Tesis - Analisis de Transfer en CIA de Esfuerzo en Modelo de Fibra Simple Usando Fotomecanica

UNIVERSIDAD JUREZ AUTNOMA DE TABASCO
DIVISIN ACADMICA DE INGENIERA Y

ARQUITECTURA

ANLISIS DE TRANSFERENCIA DE ESFUERZO EN
MODELO DE FIBRA SIMPLE UTILIZANDO
FOTOMECNICA

TRABAJO RECEPCIONAL BAJO MODALIDAD DE:
TESIS

PRESENTA:
ENRIQUE ALEJANDRO OVANDO

COMO REQUISITO PARA OBTENER EL TTULO DE:
INGENIERO QUMICO

ASESOR:
DR. JOS MANUEL VZQUEZ RODRGUEZ

COASESOR:
M.E. GERARDO CHVEZ ARCINIEGA

CUNDUACN, TABASCO AGOSTO DE 2011

CARTA DE AUTORIZACIN

El que suscribe, autoriza por medio del presente escrito a la Universidad Jurez
Autnoma de Tabasco para que utilice tanto fsica como digitalmente la tesis de
grado denominada " ANLISIS DE TRANSFERENCIA DE ESFUERZO EN
MODELO DE FIBRA SIMPLE USANDO FOTOMECNICA", de la cual soy autor y
titular de los Derechos de Autor.

La finalidad del uso por parte de la Universidad Jurez Autnoma de Tabasco de
la tesis antes mencionada, ser nica y exclusivamente para difusin, educacin y
sin fines de lucro; autorizacin que se hace de manera enunciativa ms no
limitativa para subirla a la Red Abierta de Bibliotecas Digitales (RABID) y a
cualquier otra red acadmica con las que la Universidad tenga relacin
institucional.

Por lo antes manifestado, libero a la Universidad Jurez Autnoma de Tabasco de
cualquier reclamacin legal que pudiera ejercer respecto al uso y manipulacin de
la tesis mencionada y para los fines estipulados en ste documento.

Se firma la presente autorizacin en la ciudad de Villahermosa, Tabasco a los 08
das del mes de julio del ao 2011.

AUTORIZ

ENRIQUE ALEJANDRO OVANDO
Anlisis de transferencia de esfuerzo en un modelo de fibra simple utilizando fotomecnica

Licenciatura en ingeniera qumica DAIA - UJAT i

Dedicatorias

A mis padres que afrontaron a mi lado este reto llamado ingeniera qumica, y
gracias por su inmenso apoyo y por todo su amor.

A mis hermanos Guadalupe, Fernando, Francisca y Litzy quienes me alentaron e
impulsaron durante esta travesa.

A mi querida hermana Adriana quien durante mucho tiempo ha sido mi confidente
y amiga, te quiero hermanita.

A mi hermosa novia Ana Laura, gracias por soportarme, por quererme y amarme
tanto, gracias por compartir mis sueos, mis ilusiones y fantasas, es en verdad
un privilegio tenerte como mi pareja, agradezco infinitamente a Dios por darme la
dicha de compartir tantos momentos inolvidables a tu lado, te quiero.

A mi ta Brunilda quien ha sido una segunda madre para m, y quien con todo su
cario y amor me ha impulsado durante toda mi carrera.

A mi to Gutember(qepd), que aunque ya no ests con nosotros se que desde el
cielo me apoyas y me alientas a seguir adelante, aun extrao las borracheras a tu
lado, extrao esas plticas tan elocuentes que tenamos en frente a la barda
(cuando me decas homosexual), que para m esos momentos sern inolvidables.

A toda mi familia que se embarc en esta hermosa aventura y encar
estoicamente este desafo a mi lado.


Licenciatura en ingeniera qumica DAIA - UJAT ii

Agradecimientos

Agradezco infinitamente a la Universidad Jurez Autnoma de Tabasco y a la
Divisin Acadmica de Ingeniera y Arquitectura, por brindarme las herramientas
necesarias para afrontar los retos que impone la ingeniera qumica.

A todos mis maestros por haberme brindado los conocimientos que me permitirn
desarrollarme como profesionista.

Agradezco a mi asesor Jos Manuel Vzquez Rodrguez por permitirme trabajar a
su lado y haberme hecho parte de este maravilloso proyecto.

A mi coasesor Gerardo Chvez Arciniega por su ayuda en la elaboracin de los
moldes y piezas necesarios para la investigacin.

A mis revisores quienes con sus observaciones me permitieron mejorar la calidad
de mi trabajo.

Mencin especial merecen mis amigos, quienes hicieron de esta etapa, la ms
bella experiencia de mi vida.

Gracias mis hermosas amigas y compaeras de proyecto Laura Ramrez Lpez y
Vianey Gmez Lpez.

Agradezco infinitamente a Luis ngel Palma Domnguez (Pinochn, el divino, el
caliente) por ser mi amigo, por acompaarme y ayudarme en la elaboracin de mi
tesis.

Agradezco de igual manera a la Tuzita (Rubn Domnguez de los Santos).


Licenciatura en ingeniera qumica DAIA - UJAT iii

A Gayvid (Deyvid de la Fuente Castillo), por ser mi confidente y amigo
incondicional.

A Pollo Colunga (Elder de Jess Garca Castro), por los ratos divertidos, y los
chistes mal contados que me hacen rer, gracias por ser un excelente amigo

Al organizador oficial de las fiestas del PUP, Eduardo Lara Hernndez (Tripie,
Larita).

A Jessica Mrquez Len (Gera) por regaarme y decirme mis verdades cuando
me las mereca.

A Lzaro Domnguez Gallegos (Lacho).

A Juan Carlos Lpez Lpez (Radito) por aconsejarme de vez en cuando.

A Susana Mareli Alberto Romero (mare) por tu alegra, por tu cario y que me
hacen sonrer aun en momentos adversos.

A Arianna Paola Javier Trinidad por ser mi amor platnico, te quiero un chingo mi
Ari preciosa.

A mi Simo preciosa (Adriana Caridad Vzquez Ballinas) y a Nayeli Chabl
Almeida pues con su simpata y belleza me alegraban las maanas en mi
laboratorio, gracias por su amistad.

A Susana Vasconcelos Vargas y Ana Mara Ramos Hernndez aunque se sienten
unas muecas.

A Rubn Alejandro Ruiz Eng (Rubenn).


Licenciatura en ingeniera qumica DAIA - UJAT iv

A Moiss Antonio Luna Hernndez y Jos Manuel Burelo.

A Esperanza Coronel (perita) y Rosa Mara lvarez Rodrguez (Rosita).

A Lorena Daz Gonzlez (Lorelina jolie) aunque en verdad no te conoc mucho
tiempo, los pocos momentos que te trate me caste muy bien, y te considero una
buena amiga.

Gracias Benjamn Snchez de la Cruz (Gordo), ms que mi mejor amigo y fiel
confidente, te considero casi mi hermano, t me conoces mejor que nadie,
conoces mis secretos, las cosas que me aquejan y creo que en parte comprendes
lo que siento y lo que pienso, gracias por apoyarme en todo momento y por
escucharme siempre.

A Elda Irene Beaurregard Martnez por tu cario, por tu apoyo, por tu
comprensin, por tu compaa y por ayudarme en la concepcin de mi tesis,
durante este ltimo ao te convertiste en una persona imprescindible, gracias por
tantos momentos agradables que compartiste conmigo, por escucharme y por
impulsarme a seguir adelante, gracias por todo Irene.

A Yaneth Daz Garca, si bien no colaboraste en la elaboracin de mi trabajo en
verdad fuiste importante para m, me alegraste todas las maanas estos ltimos 5
meses, me hiciste sonrer, sonrojar y suspirar, en verdad me divert mucho
hacindote travesuras, te agradezco el haberme soportado todos estos meses, no
encuentro las palabras adecuadas para describir a la gran persona que veo en ti,
realmente eres una mujer extraordinaria.


Licenciatura en ingeniera qumica DAIA - UJAT v

Resumen

La tcnica experimental llamada fotoelasticidad fue usada para el anlisis de
campos de esfuerzo y deformacin. La luz emitida al propagarse por ciertos
materiales transparentes revela por medio de efectos pticos dichos campos.

Un polariscopio es un arreglo ptico usado para observar patrones fotomecnicos.
Para esta tcnica se emple luz blanca (una longitud de onda de 380 750 nm)
en el polariscopio en campo oscuro.

Las imgenes de los patrones de esfuerzo se usaron para analizar la transferencia
de esfuerzos desde la matriz hacia la fibra. El mtodo ms adecuado para obtener
estos patrones es emplear un modelo de fibra simple conformado por una fibra de
polister (nombre comercial TENEX) embebida en una matriz polimrica (resina
epxica ROYAPOX 511 y agente de entrecruzamiento ENDURECEDOR 511).

La fibra fue estirada y tratada con calor en una estufa de vaco a una temperatura
de 90C durante un periodo de 24 h, despus fue embebida en resina epxica. Se
dej curar por espacio de 48 h a temperatura ambiente.

Se elaboraron los especmenes de anlisis al trmino del proceso de curado y
finalmente se llevaron a cabo las pruebas fotomecnicas en un banco fotoelstico
compuesto por un polariscopio lineal de campo oscuro y una mquina de pruebas
universales INSTRON 3384. La probeta fue sometida a carga de tensin y un
cierto tiempo despus el patrn fotoelstico fue fotografiado.

El anlisis del esfuerzo cortante por medio del mtodo fotomecnico no pudo ser
efectuado debido a la ausencia de los rdenes fotoelsticos N en los patrones
experimentales. Las cargas empleadas durante el ensayo fueron desde los 0 N
hasta 163.7 N

Licenciatura en ingeniera qumica DAIA - UJAT vi

ndice Pgina

Dedicatorias i
Agradecimientos ii
Resumen v
ndice vi
Lista de de Figuras viii
Lista de Tablas xi
Introduccin xii
Antecedentes xiii
Justificacin xv
Objetivos xvi
Objetivo General xvi
Objetivos Especficos xvi

Captulo I. Fundamentacin terica del mtodo fotoelstico 1
1.1 Ley del esfuerzo ptico 1
1.2 Patrones de esfuerzo a flexin pura 5
1.3 Naturaleza y comportamiento de la luz 9
1.4 Luz natural y luz polarizada 10
1.4.1 Luz con polarizacin lineal 10
1.4.2 Luz con polarizacin circular 10
1.5 Polariscopio y elementos pticos de polarizacin 11
1.5.1 ptica del polariscopio lineal 12
1.5.2 ptica del polariscopio circular 14

Captulo II. Materiales compuestos 19
2.1 Interfase fibra/matriz 19
2.2 Pruebas micromecnicas 20
2.3 Modelo de transferencia de esfuerzo cortante (Modelo Shear-lag) 22

Licenciatura en ingeniera qumica DAIA - UJAT vii

2.3.1 Distribuciones del esfuerzo y de la deformacin 24
2.3.2 Transferencia de esfuerzo entre fibra-matriz 30

Captulo III. Metodologa 33
3.1 Material, equipo y reactivos 33
3.2 Resina epoxica y agente de entrecruzamiento 34
3.3 Anlisis mecnico de la resina 34
3.3.1 Calibracin fotoelstica de la resina 36
3.4 Caracterizacin mecnica de la fibra de polister 38
3.5 Arreglo del polariscopio 38
3.5.1 Calibracin del polariscopio 40
3.6 Elaboracin del modelo de fibra simple 41
3.7 Esfuerzo cortante usando fotoelasticidad para el modelo de fibra
simple. 42
Captulo IV. Resultados y discusin 44
4.1 Caracterizacin de la fibra de polister 44
4.2 Propiedades mecnicas de la resina epxica 45
4.3 Calibracin fotoelstica de la resina 46
4.4 Esfuerzo cortante por medio de fotoelasticidad para un modelo de
fibra simple 57

Conclusiones 62
Referencias bibliogrficas 63
Anexo A 66
Anexo B 68
Anexo C 70
Anexo D 71
Anexo E 72


Licenciatura en ingeniera qumica DAIA - UJAT viii

Lista de de Figuras

No. Descripcin Pgina

1. Esquema de flexin. Diagrama de cuerpo libre (a), diagrama de
momentos de flexin (b) y distribucin de esfuerzos (c)[15]. 7
2. Movimiento del vector elctrico en un haz de luz linealmente
polarizado [16]. 11
3. Movimiento del vector elctrico en un haz de luz polarizada
circularmente [16]. 11
4. Modelo fotoelstico sometido a esfuerzos colocado en banco de
polarizacin lineal. 13
5. Modelo fotoelstico sometido a esfuerzos colocado en un
polariscopio circular de campo oscuro. 16
6. Ensayos micromecnicos en los que la carga es aplicada
directamente sobre la fibra: Pull-out (a), microgota (b) y push-out
(c) [15]. 21
7. Pruebas micromecnicas en las que la carga es aplicada sobre la
matriz: fragmentacin (a) y prueba de Broutman (b) [15]. 22
8. Esquema del modelo de Shear-lag, (a) modelo libre de fuerzas,
(b) desplazamiento axial uR inducido al aplicar un esfuerzo de
tensin paralelo a la fibra y (c) la variacin radial del esfuerzo
cortante y la deformacin en la matriz [15]. 24
9. Distribucin de esfuerzo cortante interfacial y del esfuerzo a lo
largo de una fibra embebida en una matriz considerando una
transferencia de esfuerzo totalmente elstica [15]. 31
10. Distribucin del esfuerzo a tensin en la fibra (a) y del esfuerzo
cortante interfacial (b) para dos relaciones de aspecto L/r = s de
una fibra embebida en una matriz [15]. 32

