retractil(1) ubicado inmeditamente encima del vidrio.

2.2.1. Procedimiento de enfoque y tamaño de copiado

Ruedas de ajuste (3)

Soportes de lámparas (6)

Mesa base de copiado (7)

Figura 2.4: Partes principales de Cámara Copiadora DEVERE 480

1. Asegure la imagen principal en la mesa base con cinta de enmascarar. Ajuste la altura de la mesa base de acuerdo
a la altura de trabajo deseada por el operador ( 7. fig. 2.4).
2. Encienda las lámparas de copiado a 45 grados de la imagen de tal forma que esta se vea uniformemente iluminada.

5
 3. Ubique el vidrio esmerilado bajo el soporte de resorte y abra el obturador de la cámara (5).
4. Ajuste el espejo de forma tal que usted logre ver la imagen proyectada sobre el vidrio.
5. Ajuste el foco a partir de la rueda de control izquierda (3). Cuando esta se encuentre enfocada, revise si el tamaño
proyectado es el deseado*, si no lo es, reajuste el tamaño a partir de la rueda de control izquierda y enfoque
nuevamente la imagen. Cuando la imagen se encuentre en el tamaño adecuado, asegure la rueda izquierda a partir
del switch giratorio continguo a esta, y realice el mismo aseguramiento cuando el foco se encuentre adecuado. [2]
*NOTA: El tamaño de copiado debe ser ajustado por el operador, de acuerdo a una equivalencia lineal directa entre
un recuadro realizado intencionalmente sobre el original, y el mismo cuadro proyectado en el vidrio esmerialdo, el cual
debe enmarcar sobre las lı́neas de guı́a ilustradas en la figura 3.1.

Figura 2.5: Vidrio esmerilado de la Cámara Copiadora DEVERE 480

2.2.2. Obturador y diafragma

La figura 2.6 ilustra las diferentes partes del objetivo. Este dispositivo conforma la parte principal de la cámara
y debe ser operado adecuadamente con el fin de obtener una buena exposición. El compromiso básico del objetivo es
regular la cantidad y tiempo de luz que expone el photoresist o emulsión fotográfica. El diafragma regula la cantidad
de luz que expone, mientras la velocidad de obturación determina la cantidad de tiempo que dura la exposición de
cierta cantidad de luz en la pelı́cula. Este par de parámetros deben ser investigados y determinados más a fondo una
vez se haya seleccionado un material sensible a ser usado.
Los parámetros estandar de obturación y diafragma a los que nos dá acceso la cámara se describen en la tabla 2.1
y están de acuerdo con lo ilustrado en la figura 2.6.

Diafragma
Velocidad de obturación
Cargador de disparo
Obturador
Apertura del diafragma

Figura 2.6: Partes del objetivo de la Cámara Copiadora DEVERE 480

6
 Diafragma (f ) Valocidad de obturación [s]
9 B (manual)
11 1/1
16 1/2
22 1/4
32 1/8
45 1/15
1/30
1/125
1/250
1/500

Cuadro 2.1: Caracterı́sticas de obturador

2.3. Mantenimiento de la cámara copiadora DEVERE 480

Aunque la estructura de este equipo es bastante robusta y de larga duración es recomendable realizar un manten-
imiento eventualmente. Se debe chequear que todos los rodamientos giran adecuadamente, y en caso contrario aplicar
algún aceite de baja viscosidad (i.e. Aceite “3 en 1”
R multiproposito ). Se deben limpiar las guı́as de la columna prin-
cipal y aplicar aceite igualmente. La mesa de copiado debe ser limpiada con agua y jabon y secada inmediatamente.
Las lámparas deben estar limpias en orden de proveer una iluminación uniforme. [2]

7
Capı́tulo 3

Consideraciones en la generación de
fotomáscaras

3.1. Proceso de generación de fotomáscaras

El procedimiento adecuado para la generación de fotomáscaras como son necesarias en un proceso de fabricación de
microelectrónica o dispositivos MEMS va mucho más allá del uso de la cámara copiadora expuesta en este documento.
Para la generación de fotomáscaras pueden ser usados dos procedimientos a saber que son implementables bajo el
equipamento dispuesto por el CMUA. El primero es la generación de máscaras a partir de un pattern generator el cual
a través de una herramienta CAD genera una geometrı́a con un rayo de electrónes o un rayo óptico (i.e. LaserWriter
system by MICROTECH) sobre una pieza de vidrio de algún tipo, el cual tiene una pelı́cula en la cual el patrón es
formado. El segundo es la generación óptica del patrón a partir de dos procedimientos, el primero es la generación de
una máscara de emulsión previa a partir de la cual se genera la definitiva haciendo uso de un Aligner o alguna máquina
para hacer ataques óptico o fotolitografı́a (i.e. The Tamarack Series 142 Contact Printer o Karl Suss MJB3 Contact
Mask Aligner).
1. Máscaras de cromo: Una capa cromo (120-5000nm thick) es depositada sobre un plato de vidrio (2 7”wide,
0.5-6µm thick), luego una capa de fotoresist (∼200nm) es puesta sobre este. El fotoresist se expone bajo pro-
cedimientos ópticos o de rayos de electrones y es revelado dejando descubierto ciertas áreas del cromo. Luego el
cromo es atacado quı́micamente y el fotoresist restante es limpiado, dando lugar a la mascara de cromo.

2. Máscaras de emulsión: Una capa de emulsión fotográfica de alta resolución es depositada sobre el plato de
vidrio. Exposición óptica es realizada y luego es revelado dando lugar a una máscara de emulsión. Esta puede
ser posteriormente usada para la generación de una máscara de cromo a partir de un Alligner. [3]

Pelı́cula fotosensible (Photoresist)

Pelı́cula metálica Emulsión fotográfica
Substrato Substrato

Figura 3.1: Estructura de las fotomáscaras

8
3.2. Materiales
3.2.1. Substratos
Se clasisfican de acuerdo a su coeficiente de expansión térmica y su capacidad de transmisión a la longitud de onda
de exposición. De manera general se requier un vidrio de alta transparencia, bajo coeficiente de dilatación térmica y
una extremadamente alta homogeneidad.
Vidrio SodaLime: 9.3ppm/ 12 C

Vidrio Borosilicato: 3.7ppm/ 12 C

Vidrio Quarzo: 0.5ppm/ 12 C
[3]

3.2.2. Photoresists
AZ 1500
Az 1505

AZ 1518
Shipley 1800
AZTFP 650

3.2.3. Pelı́culas metálicas

Cromo
Óxido de Hierro

3.2.4. Quı́micos de revelado

AZ 400

9
Capı́tulo 4

Generación de máscaras con la Copiadora

DEVERE 480

Con el fin de comprobar el correcto funcionamiento y funcionalidad de la Cámara copiadora DEVERE 480 se
realizaron pruebas en generación de máscaras sobre KodaLith1 . Estas pruebas dieron lugar a un procedimiento metódico
para la generación de máscaras, el cual se espera no difiera mucho del procedimiento requerido con los materiales
adecuados (i.e. placas de vidrio con emulsión fotográfica de alta resolución). El procedimiento se describe a continuación.