Licenciatura en ingeniera qumica DAIA - UJAT ix

11. Dimensiones del molde para la elaboracin de la placa de resina
epoxica. 35
12. Marco de carga para flexin empleado para calibracin
fotoelastica de la resina epxica [15]. 37
13. Esquema de pruebas a tensin para las fibras en la mquina de
pruebas universales INSTRON 3384[15]. 39
14. Disposicin del banco de polarizacin lineal de campo oscuro con
marco de carga. 39
15. Fibras de polister embebidas en una placa de resina epxica
para la elaboracin de probetas del modelo de fibra simple y
dimensiones del molde. 41
17. Probetas del modelo de fibra simple sometidas a cargas de
tensin en la mquina de pruebas universales INSTRON 3384. 43
18. Curva de esfuerzodeformacin para una fibra tpica de polister
de acuerdo a la norma ASTM D 2343-67. 44
19. Patrones fotoelsticos de esfuerzo para una probeta sometida a
flexin, a) probeta sometida a carga de 34.4 N, b) probeta
sometida a carga de 65.2 N, c) probeta sometida a carga de 105.5
N, d) probeta sometida a carga de152.1 N, e) probeta sometida a
carga de 208 N. 47
20. Distancia desde el eje de simetra hasta cada uno de los rdenes
para el patrn fotoelstico de una probeta sometida a flexin. 48
21. Grfica de la constante fotoelstica de la probeta 1 en forma de
viga de resina epxica empleando luz blanca. 49

Licenciatura en ingeniera qumica DAIA - UJAT x

27. Modelo de fibra simple libre de esfuerzos. 57
28A. Patrones de esfuerzo fotoelstico de modelo de fibra simple
sometido a cargas de tensin. 58
28B. Patrones de esfuerzo fotoelstico de modelo de fibra simple
sometido a cargas de tensin. 59
29. Comportamiento terico de un modelo de fibra simple sometido a
tensin. 60
30. Elaboracin del molde para la fabricacin de una placa de resina
epxica 70


Licenciatura en ingeniera qumica DAIA - UJAT xi

Lista de Tablas

No. Descripcin Pgina

1. Materiales y reactivos empleados en el proyecto. 33
2. Materiales y equipos que sern utilizados para la preparacin de
la resina epxica. 33
3. Propiedades mecnicas de la fibra de polister 45
4. Propiedades mecnicas de la resina epxica. 45
5. Valores obtenidos de f
para los rdenes fotoelsticos obtenidos

para la probeta 1 usando la Ec. (1.21). 49




para la probeta 5 usando la Ec. (1.21) 54

para la probeta 6 usando la ecuacin 1.21. 56
11. Propiedades mecnicas de fibra de polister 71
12. Propiedades mecnicas de resina epxica 71


Licenciatura en ingeniera qumica DAIA - UJAT xii

Introduccin

En el diseo de materiales compuestos, la adherencia lograda entre las fases
constituyentes es uno de los parmetros ms importantes. La adherencia se
puede determinar mediante un mtodo micromecnico.

La distribucin de esfuerzos puede ser analizada tambin por medio de sistemas
pticos que generan patrones de franjas de interferencia. Una tcnica de anlisis y
diseo mecnico es la fotoelasticidad, en la que dos haces luminosos con
polarizacin lineal interfieren entre s al propagarse a travs de un material
sometido a una carga. La interferencia de estos haces produce imgenes con
patrones de franjas que muestran la distribucin y el nivel de los esfuerzos
generados en el material.

La ley de esfuerzo ptico relaciona la propagacin de la luz a travs de diferentes
ndices de refraccin en un material o modelo fotoelstico con la distribucin de
esfuerzos en l al estar sometido a una carga.

El anlisis por medio de un sistema ptico de un modelo de material compuesto
genera imgenes con patrones de franjas que estn relacionadas con la
distribucin de los esfuerzos en todo el modelo. De esta manera se correlacionar
la distribucin de esfuerzos obtenida aplicando la tcnica de fotoelasticidad y la
distribucin equivalente obtenida a partir de las teoras de transferencia de
esfuerzo cortante.

Este trabajo est integrado por cuatro captulos. En el primero se establece la
teora del mtodo fotoelstico. El segundo captulo implica los fundamentos de
materiales compuestos, en el tercer captulo se describe el desarrollo
metodolgico de la investigacin, el captulo cuarto expone los resultados y la
discusin de los mismos.

Licenciatura en ingeniera qumica DAIA - UJAT xiii

Antecedentes

Las tecnologas modernas requieren de materiales innovadores, con una
combinacin inusual de propiedades imposible de conseguir con materiales
convencionales, estas necesidades hacen que las tendencias en el uso de los
diversos tipos de materiales se orienten progresivamente hacia el uso de
materiales compuestos [22-23].

Los materiales compuestos se forman cuando dos o ms materiales se combinan
para formar un material totalmente nuevo con una combinacin inusual de
propiedades imposible de conseguir con materiales tradicionales. Las propiedades
mecnicas de los materiales compuestos estn ntimamente ligadas a parmetros
de interaccin matriz/refuerzo.

Las interacciones entre las fibras y la matriz son extremadamente complejas y no
completamente entendidas. El modelo de transferencia de esfuerzo cortante es
descrito por Cox [18-19] e intenta explicar el proceso de refuerzo de las fibras. Su
investigacin fue desarrollada posteriormente por otros investigadores como
Outwater, Rosen y Dow [20]; que se centran en la transferencia del esfuerzo de
tensin de la matriz a la fibra por medio de fuerzas a cortante [17-19].

Zhao et al [23], plantean en el articulo Photoelastic analysis of matrix stresses
around a high modulus sapphire fibre by means of phase-stepping automated
polariscope que la adhesin interfacial en un modelo de fibra simple compuesto
por una fibra de zafiro y la resina epoxi es relativamente dbil, debido a la rpida
fragmentacin de la interface lograda entre ambos componentes.

Uno de los estudios recientes sobre el anlisis de interfaces en materiales fibro-
reforzados, es descrito por Vzquez Rodrguez [15], en su tesis doctoral Anlisis
de interfaces en materiales compuestos de fibra termoplstica y matriz termofija
por medio de la tcnica de fotoelasticidad, el cual se toma como base para la

Licenciatura en ingeniera qumica DAIA - UJAT xiv

presente investigacin de describir el diseo del material reforzado con una sola
fibra y los posibles patrones de fotoelasticidad.

Deuschle et al [24] en su trabajo Simulation of photoelasticity in a glass fiber
polymer matrix composite describen el comportamiento de un modelo de fibra
simple mediante simulacin numrica en 3D, tomando como base de apoyo los
patrones de esfuerzo obtenidos mediante la tcnica experimental fotoelasticidad,
sometiendo las probetas de fibra simple a esfuerzo de 10N/mm
2
, 20N/mm
2
y
30N/mm
2


Licenciatura en ingeniera qumica DAIA - UJAT xv

Justificacin
Actualmente muchos de los productos manufacturados que comnmente se
utilizan en nuestra vida diaria son elaborados con base a materiales compuestos.

Cuando los materiales comunes son incapaces de satisfacer las especificaciones
distintas de diseo para una determinada aplicacin, una de las soluciones ms
factibles puede ser emplear un material compuesto, la idea principal del desarrollo
de un material compuesto radica en la combinacin de dos o ms materiales
diferentes para obtener otro con propiedades superiores a la de sus componentes
individuales.
Son ampliamente conocidas las cualidades que posee un material compuesto y
las ventajas de su uso cotidiano, sin embargo se desconoce comportamiento fsico
de la fase de refuerzo y de la distribucin de los esfuerzos a travs de un material
compuesto.
Los estudios de Zhao et al [23] sealan que en un material compuesto de fibra de
zafiro y resina epxica, la zona que posee la mayor cantidad de esfuerzo se
encuentra en la regin ms cercana a los extremos de la fibra. Este hecho ha
propiciado que las investigaciones en el rea de materiales avanzados se centren
en el anlisis de campos de esfuerzos.
La trascendencia de esta investigacin radica en la obtencin de patrones
fotoelsticos de esfuerzo que permitan analizar la distribucin de las cargas en un
material compuesto de fibra simple sometido a cargas de tensin, teniendo como
fundamento principal la necesidad de explicar el comportamiento de las fibras en
un material compuesto fibro-reforzado y el anlisis del nivel de adherencia lograda
entre la matriz polimrica (resina epxica) y el material de refuerzo (fibra polister).


Licenciatura en ingeniera qumica DAIA - UJAT xvi

Objetivos

Objetivo General

Obtener patrones fotoelsticos que permitan analizar la distribucin del
esfuerzo y la adherencia interfacial en materiales compuestos de fibra
simple de resina epxica y fibra de polister usando el mtodo
fotomecnico. Siendo la finalidad principal del estudio la evaluacin de la
adherencia de los materiales para su empleo como recubrimientos y
aislantes trmicos.

Objetivos Especficos

Realizar la caracterizacin mecnica de la resina epxica.

Obtener las propiedades mecnicas de la fase de refuerzo (fibra de
polister) empleada en modelo de fibra simple.

Analizar la adherencia lograda entre los materiales constituyentes del
modelo de fibra simple.

Analizar la factibilidad en el uso del material compuesto como revestimiento
anticorrosivo y aislante trmico con base a los resultados de adherencia
interfacial obtenidos durante el estudio.

Licenciatura en ingeniera qumica DAIA - UJAT 1
Captulo I. Fundamentacin terica del mtodo fotoelstico

Fotoelasticidad es un mtodo experimental que se emplea en mecnica de
materiales para el anlisis de campos de esfuerzo y deformacin [1, 2].

1.1 Ley del esfuerzo ptico

Casi todos los materiales poseen la propiedad de doble refraccin temporal bajo
carga. Dependiendo del material, el fenmeno puede deberse a esfuerzos,
deformaciones, o ambas. La doble refraccin temporal, tambin es denominada
birrefringencia inducida. Al igual que los cristales, los materiales polimricos tienen
la capacidad de separar un haz de luz en dos componentes ortogonales con
polarizacin lineal, los cuales se propagan a diferente velocidad. El efecto de
doble refraccin temporal fue observada por primera vez en 1816 por Brewster [1],
siendo sta la caracterstica fsica base de la fotoelasticidad.

En general, un sistema de esfuerzo tridimensional posee tres esfuerzos principales
y tres direcciones en cualquier punto del material. En un cuerpo con doble
refraccin temporal, las direcciones de los esfuerzos principales coinciden con los
ndices de refraccin en las direcciones de los ejes cristalogrficos del material.
Maxwell formul las ecuaciones que relacionan a los esfuerzos aplicados con los
ndices de refraccin para materiales con birrefringencia inducida [3]:

( )
3 2 2 1 1 1
o o o + + = C C n n (1.1)
( )
1 3 2 2 1 2
o o o + + = C C n n (1.2)
( )
2 1 2 3 1 3
o o o + + = C C n n (1.3)

donde n es el ndice de refraccin del material en su estado pticamente

isotrpico, n
1
, n
2
, n
3
son los

ndices de refraccin para las ondas propagndose en
direccin paralela a los esfuerzos principales (no isotrpicos), o
1
, o
2
, o
3
, son los
esfuerzos principales y C
1
, C
2
son los coeficientes de esfuerzo ptico para un
material especfico.
Las ecuaciones anteriores fueron deducidas para materiales cristalinos, sin
embargo, pueden ser aplicadas a polmeros que permiten la refraccin de la luz.
Arreglando las Ecs. (1.1), (1.2) y (1.3) como diferencias de ndices de refraccin
no isotrpicos y eliminando n se obtiene:

( )( )
2 1 2 1 2 1
o o = C C n n

( )
2 1
o o = C ,

donde ( )
2 1
C C C = es el coeficiente relativo de esfuerzo ptico.

De la misma manera:

( )
3 1 3 1
o o = C n n (1.5)
( )
3 2 3 2
C n n o o = (1.6)

Las Ecs. (1.5) y (1.6) relacionan los ndices de refraccin en las direcciones de los
esfuerzos principales que actan en el sistema. De manera que si el esfuerzo
normal al material es constante, y el sistema de esfuerzos a travs del mismo no
vara, la diferencia entre los ndices de refraccin inducidos por el esfuerzo ser
constante y el material actuar como una placa de retardo temporal. Entonces una
luz polarizada propagndose a travs del material, se separar en dos haces
ortogonales con polarizacin lineal, que acumularn un retardo relativo entre ellos
a causa del esfuerzo aplicado; as, definiendo al retraso lineal relativo o como:

( )
2 1 L
C h o o o =
, (1.7)


Donde h
L
es el espesor de la probeta o la distancia recorrida por el haz de luz en
la probeta.

Las diferencias de los ndices de refraccin producen el retraso del haz que pasa
por el material. Planteando un sistema de esfuerzos en dos direcciones, el retraso
angular en radianes estara expresado de la siguiente forma:
( )
2 1
L
C
h 2
R o o
= (1.8)
o
2
R = , (1.9)

donde; R
es el cambio de fase angular (retardo en radianes) entre los dos

componentes vectoriales de las ondas propagndose despus de pasar por el
material bajo carga y es la longitud de onda de la luz empleada.

La Ec. (1.8) representa la ley de esfuerzo ptico y es la base de la fotoelasticidad.
Esta ley establece que el cambio de fase angular R
es linealmente proporcional a
la diferencia entre los esfuerzos principales o
1
- o
2
y al espesor h
L
del material e
inversamente proporcional a la longitud de onda de la luz empleada .