1. Preparación de los quı́micos

Debido a que las pelı́culas expuestas deben ser inmediatamente reveladas es necesario tener todos los quı́micos
previamente preparados y en sus respectivas cubetas. Para la preparación de cualquier quı́mico en particular se
deben seguir las instrucciones del fabricante (i.e. las instrucciones archivadas en la carpeta de procedimientos
y documentación). Regularmente los quı́micos son adquiridos en polvo y deben ser disuelto en alguna cantidad
especı́fica de agua desionizada (DI) 2 . Para el revelado de pelı́culas fotográficas es necesario hacer un lavado de
la pelı́cula en los siguientes quı́micos:
a) Revelador.
b) Detenedor (Agua para detener el proceso de revelado).
c) Fijador.
d ) Enjuage en agua regular corriente.
El procedimiento de preparación de cualquier quı́mico es el siguiente.

a) En la mitad del agua DI requerida disuelva la totalidad del quı́mico a ser usado.
b) Agrege la segunda mitad de agua DI requerida, tape y rotule el embase.
c) Vierta una cantidad suficiente (para cubrir la pelı́cula o placa) de quı́mico en cada cubeta según los rótulos
de las mismas.
2. Exposición

a) Asegure la imagen original en la mesa base con cinta de enmascarar. Ajuste la altura de la mesa base de
acuerdo a la altura de trabajo deseada por el operador (7).
b) Encienda las lámparas de copiado a 45 grados de la imagen de tal forma que esta se vea uniformemente
iluminada como en fig. 4.1.
c) Ubique el vidrio esmerilado bajo el soporte de resorte y abra el obturador de la cámara ().
d ) Ajuste el espejo de forma tal que usted logre ver la imagen proyectada sobre el vidrio.
1 Pelı́cula fotográfica ortocromática(no responde a la longitud de onda del rojo) y de alto contraste(blanco y negro).
2 El agua desionizada se encuentra disponible en cualquier laboratorio de Ingenierı́a Quı́mica de la Universidad.

10
 Figura 4.1: Operación de la copiadora DEVERE 480

e) Ajuste el foco a partir de la rueda de control izquierda (3). Cuando esta se encuentre enfocada, revise si el
tamaño proyectado es el deseado, si no lo es, reajuste el tamaño a partir de la rueda de control izquierda
y enfoque nuevamente la imagen. Cuando la imagen se encuentre en el tamaño adecuado, asegure la rueda
izquierda a partir del switch giratorio continguo a esta, y realice el mismo aseguramiento cuando el foco se
encuentre adecuado.
f ) Cierre el obturador, ajuste la velocidad de obturación y el diafragma de la cámara de acuerdo a lo que se
describió en el capı́tulo anterior.
g) Apage las lámparas de copiado y encienda la luz de seguridad (i.e. luz roja).
h) Carge la pelı́cula o placa fotográfica debajo del vidrio esmerilado o como reemplazo del mismo.
i ) Baje el espejo y asegurese de que la placa quede completamente cubierta para que no se vele.
j ) Encienda las lámparas de copiado y obture la cámara el número de veces deseado conforme lo requiera la
emulsión fotográfica.
k ) Apage las lámparas de copiado y usando la luz de seguridad proceda al revelado de la pelı́cula.
3. Revelado
a) Sumerga completamente la pelı́cula en el revelador por un minuto (El tiempo puede variar dependiendo del
material fotográfico). Luego retire y escurra la pelı́cula.
b) Sumerga completamente en agua con el fin de detener el proceso de revelado y a su vez no mezclar los
quı́micos (fijador y revelador). Luego retire y escurra la pelı́cula.
c) Sumerga completamente la pelı́cula en fijador por 3 minutos.
d ) Retire, escurra y enjuage con abuntante agua limpia.

El procedimiento arriba descrito dió lugar a las máscaras adjuntas en el Apéndice 2. Las caracterı́sticas experimen-
tales de estas máscaras son las siguientes.
1. Cinco exposiciones de 1 segundo.(Tira de sensitometrı́a3 ).
Diafragma 11
Revelado 1min
Detenido 1min
Fijado 3min
Enjuage 5min.
3 Se toman repetidas exposiciones y se desplaza una tira negra de arriba hacia abajo en el original con el fin de hallar en tiempo de

exposición adecuado para la pelı́cula.