Reordenando la Ec. (1.8) y definiendo a N como el retraso relativo en trminos de
ciclos completos (orden de franja), y a
o
f como la deformacin necesaria para
provocar un cambio de un ciclo de una longitud de onda por unidad de espesor del
modelo (tambin es conocida como la constante de esfuerzo ptico con unidades
de N/m o lb
f
/plg) [2, 3]:

( )
C
1
h
1
2
R
L
2 1

t
o o

=
(1.10a)


o
t
= =
2
R
N
(1.10b)
C
f

o
=
(1.10c)

Agrupando trminos:

( )
L
2 1
h
1
C
N

o o =
(1.11)

Finalmente, la ley de esfuerzo ptico se escribe como:

( )
L
2 1
h
1
Nf
o
o o =
(1.12)

De las relaciones de esfuerzo-deformacin para un sistema bidimensional, se
sabe que la diferencia de los esfuerzos principales est relacionada con el
esfuerzo cortante mximo (
MAX
t ) de la siguiente forma:

( )
MAX
t o o 2
2 1
=
(1.13)

Reordenando se tiene:

( )
MAX
2 1
2
t
o o
=
(1.13a)

Ahora relacionando las Ecs. (1.13a) y (1.12), el esfuerzo cortante mximo puede
ser expresado en trminos de la teora de fotoelasticidad como:


L
MAX
h
Nf
2 2
2 1 o
o o
t =
=
(1.14)

El orden fotoelstico N es de gran importancia en fotoelasticidad, pues en
cualquier punto el esfuerzo cortante mximo (
MAX
t ) es directamente proporcional
al orden fotoelstico N. Los ordenes fotoelsticos se clasifican segn el orden de
aparicin en el modelo de anlisis, siendo el orden N=0 el primero en aparecer,
posteriormente emergen los ordenes N=1, N=2, N=3, N=4N=k. conforme se
aumenta la carga al espcimen

1.2 Patrones de esfuerzo a flexin pura

Para convertir los patrones fotoelsticos obtenidos a valores de esfuerzo cortante
mximo o de diferencia de esfuerzos principales, debe determinarse
experimentalmente el coeficiente fotoelstico del material (
o
f ). El mtodo ms
adecuado para la obtener el valor de la constante es emplear una probeta en
forma de viga simplemente apoyada en flexin pura del mismo material en estudio
dentro de su intervalo de respuesta de deformacin elstica. Esta viga al ser
cargada en puntos intermedios situados generalmente a distancias de de la
longitud genera un esfuerzo flexionante constante en el tercio central. La carga es
aplicada y un cierto tiempo despus el patrn fotoelstico generado es
fotografiado. Posteriormente se determinan las posiciones de los rdenes enteros
y se estiman los esfuerzos por medio de la teora de flexin.

De la teora de elasticidad se sabe que en una probeta sometida a flexin pura, el
esfuerzo en un punto situado a una distancia y del eje neutro de la probeta (Figura
1) est dado por la Ec. (1.15):

I
y M
x
= o , 0
y
= o , 0
xy
= t , (1.15)


Donde M e I son el momento flexionante y el momento de inercia de la seccin
transversal, respectivamente, y es la distancia desde el eje neutro al punto donde
se presenta un esfuerzo o
x
, que es el esfuerzo principal (Figura 1).

La Figura 1a muestra una probeta sujeta a flexin pura. Cuando se flexiona la
probeta, la porcin superior de la probeta estar sujeta a un esfuerzo de
compresin y la parte inferior a un esfuerzo a tensin. En la parte media de la
probeta se encuentra una zona en la que la transicin entre el esfuerzo de
compresin y tensin se lleva a cabo. Esta zona en la que el esfuerzo es cero, se
llama eje neutro y est localizada en el centro de la probeta.

La Figura 1b muestra la magnitud del momento flexionante en la probeta. La
Figura 1c muestra la distribucin de los esfuerzos en la porcin central de la
probeta.

Entonces, si en un punto q a una distancia y del eje neutro existe un esfuerzo o
x

que cause una diferencia de fase de una longitud de onda, entonces en todos los
puntos en la lnea horizontal (lnea AB) que pasa a travs del punto q, estarn
sometidos al mismo esfuerzo y tendrn la misma diferencia de fase formando una
banda oscura (Figura 1c). De manera similar todos los puntos en la lnea CD a una
distancia 2y del eje longitudinal, tendrn una diferencia de fase igual a dos veces
la longitud de onda. Por lo anterior, el patrn de esfuerzos para un sistema a
flexin pura consiste de bandas horizontales paralelas oscuras y brillantes
equidistantes entre s.

En la Figura 1 se puede observar las bandas en las que las diferencias de
esfuerzo o
x
- o
y
permanecen constantes a una distancia y (lnea AB) y 2y (lnea
CD). La franjas fotoelsticas obtenidas por flexin son simtricas respecto al eje
neutro de la probeta. De tal forma que al generar la deformacin necesaria para la
aparicin de dos franjas, estas aparecern en la parte superior e inferior del eje

neutro. De esta manera las lneas A-B y C-D estarn sometidas a un esfuerzo de
compresin igual al esfuerzo de tensin en las lneas A-B y C-D (Figura 1).

Figura 1. Esquema de flexin. Diagrama de cuerpo libre (a), diagrama de
momentos de flexin (b) y distribucin de esfuerzos (c)[15].

De tal manera que de acuerdo a la Ec. (1.11) podemos decir que una franja
fotoelstica oscura (de extincin) coincide con la trayectoria en la que se localizan
los puntos sometidos a una diferencia de esfuerzos principales constante o con un
esfuerzo cortante mximo constante. De tal manera que la aparicin de las franjas
Diagrama de momentos de flexin
M= pa
a
p p
p
p
a
Eje neutro
a)
b)
Diagrama de distribucin de esfuerzos
A B
C D
y
q
c)
2y
Eje neutro
A B
C D
Diagrama de cuerpo libre

fotoelsticas estn relacionadas directamente con el sistema de esfuerzos
generado en un material por una carga aplicada.

El momento mximo de flexin M est definido de la siguiente forma:

pa M =
(1.16)

donde, p es la carga empleada en Newtons (N) y a es la distancia entre apoyos
(Figura 1.1). As mismo, el momento de inercia I est definido como:

12
h h
I
3
L
=
(1.17)

donde h es la altura de la probeta en metros.

Sustituyendo en la Ec. (1.15), con y = h/2, se obtiene:

|
|
.
|
\
|
|
.
|
\
|
|
.
|
\
|
= =
12
h h
2
h
a
2
p
I
N f
3
L
x
o
o
(1.18)

Ahora despejando
o
f
de la Ec. (1.18) se obtiene:

2
Nh
pa 3
f =
o
(1.19)

La Ec. (1.19) proporciona el valor de la constante de franja fotoelstica cuando el
orden fotoelstico mximo (N) se encuentra en los bordes de la probeta.

El situar la franja con el mximo orden fotoelstico en el borde de la probeta es
uno de los mtodos para la calibracin fotoelstica usando una viga a flexin. Un
mtodo alterno es seleccionar una carga constante p y medir la distancia y hasta
cada orden fotoelstico N a partir del eje longitudinal neutro de la probeta.

En este caso, la Ec.(1.18) queda expresada de la siguiente forma:

( )
|
|
.
|
\
|
|
.
|
\
|
= =
12
h h
y a
2
p
I
N f
3
L
x
o
o
(1.20)

Despejando f
o

3
Nh
pay 6
f =
o
(1.21)

La Ec. (1.21) proporciona el valor de la constante de franja fotoelstica (f
o
) cuando
la franja fotoelstica de un orden fotoelstico (N) a cualquier distancia y desde el
eje neutro de la probeta.Para las Ecs. (1.19) y (1.21), p, es la carga en Newtons, a
es la longitud entre apoyos en metros, h es la altura de la probeta en metros, N es
el orden fotoelstico y
o
f
es el valor de la constante fotoelstica.

1.3 Naturaleza y comportamiento de la luz

La luz tiene una naturaleza dual y obedece leyes que pueden explicarse a partir de
una corriente de partculas o paquetes de energa llamados fotones, o a partir de
ondas transversales (movimiento ondulatorio). Hasta la fecha han sido planteadas
varias teoras sobre la naturaleza de la luz. Maxwell demostr con su teora que la
luz est compuesta de fluctuaciones peridicas de un campo electromagntico,

representado por dos vectores, uno elctrico y otro magntico, perpendiculares
uno del otro y en direccin de la propagacin de la luz.

1.4 Luz natural y luz polarizada

La mayora de las fuentes luminosas emiten una luz compuesta de ondas que se
propagan de forma aleatoria, cuyos vectores elctricos no tienen una orientacin
preferencial a este tipo de luz se le conoce como luz natural u ordinaria [2, 3, 5, 9].
En caso contrario, la luz polarizada se define como un conjunto de ondas en las
cuales el vector elctrico muestra una orientacin preferencial que define el eje
ptico del polarizador usado. Es decir cuando las ondas luminosas son forzadas a
vibrar de manera sistemtica en un plano normal a la direccin de propagacin, la
forma de polarizacin est determinada por el vector elctrico.

1.4.1 Luz con polarizacin lineal

La luz es polarizada linealmente cuando un grupo de ondas muestran una
orientacin fija al propagarse en el espacio. La luz con polarizacin lineal es
obtenida al forzar al vector de luz a vibrar en una sola direccin llamado plano de
polarizacin. Un haz luminoso con polarizacin plana puede ser separada en dos
componentes ortogonales. Estas componentes son conocidas como haz ordinario
y haz extraordinario (Figura 2) [1, 2, 3, 5].

1.4.2 Luz con polarizacin circular

Se dice que la luz es polarizada circularmente cuando el vector elctrico tiene una
magnitud constante y el extremo del vector describe una trayectoria circular
conforme la luz se desplaza a lo largo del eje vibracin (Figura 3) [1, 2, 3, 5, 9].



Figura 2. Movimiento del vector elctrico en un haz de luz linealmente
polarizado[16].

Figura 3. Movimiento del vector elctrico en un haz de luz polarizada
circularmente [16].

1.5 Polariscopio y elementos pticos de polarizacin

El mtodo fotoelstico requiere el uso de un arreglo ptico denominado
polariscopio que permite la manipulacin de un haz de luz polarizado, mostrando
patrones de esfuerzos cuando este se propaga a travs de un modelo sometido a
carga. [1, 2, 4, 6, 7].

Para la obtencin de los patrones de interferencia causados por los esfuerzos, un
polariscopio requiere del uso de dos elementos pticos, el primer elemento ptico
llamado polarizador posee transmitancia selectiva a una determinada direccin de

oscilacin de una onda luminosa. Cuando un haz de luz ordinaria atraviesa dicho
material, la luz saliente (transmitida) queda polarizada. Es decir, el polarizador
absorbe las componentes del vector luminoso que no vibran en direccin de los
ejes del polarizador [1, 2, 4, 6, 8].

El segundo elemento ptico se denomina placas de onda y tienen la capacidad de
dividir un haz de luz incidente en dos componentes ortogonales y aun ms,
haciendo que dichas componentes se propaguen a diferentes velocidades, los
materiales que exhiben esta propiedad se llaman materiales birrefringentes. Las
placas de onda son laminas de material birrefringente, Si la placa de retardo
genera una diferencia de fase de de longitud de onda o /2 radianes, la placa
es llamada placa de retardo de de longitud de onda, cuando la placa de retardo
genera un desfase de

longitud de onda o radianes entre el haz ordinario y
extraordinario, la placa se denomina como placa de retardo de
1
/
2
longitud onda

[1,
2, 5].

1.5.1 ptica del polariscopio lineal

La luz polarizada emergente de un polarizador plano es representada de la
siguiente manera.

K
1
= a sen(t ) (1.22)

Suponiendo que un plano birrefringente es colocado entre el polarizador y
analizador (Figura 4), con uno de sus ejes formando un ngulo respecto al plano
de vibracin del polarizador, el haz luminoso K
1
ingresa al plano de doble
refraccin causando que el haz luminoso K
1
se descomponga de la siguiente
manera.



Figura 4. Modelo fotoelstico sometido a esfuerzos colocado en banco de
polarizacin lineal.

K
2
= a sen(t) cos() (1.23)
K
3
= a sen(t) sen() (1.24)

Estas componentes emergen con un desfase angular causado por el espesor de
del modelo birrefringente, la longitud de onda de luz y la diferencia en los ndices
de refraccin del haz.

Por lo tanto las ecuaciones anteriores quedaran expresadas de esta manera:

K
4
=a cos() sen (t) (1.25)
K
5
= a sen() sen (t +) (1.26)

El analizador es mostrado perpendicular al plano de polarizacin, es decir que
polarizador y analizador se mantienen cruzados y solo las componentes K
2
y K
3

pasaran a travs de analizador. El haz de luz que emerge del analizador es K
4.

K
f
= K
5
cos() K
4
sen() (1.27)
K
f
= a sen() cos() sen (t +) - a cos()sen() sen(t) (1.27a)
Eje ptico
Polarizador
Eje ptico
Analizador
Modelo birrefringente
K
1

K
1

K
2

K
3

K
f

o
o
K
4

K
5


K
f
= a sen(2) [ (sen(t) cos())/2 +( sen() cos(t) sen(t))/2 ] (1.27b)

K
f
= a sen(2) {(sen() cos(t))/2 [(sen(t))(1-cos())]/2} (1.27c)

K
f
= a sen(2) sen( /2) [ cos(t) cos( /2) - sen(t) sen( /2)] (1.27d)

K
f
= d cos(t + /2) (1.28)

Donde d = a sen(2) sen(/2) es la amplitud del haz de luz que emerge. Una
medida de la intensidad luminosa es dada en la literatura como dos veces el
cuadrado de la amplitud. En el presente caso la intensidad luminosa es:

I = 2 a
2
sen
2
(2) sen
2
(/2) (1.29)

La extincin de la luz se obtiene cuando la intensidad es cero, por lo tanto esta
ocurre cuando se cumple una o ambas de las siguientes condiciones.

= 0, t/2, t, 3t/2,

/2 = 0, t, . . . = 0, 2t, . . . n(2t) donde n es un entero.

1.5.2 ptica del polariscopio circular

Para obtener un haz de luz polarizado circularmente, es necesario que las placas
de retardo a ambos lados del modelo en el esquema del polariscopio sean de
de onda [2, 3, 6, 17-19]. Para esta condicin, el ngulo debe ser igual a /4
como se muestra en la Figura 5.


Cuando los ejes pticos del polarizador y del analizador estn con los ejes
cruzados, se obtiene un polariscopio circular de campo oscuro. La expresin para
un haz emergiendo de un polarizador circular de campo oscuro es:

K
1
= a sen(t) (1.30)

Cuando el haz luminoso atraviesa la primera placa de retardo, este se divide en
dos componentes ortogonales K
2
y K
3
a lo largo de los ejes R y L (eje rpido y
lento), dichas componentes quedan expresadas de la siguiente manera.

K
2
= a sen(t) cos(/4 ) = (a/ sen(t) =d sen(t) (1.31)
K
3
= a sen(t) sen( /4 ) =(a/ sen(t) = d sen(t) (1.32)

Estos haces emergen de la placa de onda con un retardo angular de /2, por lo
tanto, las expresiones de los haces luminosos emergiendo de la placa de retardo
quedan de esta forma:

K
4
=d sen (t + /2) = d cos (t) (1.33)
K
5
= d sen(t) (1.34)

Donde d = (a/

Las ecuaciones anteriores, son ecuaciones paramtricas de un crculo, lo cual
muestra que la luz posee polarizacin circular. Suponiendo la existencia de un
modelo doble refractante colocado en la trayectoria de la luz, con uno de sus ejes
principales formando un ngulo en la direccin del eje R (eje rpido), la luz con
polarizacin circular es descompuesta en dos componentes K
4
y K
5
a lo largo de
los ejes principales del modelo birrefringente.



Figura 5. Modelo fotoelstico sometido a esfuerzos colocado en un polariscopio
circular de campo oscuro.

K
6
= K
4
cos() K
5
sen() = d cos() cos(t) - d sen() sen(t) (1.35)
K
7
= K
4
sen() + K
4
cos( ) = d sen() cos(t) - d cos() sen(t) (1.36)

Estas ecuaciones matemticas pueden ser expresadas como:

K
6
= d cos (t +) (1.37)
K
7
= d sen (t+) (1.38)

El modelo doble refractante provoca un desfase angular generando dos haces
luminosos propagndose a travs del plano, los haces salientes del modelo son:

K
8
= d cos (t + - ) (1.39)
K
9
= d sen (t+) (1.40)
Eje ptico

1er /4

Polarizador
K3
K6

K7

K1
K2
K4
K5
|
K8

K9

K10
K11
K12

K13

Kf

Plano de doble
refraccin

2do /4

Analizador

Eje ptico


La segunda placa de cuarto de onda est orientada de forma que sus ejes son
perpendiculares a los ejes correspondientes de la primera placa de retardo.
Las componentes del haz luminoso a lo largo de los ejes principales de la placa de
onda son:

K
10
= d cos() cos (t + - ) + d sen( ) sen (t +) (1.41)
K
11
= -d sen() cos (t + - ) + d cos () sen (t +) (1.42)

Las componentes del vector luminoso emergentes de la segunda placa de onda
con una diferencia de fase angular de /2 se expresan como:

K
12
= d cos cos (t + - ) + d sen sen (t +) (1.43)
K
13
= d sen sen (t + - ) + d cos cos (t +) (1.44)

Si el analizador es orientado con su plano de vibracin perpendicular al plano de
vibracin del polarizador, el vector de luz saliente del analizado queda expresado
por:

K
f
= a sen( /2) sen(t +2 - /2 ) (1.45)

Por consiguiente la intensidad luminosa es:

I = 2 a
2
sen
2
(/2) (1.46)

Para esta ecuacin solo se tiene una condicin para la extincin [20, 21].

( ) t t | t
|
2 ...., 2 , 0 , 0
2
para 0 n I = = =
Donde n es un entero que puede tomar valores de 0 a
y es conocido como
orden de franja isocromtica.

De esta manera, los puntos bajo una deformacin relativa a la cual se induce un
retardo igual a un numero entero (n= 1, 2, 3,. . .), forman una franja de extincin
llamada banda isocromtica, que puede ser empleada para encontrar la magnitud
del esfuerzo cortante mximo en un modelo fotoelstico.

Cuando los ejes pticos del polarizador y del analizador estn paralelos, se
obtiene un polariscopio circular de campo claro.

La ecuacin de un haz de luz emergiendo de un polariscopio circular de campo
claro es:

K
f
=a cos (/2) cos [(- 2 t)/2] (1.47)

la ecuacin para la intensidad.

I = 2 a
2
cos
2
(/2) (1.48)

Las condiciones de extincin son ahora [20, 21].

( ) t t t t |
t t |
2 ..., 5 , 3 ,
2
3
,
2 2
para 0
2
1
+ = = = n I

Ahora las franjas de extincin isocromticas coinciden con los rdenes
isocromticos medios y aparecen como franjas oscuras.


Captulo II. Materiales compuestos

Los materiales compuestos incorporan dos o ms materiales distintos, y estn
diseados para aprovechar las caractersticas favorables de cada material, y al
mismo tiempo eliminar o minimizar las propiedades indeseables de los
componentes, Las tecnologas modernas requieren de materiales innovadores,
con una combinacin inusual de propiedades imposible de conseguir con
materiales convencionales, estas necesidades hacen que las tendencias en el uso
de los diversos tipos de materiales se orienten progresivamente hacia el uso de
materiales compuestos [22, 23].

La mayora de los materiales compuestos se han diseado para mejorar la
combinacin de propiedades mecnicas tales como rigidez, tenacidad y
resistencia a la traccin.

Un material compuesto tpico consiste en una fase de refuerzo (generalmente en
forma de partculas, hebras o fibras) y de una fase continua llamada matriz que
mantiene unidas las partes discretas de refuerzo y les proporciona un soporte
natural. Como una regla, los materiales compuestos en los que la fase discontinua
est formada por fibras, el esfuerzo de fractura de las fibras excede
considerablemente al esfuerzo de fractura de la matriz y por consiguiente tales
materiales son conocidos como materiales compuestos fibro-reforzados [4, 16,17].

2.1 Interfase fibra/matriz

Gran parte de las propiedades mecnicas de los materiales polimricos reforzados
son influenciadas por parmetros ligados a la interaccin entre la matriz y la fase
de refuerzo. La interfase es la regin localizada entre la superficie de la fibra y la
matriz, la cual posee composicin y estructura propia como consecuencia de la

combinacin de propiedades fsicas mecnicas y qumicas de los materiales
constituyentes [21].

Las interfaces determinan en gran magnitud, la variedad de propiedades que un
material compuesto posee. El trmino de interfase es considerado en la literatura
en dos niveles. Primero a nivel molecular, se estudia la qumica y la fsica
molecular y en segundo lugar, la adherencia, incluyendo los aspectos tales como
la naturaleza y la densidad superficial de los enlaces de adhesin, la distribucin
de energa de estos enlaces, los rangos de accin, etc.

Desde el punto de vista de diseo, uno de los principales problemas es generar
una interface que permita la transferencia de carga por medio de un esfuerzo
cortante interfacial de una manera ms eficiente, que sin lugar a dudas es el
parmetro de diseo ms importante a nivel microscpico [17].

2.2 Pruebas micromecnicas

Con la finalidad de obtener los parmetros de interaccin interfacial entre fibras y
matrices se han desarrollado una variedad extensa de ensayos micromecnicos.

Solo pueden considerarse como pruebas micromecnicas al grupo de ensayos en
los que los especmenes estudiados poseen una sola fibra en su estructura.

La pruebas micromecnicas suelen clasificarse en dos grupos. Al primer grupo
pertenecen la pruebas donde la carga externa directamente aplicada a la fibra
(Figura 6); dentro de este conjunto podemos destacar la prueba de extraccin de
una fibra a tensin (pull-out) [10] (Figura 6a) y sus variaciones, como la prueba de
microgota (Figura 6b) y la prueba de extraccin de una fibra a compresin (Push-
out) (Figura 6c).


El segundo grupo de ensayos lo conforman pruebas donde la carga es aplicada a
la matriz del material compuesto (Figura 7). A este tipo pruebas pertenece la
prueba de fragmentacin [11] (Figura 7a) y la prueba de Broutman [12] (Figura 7b)

Figura 6. Ensayos micromecnicos en los que la carga es aplicada directamente
sobre la fibra: Pull-out (a), microgota (b) y push-out (c) [15].
.
Han surgido extensas discusiones relacionadas a la aplicacin del mtodo
micromecnico apropiado que permita la obtencin de las caractersticas de la
interfase en un material compuesto.

Es conveniente decir, que el mtodo correcto para caracterizar una interface es
aquel que experimenta una distribucin de esfuerzos similar a la de material
compuesto real.

Por lo tanto, para los materiales compuestos con matrices dctiles y fibras frgiles,
la prueba de fragmentacin sera el mtodo idneo de anlisis. En caso contrario,
para los compuestos formulados en base a matrices frgiles que fallan a travs de
mltiples fracturas (con fibras de refuerzo uniendo una fractura) la prueba de Pull-
out es la ms adecuada.

F
L
a)
b)
c)
Matriz
Fibra Soporte
F F
L
L


Figura 7. Pruebas micromecnicas en las que la carga es aplicada sobre la
matriz: fragmentacin (a) y prueba de Broutman (b) [15].

2.3 Modelo de transferencia de esfuerzo cortante (Modelo Shear-lag)

Para la obtencin de materiales compuestos con buenas propiedades, es
indispensable hacer nfasis especial en uno de los factores ms influyentes en la
concepcin de materiales compuestos como lo es el proceso de refuerzo [18, 19,
20].

Las complejas interacciones entre la fase matriz y las fibras no son del todo
entendidas, el modelo de transferencia del esfuerzo cortante interfacial shear-lag,
es el primer estudio que intenta explicar el proceso de refuerzo de las fibras y est
basado puramente en interacciones elsticas [13, 14, 18, 19].

La eficacia en la transferencia de fuerzas en un material compuesto, depende en
gran medida de la naturaleza y propiedades de fibras y matrices, como tambin de
la calidad de la interfase formada entre ambas [18,19, 21].
El proceso de refuerzo y las interacciones entre fibra/matriz, pueden ser
estudiadas suponiendo que la transferencia de carga se genera mediante fuerzas
a cortante y depende de las transferencia elstica de fuerzas y del nivel de
adherencia [18, 19].

(a)
(b)
Matriz
Fibra

En la Figura 8a presenta un modelo de material compuesto formado por un
segmento de una fibra embebida en una matriz. Inicialmente el modelo se
encuentra libre de esfuerzos, por lo tanto la deformacin es nula, como resultado
podemos visualizar que las lneas de permanecen rectas.

Cuando inducimos un esfuerzo
1
o al modelo en direccin paralela a la fibra, la
matriz se dilata en la direccin del esfuerzo (Figura 8b). Y al mismo tiempo
transfiere una cantidad de esfuerzo
f
o a la fibra a travs la interfase, generando
una elongacin en la fibra producto de la transferencia del esfuerzo. Ahora las
lneas de referencia mostradas en La Figura 8b sufren distorsiones mostrando los
perfiles de elongacin a los cuales tanto la fibra como a la matriz circundante
estn sometidas.

Finalmente, la Figura 8c, exhibe las distorsiones producidas por la transferencia
del esfuerzo en un elemento diferencial de la fibra.

En este esquema se puede observar como las elongaciones sufridas en la matriz
por efecto del esfuerzo
1
o son transmitidas a travs de un esfuerzo cortante
t

que aminora su intensidad hasta la superficie de la fibra. El esfuerzo cortante
i
t

en la superficie de la fibra ocasiona que el elemento diferencial de la fibra se dilate
al ser sometido a un esfuerzo
f
o
+
f
do
.



Figura 8. Esquema del modelo de Shear-lag, (a) modelo libre de fuerzas, (b)
desplazamiento axial uR inducido al aplicar un esfuerzo de tensin paralelo a la
fibra y (c) la variacin radial del esfuerzo cortante y la deformacin en la matriz
[15].

2.3.1 Distribuciones del esfuerzo y de la deformacin

De acuerdo a la Figura 8c el esfuerzo interfacial de corte
t
en el interior de la
matriz a una distancia x a lo largo de la fibra es obtenido por medio de un balance
de fuerzas de corte que actan sobre las vecindades de un nulo con radios r
1
y r
2

en una longitud dx.

dx r dx r
2 2 1 1
2 2 t t t t =

(2.1)

1
2
2
1
r
r
=
t
t
(2.2)
a)
b)
c)

Por lo tanto, el esfuerzo de corte
t
en la matriz a cualquier radio
desde el
centro de la fibra (Figura 8c) est relacionado con el esfuerzo cortante interfacial
entre la fibra y la matriz
i
t
de la siguiente forma:

|
|
.
|
\
|
=
t t
r
i
(2.3)

Donde
t
es el esfuerzo cortante en la matriz, es un radio a partir del centro de
la fibra y
i
t
es el esfuerzo cortante interfacial.

Las deformaciones generadas alrededor de la fibra pueden ser definidas en
trminos de las elongaciones u de la matriz en la direccin x respecto a la posicin
en la que se encontraban cuando estaban libres de esfuerzos (Figura 8). El
incremento de la elongacin , du hacia el seno de la matriz desde el centro de la
fibra est determinado por la deformacin de corte
, de tal manera que:

|
|
.
|
\
|
= = =
t t
r
G G d
du
m
i
m
(2.4)

Donde d es la variacin de la distancia radial desde el centro de la fibra, du es
la variacin de la elongacin de la matriz, r es el radio de la fibra,
es la
deformacin de corte,
t
es el esfuerzo cortante en la matriz y G
m
es el mdulo a
cortante de la matriz definido por:

|
.
|
\
|
+
=
m
m
E
m
G
u 1 2
(2.5)


Donde E
m
es el mdulo de elstico de la matriz, y
m
u es la relacin de Poisson de
la matriz.