11
 2. Una exposiciones de 1 segundo.
Diafragma 11
Revelado 1min
Detenido 1min
Fijado 3min
Enjuage 5min.
3. Dos exposiciones de 1 segundo.
Diafragma 11
Revelado 2min
Detenido 1min
Fijado 3min
Enjuage 5min.4
De aquı́ es posible evidenciar la adecuada funcionalidad de la copiadora. Sin embargo, las placas o máscaras fabri-
cadas no cumplen con los requerimientos de resolución necesarios para un proceso de fabricación en microelectrónica
o sistemas microelectromecánicos. Las figuras 4.2 y 4.3 ilustran la comparación entre una linea ampliada 400x (Micro-
scopio óptico Nikon Eclipse 55i disponible en el laboratorio de telemedicina ML304) de la máscara fabricada y de una
máscara proveı́da por el asesor.

Figura 4.2: Lı́nea de fotomáscara fabricada con la copiadora 480

4 Esta pelı́cula puede lucir menos contrastada que la anterior aun cuando se expuso durante 2 seg lo cual se debe al desgaste del revelador

y fijador a través de las pruebas.

12
Figura 4.3: Lı́nea de fotomáscara proveı́da por el asesor

13
Capı́tulo 5

Proveedores e Insumos

5.0.5. Photmask Blanks

Telic Company
24832 Ave. Rockefeller
Valencia, CA 91355.
Phone: (888) TELIC-CO
(661)-702-8603
Fax: (661) 257-6802
E-mail: telic2000@aol.com
http://www.telicco.com/

Nanofilm
2641 Townstage road
Westlake village, CA 91361
tel: 805 496 5031
fax: 805 373 9393
http://www.nanofilm.com/

5.0.6. Substratos
Schott Colombiana S.A.
Cota, Colombia
pbx: 57 13353600 , fax: 57 12404893
Contacto: Sandra Moreno: sandra.moreno@schott.com

VidPlex
Calle 9 No . 53-22
PBX: 446 1190
Bogotá, D.C. Colombia
www.vid-plex.com

5.0.7. Material fotográfico

FOTOCOMPUTO
Cl 23 5-01 P 1
Colombia - Distrito Capital, Bogotá
Teléfonos : (57) (1) 6087892

14
fotocomputo@yahoo.com

Foto Almacen NEVIFOTO

Calle 66 No.14-80
tel:(1) 2495676 y 4800871 telefax:(1) 3464591
Email: nevifoto66@hotmail.com

ALMACOLOR LTD.
Correo e: almacolor@empresario.com.co
Carrera 7 No. 48 A - 56
Teléfonos: 3384749 - 3384786 Fax: 2329047
Bogotá - Colombia - Sur América
http://www.almacolor.com.co/
Contacto: Eduardo Quintero

5.0.8. Equipo
Odyssey Sales
http://www.odyssey-sales.com/
Address: 26-27 Elder Place
BRIGHTON
BN1 4GF
England
Tel: 01273 67 67 68 Fax: 01273 67 67 69

Laurell Technologies Corp.

441 Industrial Drive
North Wales, PA 19454-4150
Phone# 215.699.7278
Fax# 215.699.4311
http://www.laurell.com

5.0.9. Quı́micos
Mays Chemical Co.
Mays Headquarters, Indiana, USA
5611 E. 71st Street
Indianapolis, IN 46220
Tel: 317.842.8722
Fax: 317.576.9630
Email: info@mayschem.com
http://www.mayschem.com/

15
Apéndice A

Comunicaciones con fabricantes y

vendedores

Hello, I’m student at Andes University, Bogotá Colombia, We are involved in our clean room building
and running, and we are interested in getting photomask blanks for research aims. We don’t have any
spinner or deposition machine yet, but we do have an industrial copy camera, so I think we are able
to fabricate photomasks from a photomask blank. Can you guys give me the information about any
photomask blank seller, comercial references or components?
Sebastian, I have found two companies that will provide good quality plates at a reasonable price. They are
www.nanofilm.com and www.telicco.com/ As for making mask from a camera, it can be done. Good luck. Joe
Hello, Joseph, do you know the chemicals needed for developing, or who sell them. Do you guys
have any standard procedure for photomasks fabrication?
Sebastian, we use AZ 400 (Mays chem.) to develop the plates. I use a 4 part DI water to 1 part AZ 400 and
developing time of about 2 minutes Joe