La relacin entre la deformacin transversal y la longitudinal de define como
relacin de Poisson. Por lo tanto, para evaluar este parmetro es necesario medir
la variacin de longitud y la anchura de las probetas durante el ensayo.

Para cualquier valor de x, la diferencia entre el desplazamiento de la matriz a un
radio R y el desplazamiento que se ejerce en la interfase, puede ser definido
integrando la Ec. (2.4):

} }
=
R
r
u
u
R
r
m
i
d
G
r
du
t
, (2.6)

donde
R
u es la elongacin a un radio R desde el centro de la fibra,
r
u es la
elongacin sobre la superficie de la fibra y r es el radio de la fibra.

Realizando la integracin:

|
.
|
\
|
= |
.
|
\
|

r
R
m
G
r
i
r
u
R
u ln
t
(2.7)

Se asume que la deformacin en la matriz tiene un comportamiento lineal desde
las vecindades de la fibra hasta una posicin remota en la matriz. El radio R est
localizado en una posicin remota donde el patrn de deformaciones es constante.
En un material compuesto con un cierto arreglo en las fibras, el valor apropiado de
(R/r) depende de la proximidad de las fibras vecinas y por consiguiente de la
fraccin volumtrica de fibra f. La relacin exacta entre (R/r) y f depende del
arreglo de las fibras, sin embargo, la relacin (R/r) en el resultado final tiene una
forma logartmica, lo que lo hace poco sensible al tipo de arreglo en las fibras.

Para un arreglo hexagonal, la fraccin volumtrica f est definida de la siguiente
forma.

( )( ) 3 2
r
2
R R
f =
(2.8)

Reordenando:

f f r
R 1
3 2
2
~ = |
.
|
\
| t
(2.8b)

La distribucin de los esfuerzos de tensin en la fibra
f
o , pueden definirse en
funcin del esfuerzo cortante interfacial tomando como base el balance de fuerzas
que actan sobre un elemento diferencial dx de la fibra (Figura 8c):

f i
d r rdx o t t t
2
2 = (2.9)
r dx
d
i
f
t
o
2
=
, (2.9b)

donde
f
o es el esfuerzo a tensin en la fibra, x es la direccin en la que la fibra se
est elongando,
i
t
es el esfuerzo cortante generado en la interfase fibra-matriz y r
es el radio de la fibra.

La variacin del esfuerzo cortante interfacial
i
t
a lo largo de la longitud de la fibra
x es desconocida pero usando la Ec. (2.7) es posible relacionar las elongaciones
en la matriz con las deformaciones en la fibra en direccin axial asumiendo que no
existen deformaciones de corte y que la adhesin interfacial es perfecta de tal
forma que las elongaciones en la superficie de la fibra sean iguales a las de la
matriz circundante (u
r
= u
f
).


Sustituyendo las Ecs.2.5), (2.6) y (2.7) en la Ec. (2.9b) se tiene que:

( )
( )
|
|
.
|
\
|
+
=
f
r
u u E
dx
d
m
f R m f
1
ln 1
2
2
u
o
, (2.10)

donde u
R
y u
r
son las elongaciones en la matriz a dos radios diferentes desde el
centro de la fibra, E
m
es el mdulo de elstico de la matriz,
f
o es el esfuerzo a
tensin en la fibra,
m
u es la relacin de Poisson de la matriz y f es la fraccin
volumtrica de la fibra en el material compuesto.

La deformacin en la zona elstica de la fibra es:

|
|
.
|
\
|
= =
f
f
f
f
E dx
du o
c
, (2.11)

donde u
f
es la elongacin en la fibra,
f
c
es la deformacin en la fibra,
f
o es el
esfuerzo sobre la fibra y E
f
es el mdulo elstico de la fibra.

Para el anlisis de la matriz, si se considera que la elongacin diferencial u
R
se
produce en un campo lejano a la fibra, se puede asumir que la deformacin de la
matriz es casi igual a la deformacin total del material compuesto
1
c
. As se tiene
entonces que:

1
c c ~ =
m
R
dx
du
, (2.12)

donde u
R
es la elongacin en la matriz a una distancia R del centro de la fibra,
m
c
es la deformacin en la matriz y
1
c es la deformacin en el material compuesto.


Finalmente, la distribucin de esfuerzos a lo largo de la fibra puede ser
determinada diferenciando la Ec. (2.10) y sustituyendo en esta las Ecs. (2.11) y
(2.12) (Figura 9).

( )
1
2
2
2
2
c o
o
f f
f
E
r
n
dx
d
= , (2.13)

donde el parmetro n est definido de la siguiente manera:

( )
2
1
1
ln 1
2
(
(
(
(
(
|
|
.
|
\
|
+
=
f
E
E
n
m f
m
u
(2.14)

La Ec. (2.13) es una ecuacin diferencial lineal de segundo orden cuya solucin es
la siguiente:

|
.
|
\
|
+ |
.
|
\
|
+ =
r
nx
D
r
nx
B E
f f
cosh senh
1
c o
(2.15)

Aplicando las siguientes condiciones de frontera:
f
o = 0 cuando x = L y x = - L
(Figura 9) donde L es la mitad de la longitud total embebida de la fibra y definiendo
la relacin de aspecto como L/r = s se tiene la siguiente solucin para la Ec.
(2.15).
( )
(
|
.
|
\
|
= ns
r
nx
E
f f
sech cosh 1
1
c o , (2.16)

donde E
f
es el mdulo elstico de la fibra,
1
c es la deformacin en el material
compuesto, n es el parmetro definido en la Ec. (2.14) y s es la relacin de

aspecto. La distribucin del esfuerzo cortante interfacial a lo largo de la fibra se
obtiene diferenciando la Ec. (2.16) segn la Ec. (2.9b) y [19].

( ) ns
r
nx
E
n
f i
sech senh
2
1
|
.
|
\
|
=
c
t (2.17)
La Figura 9 muestra el comportamiento del esfuerzo cortante interfacial t
i
y del
esfuerzo sobre la fibra embebida o
f
empleando las Ecs.(2.16) y (2.17), en un
modelo de material compuesto formado por una fibra embebida en una matriz.

2.3.2 Transferencia de esfuerzo entre fibra-matriz

Las Ecs. (2.16) y (2.17) permiten hacer predicciones sobre la distribucin de los
esfuerzos a lo largo de una fibra cuya longitud embebida es 2L. Un ejemplo se
presenta en la Figura 10 en ella se muestran las variaciones del esfuerzo en la
fibra y el esfuerzo cortante interfacial a lo largo de la longitud embebida de la fibra
en un material compuesto.

Las curvas de la Figura 10 corresponden a dos relaciones de aspecto diferentes
para un material compuesto modelo sujeto a un esfuerzo de tensin paralelo a la
fibra. El esfuerzo a tensin es cero en los extremos de la fibra y mximo en el
centro de la misma.

Por otro lado, el esfuerzo cortante interfacial es cero en el centro y alcanza su
valor mximo en los extremos.



Figura 9. Distribucin de esfuerzo cortante interfacial y del esfuerzo a lo largo de
una fibra embebida en una matriz considerando una transferencia de esfuerzo
totalmente elstica [15].

Para el caso de una relacin de aspecto s = 50, la longitud de la fibra es lo
suficientemente larga para que la transmisin del esfuerzo cortante produzca una
deformacin igual a la que presenta el material compuesto.

Este comportamiento lleva al concepto de longitud crtica de transferencia de
esfuerzo cortante entre la fibra y la matriz. Este concepto sostiene que la longitud
de la fibra debe ser lo suficientemente larga para permitir una transferencia de
esfuerzo de tal forma que la deformacin en la fibra sea igual a la del material
compuesto, siempre y cuando el sistema se mantenga en la regin elstica y no
se presente una falla interfacial.

La longitud crtica depende entonces del mdulo elstico de la fibra, del mdulo
elstico de la matriz y de la calidad de la interfase. Para la relacin de aspecto
baja (s = 5 Figura 10), la longitud de la fibra no es lo suficientemente larga como
para que el esfuerzo cortante interfacial transfiera el esfuerzo necesario para que
la deformacin en la fibra y en el material compuesto sean iguales.

L


Figura 10. Distribucin del esfuerzo a tensin en la fibra (a) y del esfuerzo
cortante interfacial (b) para dos relaciones de aspecto L/r = s de una fibra
embebida en una matriz [15].

s= 50
s= 5
Distancia desde el centro de la fibra, L/(rs)
t
i

0
0
-1 1
o
f

0
Distancia desde el centro de la fibra, L/(rs)
-1 1
s= 50
s= 5


Captulo III. Metodologa

3.1 Material, equipo y reactivos

En la Tabla 1 y 2 se indican los materiales que se utilizaron en esta investigacin.

Tabla 1.Materiales y reactivos empleados en el proyecto.
Nombre
Contenido del grupo
epxico(mmol/kg)
Porcentaje
del grupo
epxico
Viscosidad
a 25 C(
mPa.s)
Densidad a
25 C (g/ml)
Resina epxica ROYAPOX 511
distribuida por Royal Diamond
5100 a 5600 22.4 a 23.6
4000 +-
1000
1.15 +- 0.01
Nombre
Contenido de
amina(mgKOH/g)
Viscosidad a 25 C(cP)
Densidad a
25 C(g/ml)
Agente entrecruzante
ENDURECEDOR 511 distribuido por
Royal Diamond
620 250+- 100 0.95+-0.02
Nombre Dimetro de la fibra (mm)
Fibra de polister marca distribuida
por Tenex
1.36 a 1.40

Tabla 2. Materiales y equipos utilizados para la preparacin de la resina epxica.
Material Equipo
Pelcula desmoldante
Balanza electrnica Ohaus Scout Pro
Placa de vidrio(29 cm x 51 cm)
Maquina de pruebas universales tipo INSTRON 3384
Pelcula de polister(35 cm x 25 cm)

Vasos de polietileno(16 Oz)

Agitadores de madera


3.2 Resina epoxica y agente de entrecruzamiento

El mtodo utilizado para el anlisis del esfuerzo cortante interfacial en un modelo
de fibra simple, es la tcnica experimental denominada fotoelasticidad
(fotoesfuerzo).

La matriz polimrica empleada para esta finalidad debe poseer una respuesta
fotoelstica adecuada, debido a lo anterior se opt por utilizar una resina epxica
de nombre comercial ROYAPOX 511 y un agente entrecruzante llamado
ENDURECEDOR 511, ambos productos distribuidos por Royal Diamond. El
proceso de curado de las probetas se efectu en condiciones ambientales con un
tiempo de curado de 48 hrs.

El proveedor del agente de entrecruzamiento y la resina epxica proporcion la
relacin ptima que corresponde a 100 g de resina epxica y 50 g de
entrecruzante, relacin que result ser no adecuada para los fines de la
investigacin, debido a lo cual se decidi aumentar la cantidad de entrecruzante
en la mezcla para generar un resina ms plastificada.

Para preparar la resina epxica iniciamos pesando 100 g de resina en un vaso de
polietileno, posteriormente se agregan 75 g de agente de entrecruzamiento y se
agita la mezcla durante al menos 5 min, finalmente se vierte la resina en el molde.

3.3 Anlisis mecnico de la resina

Con el propsito de realizar la calibracin mecnica de la resina se dise un
proceso metodolgico para la obtencin de las probetas para el anlisis. Este
procedimiento inicia con la fabricacin de moldes (ver Anexo B) de nylon (nombre
comercial Nylamid), cuyas proporciones y geometra se muestran en la Figura 11.

Previo a proceder al llenado del molde con la resina epxica, debe aplicarse una
capa de pelcula desmoldante al recipiente de Nylon para extraer la probeta al
trmino del perodo de curado.

Teniendo como finalidad la obtencin de una probeta con espesor constante, debe
nivelarse una placa de vidrio de 29 cm de ancho y 51 cm de largo, sobre la cual
fue adherida una pelcula de polister y sobre esta fue colocado el molde de Nylon
con desmoldante.

El espacio central del molde fue llenado con resina epxica preparada segn las
especificaciones mencionadas en la seccin 3.2 (100 g resina/75 g de agente
entrecruzante) hasta lograr un espesor de 1.2 cm.

Figura 11. Dimensiones del molde para la elaboracin de la placa de resina
epoxica.

Posteriormente, se deja curar a la mezcla a temperatura ambiente por un periodo
de 48 h. Al final de ste lapso, la placa de resina fue desmoldada y sometida a un
proceso de troquelado para generar las probetas.
1
9

c
m

30 cm
1
4

c
m

25 cm
cm<<<<<
<
2 cm

Finalmente las probetas fueron sometidas a un proceso de pulido con una lija de
agua calibre 2000 para proporcionar el acabado final.

Las pruebas se efectuaron en una mquina de pruebas universales INSTRON
modelo 3384, a una velocidad de 5 mm/min empleando una celda de carga de 15
kN.

3.3.1 Calibracin fotoelstica de la resina

Para la calibracin fotoelstica de la resina fue obtenida una placa plana de 1.2 cm
de espesor con el mismo mtodo empleado en la seccin 3.2. Las probetas
fueron cortadas en una sierra de disco de diamante, obteniendo especmenes de
1.0 cm de altura, 10 cm de largo y con un espesor de 10 mm. Posteriormente,
cada probeta fue rectificada con una pulidora empleando una lija calibre 2000. La
tolerancia de las probetas terminadas fue de 1mm, siendo de vital importancia
que cada una est perfectamente escuadrada.

El procedimiento para la calibracin fotoelstica de la resina fue el siguiente: Las
probetas fueron colocadas en un marco de carga de flexin (Figura12) acoplado a
la mquina de pruebas universales INSTRON 3384. Se aument la carga hasta la
aparicin de una banda oscura en el centro de la probeta. Esta banda oscura es el
orden fotoelstico cero (N = 0), lo que indica que se alcanz la deformacin
suficiente para la aparicin del primer orden fotoelstico. En este punto el orden
fotoelstico uno (N = 1) se situ en los bordes exteriores de la probeta [4].

El orden fotoelstico uno (N =1) es difcil de situar sobre las orillas de la probeta,
por lo que fue necesario ejercer una carga mayor, que hace que el orden N = 1 se
desplace desde las orillas de la probeta hacia el centro de esta pudiendo ahora
localizar la franja isocromtica de manera exacta sobre la cara de la probeta.
La imagen del patrn fotoelstico anterior fue tomada unos instantes despus de
haber cargado la probeta registrando la carga aplicada.


Figura 12. Marco de carga para flexin empleado para calibracin fotoelastica de
la resina epxica [15].

El segundo orden (N = 2), se obtiene ejerciendo cargas superiores a las
empleadas para el orden N = 1, que en consecuencia migra ms hacia el centro
de la probeta hasta que se observa la aparicin de una nueva franja isocromtica
en la orilla de la probeta (orden fotoelstico N = 2). La carga fue incrementada
hasta que el nuevo orden fotoelstico N = 2 se ubic en la misma posicin que
inicialmente ocupaba el orden N = 1, registrando la imagen y la carga del nuevo
patrn fotoelstico unos segundos despus de aplicada la carga. Las imgenes de
los patrones fotoelsticos de orden superior fueron obtenidas con el mismo
procedimiento procurando no sobrepasar el lmite elstico del material. Se calcula
el esfuerzo de flexin correspondiente a la carga empleando la Ec. (1.19) o la Ec.
(1.21), graficado contra el orden de franja en un punto especfico. Posteriormente,
se midi la pendiente a una lnea recta que se ajust a los puntos obtenidos. La
pendiente de la lnea recta es el valor de la constante fotoelstica del material f
o
en
Newtons por metro.

a
Probeta
Puente fijo


3.4 Caracterizacin mecnica de la fibra de polister

Para este ensayo se elaboraron dos grupos de 4 probetas, la Figura 13 muestra el
esquema de las pruebas a tensin efectuadas a las fibras de polister.

Para realizar el anlisis mecnico de la fibra polister, se ejecutaron un conjunto
pruebas a tensin segn la norma ASTM D 2343-67 en una mquina de pruebas
universales INSTRON modelo 3384, la velocidad empleada para este ensayo fue
15 mm/min usando una celda de carga de 15 kN, la longitud de los especmenes
fue de 150 mm, la distancia localizada entre las mordazas fue de 50 mm.

3.5 Arreglo del polariscopio

Se utiliz un banco fotoelstico lineal de campo oscuro compuesto de dos
elementos pticos, un marco de carga y una fuente de luz blanca alineados como
se muestra en la Figura 13.

La ubicacin de los ejes pticos de los elementos polarizadores en el polariscopio
fue la siguiente. El eje de ptico del primer polarizador est desfasado 90
respecto al plano de vibracin del segundo elemento de polarizacin (analizador)
[1-3]. La distancia entre el frente de la lmpara al primer polarizador fue de 15 cm,
el espacio localizado entre el primer y el segundo elemento ptico fue de 80 cm.
Finalmente el lente de la cmara se ubic a 3 cm del analizador. La fuente de luz
debe encenderse de 15 a 20 minutos antes de las pruebas para que alcancen su
mxima intensidad.



Figura 13. Esquema de pruebas a tensin para las fibras en la mquina de
pruebas universales INSTRON 3384[15].

Figura 14. Disposicin del banco de polarizacin lineal de campo oscuro con
marco de carga.

Cmara
1
er
Polarizador
Analizador
Carga
Difusor
Fuente
Luminosa
Base fija
Cabezal mvil
Fibra
Mordazas

3.5.1 Calibracin del polariscopio

El procedimiento para la calibracin del polariscopio fue el siguiente [1]: El primer
paso fue colocar el primer polarizador y el analizador en el banco de polarizacin
con la lmpara ya encendida, para as obtener la extincin del haz de luz
propagndose en el polariscopio. Esto se logra fijando el polarizador y rotando el
analizador, hasta que la luz sea extinguida y se observe un campo oscuro como
respuesta en el analizador. Con esto, se asegura que los ejes pticos del
polarizador y el analizador estn cruzados.

El segundo paso fue localizar las direcciones de los ejes pticos del polarizador y
del analizador. Esto se puede hacer examinando un disco de un material
fotoelstico sometido a una carga especfica. Se coloca el disco y se aplica una
carga de compresin a lo largo del dimetro, asegurndose de que la carga est
orientada verticalmente.

Posteriormente, tanto el polarizador como el analizador fueron rotados
manteniendo los ejes pticos de ambos cruzados, hasta lograr la aparicin de una
franja de extincin (isoclina) a lo largo del eje de simetra del modelo. En este
punto la direccin de los ejes pticos del polarizador y del analizador son
conocidos, ya que uno de ellos (polarizador) est alineado en direccin paralela
con la carga aplicada verticalmente, quedando el eje ptico del analizador en
direccin perpendicular. La configuracin del polariscopio hasta este punto
corresponde a una polarizacin lineal de campo oscuro.

Si se desea cambiar la configuracin del polariscopio de campo oscuro a campo
claro, solo se debe rotar ya sea el polarizador o el analizador un ngulo de 90.
Mediante esta rotacin los ejes pticos del polarizador y del analizador estn
paralelos. La configuracin de campo oscuro permite obtener valores enteros de
los rdenes de franja isocromtica y con la configuracin de campo claro se

obtienen lneas de extincin correspondientes a los rdenes medios de las franjas
isocromticas.

3.6 Elaboracin del modelo de fibra simple

Al marco rectangular esquematizado en la Figura 11, le fue aplicado una capa de
pelcula desmoldante, acto seguido el molde fue situado sobre una pelcula de
polister adherida a un vidrio nivelado, procedindose despus al llenado de la
cavidad central con la resina epxica preparada con la metodologa mencionada
en la seccin 3.2 hasta lograr un espesor de 0.6 cm, seguidamente se deja curar
la resina por espacio de 5 h, en este punto la resina epxica posee la densidad y
viscosidad suficiente para sostener sobre su superficie las fibras de polister
empleadas en el modelo, la longitud de cada fibra es 1.5 cm. posteriormente se
aplica una segunda capa de resina hasta lograr de un espesor de 1.2 cm.

Figura 15. Fibras de polister embebidas en una placa de resina epxica para la
elaboracin de probetas del modelo de fibra simple y dimensiones del molde.

30 cm
La longitud de fibra es de 1.5cm.
Resina epxica
1
9

c
m


Las probetas para el modelo de fibra simple fueron cortadas a partir de la placa
desmoldada del paso anterior (Figura15) en una sierra de disco de diamante.
Cada probeta posee las siguientes dimensiones: 14 cm. de largo, 1.1 cm de ancho
y un espesor de 1.1 cm (Figura 16). La fibra fue longitudinalmente embebida en el
centro del bloque. Para dar el acabado final, probetas fueron pulidas con una lija
de grano fino (calibre 2000).

Figura 16. Dimensiones de la probeta para el modelo de fibra simple.

3.7 Esfuerzo cortante usando fotoelasticidad para el modelo de fibra
simple.

Para este ensayo se emple un grupo de 6 probetas, las mediciones se efectuaron
en el banco ptico esquematizado en la Figura 14, para aplicar carga a las
probetas se empleo la mquina de pruebas universales INSTRON 3384.

El proceso para la obtencin de los patrones de esfuerzo fotoelstico llev el
siguiente orden metodolgico: el paso inicial fue acoplar al banco ptico de
polarizacin lineal a la mquina de pruebas universales.

El segundo paso fue realizar el montaje de las probetas en la mquina de pruebas
universales, cuidando en todo momento que la orientacin de la probeta sea
perfectamente vertical (Figura 17).

14 cm
1.1 cm
1.1 cm

Seguidamente se inici el proceso de carga en la probeta hasta lograr la aparicin
de los patrones de esfuerzo fotoelstico. La carga empleada para este proceso fue
de 35.12N.

Finalmente los patrones fotoelsticos fueron capturados con un equipo fotogrfico
compuesto por una cmara digital Sony cybershot de 7.2 megapixeles acoplada
a un trpode. La imagen del patrn fotoelstico fue tomada solo unos instantes
despus de haber cargado la probeta registrando al mismo tiempo la carga a la
que fue sometida, posteriormente se ejercieron cargas mayores a la probeta y de
la misma manera los patrones de esfuerzo fotoelsticos fueron fotografiados y la
carga ejercida sobre la probeta fue registrada.

Figura 17. Probetas del modelo de fibra simple sometidas a cargas de tensin en
la mquina de pruebas universales INSTRON 3384.

Base fija
Cabezal mvil
Probeta
Mordazas para
probetas rectangulares

Captulo IV. Resultados y discusin

4.1 Caracterizacin de la fibra de polister

En la Figura 18 se muestra la curva tpica de esfuerzo-deformacin para una fibra
polister, mientras que en la tabla 3 se muestran los resultados del anlisis
mecnico de la fibra polister a tensin.

Figura 18. Curva de esfuerzodeformacin para una fibra tpica de polister de
acuerdo a la norma ASTM D 2343-67.

El valor promedio del Mdulo de Young para las dos series de cuatro probetas
fue de 4,358 MPa (ver Tabla 4). El mdulo de Young obtenido para la fibra es en
promedio 1.5 veces ms alto en comparacin con el mdulo de la matriz que fue
de 2837.52 MPa, lo que asegurar que la fibra tenga deformaciones bajas o nulas
y que se mantenga en su regin elstica al realizar ensayos.

Deformacin (%)
E
s
f
u
e
r
z
o

(
G
P
a
)


Tabla 3. Propiedades mecnicas de la fibra de polister

Carga a la
Rotura (N)
Modulo de
Young(MPa)
Esfuerzo de
traccin a la rotura
%
Deformacin
Promedio 511.77 4357.79 332.45 12.64
Desviacin
estndar
162.71 382.29 105.69 1.72

4.2 Propiedades mecnicas de la resina epxica

El anlisis del mecanismo de transferencia de carga en un material compuesto de
fibra simple se desarroll en la presente investigacin asumiendo una
transferencia de carga elstica entre la fibra y la matriz. Es lgico asumir que el
efecto de la transferencia de carga en este tipo de materiales se ver reflejado en
la fase matriz. Es vital entonces que la matriz empleada en el presente modelo
sea sensible a las deformaciones provocadas por la transferencia de esfuerzo y
por el contrario la fibra embebida debe mantenerse libre de deformaciones a lo
largo de todo el ensayo.

Tabla 4. Propiedades mecnicas de la resina epxica.

Carga a la
Rotura (N)
Modulo de
Young(MPa)
Esfuerzo de
traccin a la rotura
%
Deformacin
Promedio 3,794.26 2837.52 32.63 5.72
Desviacin
estndar
763.43 187.07 6.12 0.39

Los resultados obtenidos para el anlisis a tensin de la resina epxica son
presentados en la Tabla IV.


Puede observase en la tabla anterior, que los valores del mdulo de Young de la
resina epxica son menores en relacin a los mdulos obtenidos para la fibra de
polister.

4.3 Calibracin fotoelstica de la resina

La probeta fue situada en el marco de carga para flexin acoplado a la mquina
de pruebas universales INSTRON 3384 cuidando que la probeta se mantenga
centrada durante el proceso de carga.

En la Figura 19, se presentan las imgenes de los patrones fotoelsticos de una
viga sometida a flexin pura. En esta figura es posible observar la aparicin de las
franjas isocromticas al aumentar el esfuerzo de flexin en la cual todas las franjas
de los rdenes fotoelsticos son rectas y equidistantes entre s [2,4].

La probeta fue sometida a cargas desde 0 N hasta la aparicin de una banda
oscura en el centro del espcimen, la cual corresponde al orden fotoelstico cero
(N = 0). La carga empleada para la aparicin del orden N = 0 fue de 34.4 N. La
aparicin de esta franja indica que se ha logrado la deformacin suficiente para la
aparicin del primer orden fotoelstico (N = 1), el cual est situado en los bordes
exteriores de la probeta (Figura 19a).

El orden fotoelstico uno (N =1) se desplaza desde los bordes hacia el centro de
la probeta conforme se incrementa la carga. La carga empleada para que el orden
N = 1 se ubique sobre la cara de la probeta fue de 65.52 N (Figura 19b).

De manera anloga al orden N = 1, el orden N = 2 surge sobre los bordes de la
probeta al ejercer una carga de 105.5 N (Figura 19c). La carga empleada para que
el orden N = 2 migre a una posicin sobre la cara de la probeta fue de 152.1 N,
con la cual tambin el orden N = 3 se sita sobre los bordes de la probeta (Figura
19d).


Figura 19. Patrones fotoelsticos de esfuerzo para una probeta sometida a
flexin, a) probeta sometida a carga de 34.4 N, b) probeta sometida a carga de
65.2 N, c) probeta sometida a carga de 105.5 N, d) probeta sometida a carga
de152.1 N, e) probeta sometida a carga de 208 N.

Los rdenes fotoelsticos siguientes fueron obtenidos con el procedimiento
anterior. De esta forma el orden N = 3 apareci sobre la cara de la probeta al
ejercer una carga de 208 N.es importante mencionar que los ordenes fotoelsticos
se clasifican segn el orden de aparicin en el modelo de anlisis, siendo el orden
N=0 el primero en aparecer, posteriormente emergen los ordenes N=1, N=2, N=3,
N=4..N=k. conforme se aumenta la carga al espcimen.