I feel the best company for you to purchase photomask blanks from is Nanofilm. The company is located in
California. Here is the address: Nanofilm 2641 Towngate Road, Ste.100 Westlake Village, California 91361 Voice: 805-
496-5031 Fax: 805-373-9393 Nanofilm will be able to supply you with many different size glass plates as well as a
variety of different photoresist coatings. We currently use 4 and 5 inch glass plates and we have AZ-1518 photoresist
spun on the plate. If you have further questions regarding mask blanks, feel free to email me and I will be happy to
help you.....Jeff
PS. I would strongly recommend avoiding glass plates with emulsion coating. The cost of the plates are expensive
and are getting harder to find.
Hello Jeff, thank you so much about this information you know any comercial references in products
like Kodak, Agfa or Fujifilm?, Do you know if Nanofilm also sell the developing solutions?.
Hello again, You mention in your email Fujifilm, Kodak and Agfa...These are manufactures of emulsion on glass
companies. I believe Agfa is no longer supplying emulsion blanks. In the United States Kodak is supplying only 1
company with whole sheets of glass. HTA is then cutting the sheets and cleaning and packaging these plates. I truly
recommend not getting involved with emulsion glass. It is expensive and requires many more steps in the process of the
plates. I discontinued emulsion glass generation 4 years ago. We here at Purdue University purchase a large quantity of
chemicals from a company in California. Cyantek Corporation will be able to supply you with the necessary developers
and etchants required to fabricate your masks. Jeff
Hello Jeff, it’s me once again, I’ve got a question, do you guys have a standard procedure to generate
photomasks from a photomask blank using a copy camera?
I know exactly what you are trying to achieve...To answer your question..No...I do not use a copy camera. I have
a Pattern Generator which actually flashes with a shutter the data on to a piece of glass. The camera set up you

16
mention copies on to glass the image that is usually cut from Rubylith....The Pattern Generator is capable of much
smaller geometries and is much more accurate. All the positioning is under laser control and is capable of features of
1.25 microns......Have a nice day...Jeff

Answer from Nanofilm

Hello, Thank you for your inquiry. We manufacture photoplates. Our standard product is coated with chrome and
resist. The photoresist is sensitive to u.v. but not about above 4500 angstroms. The sizes available are 2.5”x2.5”to
7”x7”.
Best Regards, Val
Hello, We do not have any resist that is sensitive to visible light around 500nm wavelength. The processing chemicals
are available from Cyantek and Microchrome Technology. They can be reached at 408-259-9595.
Best regards, Val

17
Apéndice B

Muestras fı́sicas de las máscaras

fabricadas

18
19
Bibliografı́a

[1] Odyssey Sales . DeVere 480 Copy Camera. Sales Web Page.
http://www.odyssey-sales.com/products/browse.asp?product=334
[2] DEVERE. 480 Copy Camera. Assembly, Installation, Operation and Maintenance Instructions.
[3] Cornell University. MICROLITHOGRAPHY From Computer Aided Design (CAD) to Patterned Substrate. Cornell
Nanofabrication Facility. Microlithography Manual
[4] R. J. SCHWARTZ, F. S. OZDEMIR, AND E. R. WARD. An Integrated Circuit Mask Fabrication Facility for
Universities. IEEE TRANSACTIONS ON EDUCATION, AUGUST 1971
[5] M. Langford. Enciclopedia completa de fotografı́a. Hermann Blume, Ed. Madrid: 1983.

20