El nmero de bandas u rdenes, siempre fue simtrico con respecto al orden cero
como se puede observar en la Figura 19e. El orden cero en el centro, y del centro
hacia los bordes de la probeta el orden N = 1, el orden N = 2, el orden N =3.
34.4 N

65.52 N
105.5 N
152.1 N
208 N
a

b

c

d

e


La Figura 20 muestra una seccin de la probeta sometida a una carga de 168.9 N.
En esta el orden N = 0 se sita sobre el eje neutro al centro de la probeta el cual
sirve de referencia para determinar las distancias hasta cada una de las franjas
isocromticas obtenidas. El valor de la distancia y
1
para el orden N = 1 fue medido
en direccin vertical desde el eje neutro hasta el punto medio de la franja
isocromtica de orden N = 1. De la misma manera, para la franja de orden N = 2,
la distancia y
2
se midi desde el eje neutro hasta el punto medio de la franja con
orden N = 2. De igual manera, para la franja de orden N = 3, la distancia y
3
se
midi desde el eje neutro hasta el punto medio de la franja con orden N = 3.

Figura 20. Distancia desde el eje de simetra hasta cada uno de los rdenes para
el patrn fotoelstico de una probeta sometida a flexin.

Para evaluar la constante fotoelstica del material empleado se sometieron a
pruebas de flexin un grupo de seis probetas midiendo la distancia desde el eje
neutro hasta cada orden fotoelstico para una carga especfica. Para determinar la
constante fotoelstica f
o
de la probeta 1 se emple la Ec. (1.21) graficando los
valores de (6Pay) contra los valores de orden de franja (h
3
N) (Tabla 5).

N = 1, y
1

N = 2, y
2

N = 3, y
3

Eje neutro
N = 0
N = 1
N = 2
N = 3
Seccin a
compresin
Seccin a
tensin

Tabla 5. Valores obtenidos de f
o
para los rdenes fotoelsticos obtenidos para la
probeta 1 usando la Ec. (1.21).

Nota: (6Pay) representa el producto de 6 veces la carga empleada en el ensayo (P) por la
distancia entre los soportes del marco de flexin pura(a) y (y) la distancia desde el eje
neutro(N=0) hacia los ordenes fotoelsticos N=1, N=2, N=3.N=k.

Figura 21. Grfica de la constante fotoelstica de la probeta 1 en forma de viga de
resina epxica empleando luz blanca.

Posteriormente se traz una lnea a travs de los puntos graficados, donde la
pendiente corresponde al valor de la constate fotoelstica del material f
(ver
y = 18289x + 0.0006
R = 0.9959
0
0.01
0.02
0.03
0.04
0.05
0.00E+00 1.00E-06 2.00E-06 3.00E-06
6
p
a
y

Nh3
Constante fotoelstica de la probeta 1
h(cm)= 1 a(cm)=1.3

Carga(N)
Orden
fotoelstico N
y(m) 6Pay Nh3
Valor f
o
para
la probeta 1
168.9 0.5 9.31E-04 1.23E-02 6.00E-07 18.29 kN/m
168.9 0.5 9.31E-04 1.23E-02 6.00E-07
168.9 1 1.65E-03 2.17E-02 1.20E-06
168.9 1 1.65E-03 2.17E-02 1.20E-06
168.9 1.5 2.54E-03 3.35E-02 1.80E-06
168.9 1.5 2.54E-03 3.35E-02 1.80E-06
168.9 2 3.34E-03 4.39E-02 2.40E-06
168.9 2 3.49E-03 4.60E-02 2.40E-06

Figura 21). Por lo tanto para una probeta sometida a una carga mxima de 168.9
N el valor de la constante fotoelstica es f
o
= 18289 N/m.

Las variaciones posibles en las mediciones se atribuyen principalmente a la
dificultad de ubicar el centro de la franja fotoelstica en la evaluacin de las
distancias y
1
, y
2
, y
3
y
n
en el patrn fotoelstico.

De manera anloga se emple la metodologa de la seccin 4.3 para la obtencin
de la constante fotoelstica de la probeta 2, con los datos de (6Pay) y (h
3
N)
mostrados en la Tabla 6 se elabor la grfica exhibida en la Figura 22.

o
h(cm)= 1 a(cm)=1.3

Carga(N)
Orden
fotoelstico N
y(m) 6Pay Nh3
Valor f
o
para
la probeta 2
183.3 0.5 9.08E-04 1.30E-02 6.00E-07 18.83 kN/m
183.3 0.5 9.08E-04 1.30E-02 6.00E-07
183.3 1 1.67E-03 2.38E-02 1.20E-06
183.3 1 1.67E-03 2.38E-02 1.20E-06
183.3 1.5 2.47E-03 3.52E-02 1.80E-06
183.3 1.5 2.41E-03 3.44E-02 1.80E-06
183.3 2 3.22E-03 4.60E-02 2.40E-06
183.3 2 3.36E-03 4.80E-02 2.40E-06

La grfica de la Figura 22 muestra un comportamiento lineal, donde la pendiente
de la recta proporciona el valor la constante fotoelstica de la probeta 2, por lo
tanto para una probeta sometida a una carga mxima de 183.3 N el valor de la
constante fotoelstica f
o
. = 18830 N/m



De manera semejante a los experimentos anteriores se graficaron los valores de
(6Pay) contra los valores de orden de franja (h
3
N) obtenidos durante el ensayo
realizado a la probeta 3 (Tabla 7) aplicando una carga mxima de 193.5 N.
o
h(cm)= 1 a(cm)=1.3

Carga(N)
Orden
fotoelstico(N)
y(m) 6Pay Nh3
Valor f
o
para
la probeta 3
195.3 0.5 7.91E-04 1.21E-02 6.00E-07 18.84 kN/m
195.3 0.5 7.91E-04 1.21E-02 6.00E-07
195.3 1 1.45E-03 2.21E-02 1.20E-06
195.3 1 1.47E-03 2.24E-02 1.22E-06
195.3 1.5 2.27E-03 3.45E-02 1.80E-06
195.3 1.5 2.19E-03 3.33E-02 1.80E-06
195.3 2 2.94E-03 4.48E-02 2.40E-06
195.3 2 3.00E-03 4.58E-02 2.40E-06
195.3 2.5 3.74E-03 5.69E-02 3.00E-06
195.3 2.5 3.74E-03 5.69E-02 3.00E-06
195.3 3 4.54E-03 6.92E-02 3.60E-06
195.3 3 4.33E-03 6.60E-02 3.60E-06
y = 18830x + 0.0014
R = 0.9975
0
0.01
0.02
0.03
0.04
0.05
0.06
0.00E+00 1.00E-06 2.00E-06 3.00E-06
6
p
a
y

Nh3

Al igual que el ensayo anterior, la nica modificacin realizada al proceso
metodolgico para la obtencin de la constante fotoelstica de la probeta 3, se
remite solamente a la carga mxima aplicada al espcimen durante el proceso de
ensayo.

Las discrepancias posibles en las mediciones se atribuyen principalmente al error
humano durante la evaluacin de las distancias y
1
, y
2
, y
3
y
n
en el patrn
fotoelstico.


Para determinar la constante fotoelstica f
o
de la probeta 4 se emple la Ec. (1.21)
graficando los valores de (6Pay) contra los valores de orden de franja (h
3
N) (Tabla
8).obtenidos durante los ensayos efectuados a la probeta 4, ejerciendo sobre la
probeta una carga mxima de 208 N

Posteriormente se traz una lnea recta a travs de los puntos graficados, donde
la pendiente corresponde al valor de la constate fotoelstica f

para la probeta 4
(ver Figura 24). Por lo tanto para una probeta sometida a una carga mxima de
208 N el valor de f
o
= 18955 N/m. Durante la determinacin de las distancias y
1
,
y
2
, y
3
y
n
en el patrn fotoelstico puede haber errores de medicin, los cuales
son atribuidos a la dificultad de ubicar el centro de la franja fotoelstica.
y = 18545x + 0.0005
R = 0.9982
0
0.01
0.02
0.03
0.04
0.05
0.00E+00 1.00E-06 2.00E-06 3.00E-06
6
P
a
y

Nh3

o
h(cm)= 1 a(cm)=1.3

Carga(N)
Orden
Fotoelstico N
y(m) 6Pay h
3
N
Valor f
o
para
la probeta 4
208 0.5 7.68E-04 1.25E-02 6.00E-07 18.95 kN/m
208 0.5 7.68E-04 1.25E-02 6.00E-07
208 1 1.40E-03 2.27E-02 1.20E-06
208 1 1.40E-03 2.27E-02 1.20E-06
208 1.5 2.11E-03 3.42E-02 1.80E-06
208 1.5 2.16E-03 3.50E-02 1.80E-06
208 2 2.84E-03 4.60E-02 2.40E-06
208 2 2.84E-03 4.60E-02 2.40E-06
208 2.5 3.52E-03 5.71E-02 3.00E-06
208 2.5 3.63E-03 5.89E-02 3.00E-06
208 3 4.14E-03 6.71E-02 3.60E-06
208 3 4.33E-03 7.02E-02 3.60E-06


y = 18955x + 0.0006
R = 0.9981
0
0.01
0.02
0.03
0.04
0.05
0.06
0.07
0.08
0.00E+00 1.00E-06 2.00E-06 3.00E-06 4.00E-06
6
P
a
y

Nh3

Para evaluar la constante fotoelstica f
o
de la probeta 5 se graficaron los valores
de (6Pay) contra los valores de orden de franja (h
3
N) (Tabla 9). La carga mxima
empleada durante la ejecucin del ensayo fue 222.3 N.
o
h(cm)= 1 a(cm)=1.3

Carga(N)
Orden
fotoelstico N
y(m) 6Pay Nh3
Valor f
o
para la
probeta 5
222.3 0.5 7.11E-04 1.23E-02 6.00E-07 18.71 kN/m
222.3 0.5 7.11E-04 1.23E-02 6.00E-07
222.3 1 1.38E-03 2.40E-02 1.20E-06
222.3 1 1.38E-03 2.40E-02 1.20E-06
222.3 1.5 2.02E-03 3.50E-02 1.80E-06
222.3 1.5 2.02E-03 3.50E-02 1.80E-06
222.3 2 2.62E-03 4.55E-02 2.40E-06
222.3 2 2.69E-03 4.67E-02 2.40E-06
222.3 2.5 3.29E-03 5.71E-02 3.00E-06
222.3 2.5 3.36E-03 5.82E-02 3.00E-06
222.3 3 3.87E-03 6.72E-02 3.60E-06
222.3 3 4.04E-03 7.00E-02 3.60E-06

Las modificaciones realizadas a la metodologa para la obtencin de la constante
fotoelstica de la probeta 5, se remiten solamente a la carga mxima ejercida a la
probeta durante el proceso de experimentacin.

Es conveniente aclarar que las discrepancias mostradas en los clculos de la
constante fotoelsticas se deben nicamente al error humano durante la medicin.

La grfica de la Figura 25 exhibe una lnea recta cuya pendiente proporciona el
valor de la constante fotoelstica de la probeta 5, siendo entonces, para una
probeta sometida a carga de 222.3 N la constante fotoelstica f
o
. = 18712 N/m.



Para la obtencin de la constante fotoelstica f
o
de la probeta 6 se emple el
mismo proceso metodolgico utilizado en los ensayos anteriores, donde se
graficaron los valores de (6Pay) contra los valores de orden de franja (h
3
N)
obtenidos durante el experimento realizado a la probeta 6 (Tabla 10), empleando
como carga mxima aplicada a la probeta 235.1 N. Posteriormente se traz una
lnea recta a travs de los puntos graficados (Figura 26), cuya pendiente
corresponde al valor de la constante fotoelstica de la probeta 6, siendo f
o
. =
18869 N/m. el valor de la constante fotoelstica de una probeta sometida a una
carga mxima de 235.1 N.
Es importante aclarar, que el utilizar una carga mxima distinta para cada probeta
no afecta el valor de la constante fotoelstica. Por lo tanto las posibles variaciones
en los valores de las constantes fotoelsticas para cada probeta, se atribuye
nicamente al error humano.

El valor promedio de la constante fotoelstica para un grupo de 6 probetas
utilizando la Ec. 1.21 es f
o
= 18700 N/m f
o
= 18.7 kN/m con una desviacin
estndar de 0.246. Estas cantidades se determinaron utilizando los valores de las
constantes fotoelsticas calculadas para cada probeta.
y = 18712x + 0.0013
R = 0.9987
0
0.01
0.02
0.03
0.04
0.05
0.06
0.07
0.08
0.00E+00 1.00E-06 2.00E-06 3.00E-06 4.00E-06
6
P
a
y

Nh3

o
probeta 6 usando la Ec. 1.21.
h(cm)= 1 a(cm)=1.3
Carga(N)
Orden
Fotoelstico N
y(m) 6Pay h
3
N
Valor f
o
para
la probeta 6

235.1 0,5 6.98E-04 1.28E-02 6.01E-07 18.87 kN/m
235.1 0.5 6.98E-04 1.28E-02 6.01E-07
235.1 1,0 1.27E-03 2.33E-02 1.20E-06
235.1 1.0 1.27E-03 2.33E-02 1.20E-06
235.1 1.5 1.88E-03 3.46E-02 1.80E-06
235.1 1.5 1.91E-03 3.49E-02 1.80E-06
235.1 2.0 2.46E-03 4.51E-02 2.40E-06
235.1 2.0 2.47E-03 4.52E-02 2.40E-06
235.1 2.5 3.19E-03 5.85E-02 3.00E-06
235.1 2.5 3.25E-03 5.95E-02 3.00E-06
235.1 3.0 3.64E-03 6.68E-02 3.60E-06
235.1 3.0 3.84E-03 7.04E-02 3.60E-06

Figura 26.Grfica de la constante fotoelstica de la probeta 6 en forma de viga de

y = 18869x + 0.0009
R = 0.9961
0
0.01
0.02
0.03
0.04
0.05
0.06
0.07
0.08
0.00E+00 1.00E-06 2.00E-06 3.00E-06 4.00E-06
6
P
a
y

Nh
3

4.4 Esfuerzo cortante por medio de fotoelasticidad para un modelo de
fibra simple

La respuesta fotoelstica fue constantemente observada durante el proceso de
ensayo, conforme aumentaba la carga aplicada a las probetas fueron fotografiados
los patrones fotoelsticos de esfuerzo.

Figura 27. Modelo de fibra simple libre de esfuerzos.

En primera instancia la respuesta fotoelstica generada en el modelo fue
minscula, pues la cantidad de carga aplicada no era suficiente para lograr la
aparicin los patrones de esfuerzo fotoelstico (Figura 28A -1). El aplicar una
cantidad mayor de carga origin un aumento notable en la actividad fotoelstica
como se muestra en las Figuras 28A 2 hasta 28A -4.

La distribucin de los esfuerzos en un modelo de fibra simple vara a lo largo de la
fibra embebida. En las Figuras 28A-1 a 28A-4 se pueden observar los patrones de
esfuerzo fotoelstico de un espcimen sometido a tensin empleando una fuente
de luz blanca. Cada tonalidad en la figura corresponde a un nivel de esfuerzo
ocasionado por la carga al deformar el modelo.
Fibra de
polister
Matriz polimrica
0 N


Figura 28A. Patrones de esfuerzo fotoelstico de modelo de fibra simple sometido
a cargas de tensin.

Durante el proceso de ensayo la probeta exhibi dos regiones con disparidad de
matices (Figuras 28B-1 hasta 28B-6), estas discrepancias en las tonalidades son
ocasionadas cuando la matriz transfiere carga a la fibra mediante la interfase fibra-
matriz.

La regin circundante a la fibra posee menor deformacin con respecto al resto de
la matriz provocado por el efecto de refuerzo que ejerce la fibra en el modelo. La
diferencia de coloracin en ambas zonas demuestra que estas regiones estn
sometidas a distintos esfuerzos.

35.12 N 52.03 N
66.5 N 78.5 N
1 2
3 4


Figura 28B. Patrones de esfuerzo fotoelstico de modelo de fibra simple sometido
a cargas de tensin.

Analizando detalladamente de los patrones de esfuerzo fotoelstico obtenidos va
experimentacin (Figuras 28B-1 a 28B-6) y comparndolos con los patrones
tericos esperados para un modelo de fibra simple sometido a carga de tensin
(Figura 29), es posible deducir que el anlisis del esfuerzo cortante por medio del
mtodo fotomecnico no puede ser efectuado debido a la ausencia de los rdenes
fotoelsticos N en los patrones experimentales.
Fibra
Matriz
97.3 N
1
108.3 N
140.1 N

163.7 N

2
3 4
5 6
115.7 N

126.5 N



Figura 29. Comportamiento terico de un modelo de fibra simple sometido a
tensin.

Es importante mencionar que la ausencia de los rdenes fotoelsticos repercuten
directamente en el estudio del esfuerzo cortante utilizando el modelo Shear-lag,
pues el valor del esfuerzo cortante mximo
MAX
t
en cualquier punto del material
depende del valor de la constante fotoelstica f
o
obtenida de los ensayos de la
seccin 4.3 y del orden fotoelstico N, por lo tanto resulta difcil predecir la
distribucin del esfuerzo a travs del modelo de fibra simple e identificar la zona
con mayor concentracin del esfuerzo.
Matriz (Resina
epxica)
Direccin del
esfuerzo
Orden N =1
Orden N =2
Orden N =3
Fibra de
polister
Direccin del
esfuerzo

Aunado a lo anterior, fue imposible cuantificar la adhesin lograda entre los
materiales constituyentes del modelo de fibra simple, pues el
MAX
t
determina el
nivel de adherencia lograda entre los materiales en el modelo, sin embargo este
hecho no obstaculiza la utilizacin del material como aislante trmico, pues la
resistencia trmica inherente de la resina epxica la convierte en un material
idneo su empleo como revestimiento trmico, disminuyendo la perdida de calor
en equipos y tuberas sometidos altas temperaturas.

Cabe destacar que el alto nivel de impermeabilidad de los materiales elaborados
con base a resina epxica permite su uso como agente anticorrosivo.

A pesar de la imposibilidad que implica efectuar el anlisis del esfuerzo cortante
empleando los patrones de esfuerzo fotoelstico obtenidos durante la
experimentacin(Figuras 28B-1 hasta 28B-6), la obtencin de estos patrones
representan un avance importante en el estudio de esfuerzos en un modelo de
fibra simple sometido a cargas de tensin, teniendo en cuenta que dichos patrones
de esfuerzos fotoelsticos se comportan de una manera similar en cualquier
material fibro-reforzado, siendo de gran utilidad en el diseo y manufactura de
nuevos materiales.

Zhao F.M et al [23] demostraron que es posible realizar el anlisis del esfuerzo
cortante por medio de fotoelasticidad a un modelo de fibra simple compuesto por
fibra de zafiro y resina epxica empleando un polariscopio automatizado de
eliminacin de longitudes de onda, comprobaron adems que la distribucin del
esfuerzo cortante interfacial vara a lo largo de la fibra, siendo la zona de mayor
concentracin de esfuerzos la regin cercana a los extremos de la fibra donde el
valor del esfuerzo cortante interfacial mximo
MAX
t
es 22 MPa. La regin con
menor cantidad de esfuerzo se localiza en el centro la fibra.

.

Conclusiones

La tcnica de fotoelasticidad se emple como base para la obtencin de los
patrones de esfuerzo fotoelsticos en un modelo de fibra simple sometido a carga
de tensin.

Durante la experimentacin se utiliz una lmpara de luz blanca lo que se traduce
en el empleo de al menos 7 longitudes onda (400 nm 750 nm.) Las cargas
ejercidas sobre las probetas en el ensayo fueron 0 N como carga inicial y 163.7 N
como carga terminal, observndose actividad fotoelstica en la probeta al ejercer
una carga de 52.03N.

Las imgenes de los patrones de esfuerzo fotoelstico obtenidos durante el
ensayo a tensin, no permiten analizar la distribucin del esfuerzo cortante en el
modelo de fibra simple por medio del mtodo fotomecnico, debido a la ausencia
de los rdenes fotoelsticos N=0, N=1, N=2, N=3, N=4N=k en los patrones
experimentales, imposibilitando a su vez la utilizacin del modelo de transferencia
de esfuerzo shearlag. Es posible efectuar el anlisis del esfuerzo cortante
empleando un polariscopio automatizado de eliminacin de longitudes de onda.

No fue posible cuantificar la adherencia lograda entre los materiales del modelo,
sin embargo este hecho no imposibilita el empleo del material como aislante
trmico en equipos y tuberas sometidos altas temperaturas. Es posible tambin
emplear la resina epxica como agente anticorrosivo.

A pesar de las dificultades afrontadas durante el anlisis de la distribucin del
esfuerzo cortante en el modelo de fibra simple, los patrones de esfuerzo
mostrados en las Figuras 28B-1 hasta 28B-6 representan un avance importante en
el estudio de los esfuerzos en materiales compuestos sometidos a cargas de
tensin, siendo de gran utilidad en el diseo y manufactura de nuevos materiales.

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copper/tungsten and copper/molybdenum. J. Mech. Phys. Solids. 13 (1965)
2950.
19. Broutman L. Measurement of fiberpolymer matrix interfacial strength. In:
Interfaces Composites STP-452. Philadelphia, PA: American Society for
20. Piggott Michael R. Load bearing fibre composites. Cap 5. First edition.
Pergamon Press 1980.
21. Aben H., Ainola L., Anton J. Integrated photoelasticity for nondestructive
residual stress measurement in glass. Optics and Lasers in Engineering, 33
(2000) 49-64.
22. Robinson D.W. and Williams D.C. Digital phase stepping speckle
interferometry. Optics communications. 57 (1986) 26-30.
23. Zhao F.M., Martin R.D.S., Hayes S.A., Patterson E.A., Young R.J., Jones F.R.
Photoelastic analysis of matrix stresses around a high modulus sapphire fibre
by means of phase-stepping automated polariscope. Composites: Part A 36
(2005) 229244.


24. Matthias Deuschle H., Wolfgang Lutz Hayes S.A., Gerger Hartwig, Schmauder
Siegfried.Simulation of photoelasticity in a glass fiber polymer matrix
composite Chapter 3.2( 2006) 311-320.


Anexo A

Glosario

Doble refraccin o birrefringencia: Propiedad que tienes algunos cristales de
duplicar las imgenes de los objetos.
Fotoelasticidad: Una de las formas de medicin de esfuerzos y deformaciones en
ingeniera es la fotoelasticidad, que involucra la observacin de patrones de
interferencia (franjas) [1, 3,11].
Fotomecnica: Es el proceso de cualquier procedimiento para sacar copias o
ilustraciones por impresin mecnica, por planchas obtenidas fotogrficamente.
Haz de luz: es un Conjunto de rayos luminosos u ondas electromagnticos que
emergen de cualquier cuerpo luminoso.
Interferencia: Puede definirse como la suma de los vectores elctricos de dos
ondas electromagnticas que se estn propagando en una misma trayectoria. El
proceso de interferencia entre dos ondas de luz que estas interacten entre s al
viajar a lo largo de un mismo eje. Ambas ondas adems deben provenir de la
misma fuente luminosa, conservando la misma amplitud, velocidad y fase es decir,
son coherentes.
Luz no polarizada: son ondas de luz que se propagan al azar en el espacio, con
orientacin al azar, es decir los vectores elctricos no tienen orientacin
preferencial [1, 3, 11, 21].
Luz polarizada: Se define como un grupo de ondas en las cuales el vector
elctrico tiene una orientacin preferencial, que define el eje ptico del polarizador
usado [1, 3, 11, 21].

Onda electromagntica: Es aquella que trasmite energa radiante a travs de la
materia y el espacio, las ondas de la luz, el calor, las onda de radio, los rayos
gamma, los rayos ultravioleta, y son ejemples de ondas electromagnticas.
Refraccin: Es el cambio de direccin de la luz que pasa oblicuamente de un
medio a otro de diferente densidad.


Anexo B
Resina epxica ROYAPOX 511

Descripcin:

La resina epxica ROYAPOX 511 es un polmero termoestable que se endurece
cuando se mezcla con un agente de entrecruzamiento. Las resinas epxicas ms
frecuentes son producto de una reaccin entre Epiclorohidrina y Bisfenol-A, esta
resina es la ms usada en cuanto a resinas epxicas lquidas se refiere, ha sido
reconocida como el estndar de muchas variaciones que han sido desarrolladas.
Existe una gran variedad de agentes de curacin disponibles para endurecer
resinas epxicas lquidas a condiciones ambientales. Los agentes de curado ms
usados son: poliaminas alifticas, poliaminas, amidoaminas, aminas cicloalifticas,
etc.

Aplicaciones:

Este producto es conveniente para el empleo en usos como:
- Adhesivos.
- Bastidor y labrado.
- Ingeniera Civil.
- Compuestos.
- Capas de automotor.
- Capas martimas y protectoras.
- Foto curas de capas industriales.
- Encapsulacin.



Propiedades:

Propiedad Valor Mtodo
Contenido del grupo epxico(mmol/kg) 5100 a 5600
ASTMD 1652
Porcentaje del grupo epxico
22.4 a 23.6
ASTMD 1652
Viscosidad a 25 C( mPa.s) 4000 +- 1000
ASTMD 445
Densidad a 25 C (g/ml) 1.15 +- 0.01
ASTMD 4052


Anexo C
Agente de entrecruzamiento ENURECEDOR 511

Descripcin:
El agente de entrecruzamiento ENURECEDOR 511, es un endurecedor
elaborado en base en aminas alifticas, es empleado como catalizador de resinas
epxicas.

Aplicaciones:
Altos slidos y capas libres de solventes, adhesivos, bastidores, laminados, etc.

Propiedades:
Propiedad Valor
Pot Life a 25C (min) 400
Polimerizacin total 2h. a 120C
Dureza Shore D 78
Resistencia a la traccin (MPa) 56
Alargamiento a la rotura (%) 9
Rigidez dielctrica, 50Hz,20C (KV/mm) 20
Absorcin agua 24h, 20C (% peso). 0.15
Resistencia superficial (Ohm) 5.10
12

Resistencia especfica (Ohm.cm) 1.3 .1015 1.3.10
5

Factor de disipacin tg,50Hz,20 0.003
Constante dielctrica, 50Hz, 25C 3.8
Resis. defor. trmica Pto. Martens (C) 50
Conductividad trmica (W/mK) 0.15


Anexo D
Propiedades mecnicas de la fibra de polister TENEX y la resina
epxica ROYAPOX 511

Tabla 11. Propiedades mecnicas de fibra de polister TENEX
Esfuerzo de traccin
a la Rotura
Mdulo de
Young
Carga a la
Rotura
% Deformacin por
traccin
(MPa) (MPa) (N) (mm/mm)
95.76 4,933.61 147.41
10.10
362.42 4,599.19 557.91
12.11
262.73 4,488.95 404.44
16.07
358.25 3,882.45 551.49
13.02
391.58 4,463.54 602.79
14.14
395.64 4,562.81 609.04
13.64
392.52 4,087.69 604.24
14.03
400.73 3,844.11 616.87
15.21

Tabla 12. Propiedades mecnicas de resina epxica ROYAPOX 511
Esfuerzo de traccin a la
Rotura (MPa)
Carga a la
Rotura (N)

Mdulo de Young
(MPa)
38.08608 4,401.31165 2,910.46526
27.46623 3,155.36661 2,636.93546
24.76591 2,823.82546 3,080.91435
35.23413 4,060.25480 2,898.98765
37.58540 4,530.52791 2,660.27332


Anexo E
Elaboracin de moldes rectangulares de nylon (nombre comercial
Nylamid)

Figura 30. Elaboracin del molde para la fabricacin de una placa de resina
epxica.

a b
c d
e f

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es el cambio de fase angular (retardo en radianes) entre los dos

, de tal manera que:

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