Alencar Jnior Original D.S., De-Moraes M.D.R., Rodrigues L.K.A., Porto-Neto S.T. Artculo E.A.

, Bezerra

Anlisis de microdureza de dos diferentes resinas relacionadas a la intensidad de fotopolimerizacin dependiendo de la distancia utilizada
Microhardness of two different composite resins related to light curing intensity depending on distance
Alencar Jnior E.A.*, Bezerra D.S. **, De-Moraes M.D.R. **, Rodrigues L.K.A. *, Porto-Neto S.T. ***

Resumen
Objetivo: El presente estudio evalu la microdureza de dos distintas resinas que fueron foto-

polimerizadas a cuatro distancias diferentes. Materiales y Mtodos: Se obtuvieron cuarenta muestras utilizando una matriz metlica de acero y dos resinas fotopolimerizables (Filtek-A110, Filtek-Z250). Las muestras se prepararon de forma aleatoria constituyendo 8 grupos, 4 por cada resina fotopolimerizable (n=5), las cuales fueron

polimerizadas a 0, 2, 4 y 8 mm de distancia de la fuente de luz, usando la misma intensidad de dureza Vickers fueron obtenidas en la superficie energa. Posteriormente, las medidas de microsuperior e inferior de las muestras. Los datos

distancia inferior, donde se encontr el menor valor de microdureza. En la resina Filtek-A110, se observ una disminucin progresiva de la microdureza con el incremento de la distancia, en la parte superior e inferior. En general, la microdureza en la parte superior fue significativamente mayor que en la parte inferior de ambas resinas. Conclusiones: El incremento en la distancia de fotopolimerizacin no modific el grado de polimerizacin de la resina microhbrida. Sin embargo, esta distancia es un factor importante a ser considerado durante la polimerizacin de las resinas de microrelleno. Palabras Clave: Resina fotopolimerizable. Distancia de polimerizacin. Microdureza Vickers.

resultantes fueron sometidos al t test o ANOVA y al test Tukey ( =0.05). Resultados: La microdureza de la resina microhbrida (Filtek-Z250), fue superior en todas las distancias analizadas en relacin con la resina de microrelleno (Filtekde polimerizacin no influy en la dureza de la A110). Para la resina Filtek-Z250, la distancia parte superior o inferior, excepto a 8mm de la

Abstract
Objective: This study investigated the surface microhardness of two different composite resins and Methods: Forty specimens were obtained light cured at four different distances. Material using a steel metallic matrix and two different re-

*Profesor de la Universidad Federal de Cear (UFC), Fortaleza, Brasil **Alumno de la Maestria de la Universidad Federal de Cear (UFC). Programa de Posgrado en Odontologa. Fortaleza, Brasil *** Profesor de la Universidad Estadual Paulista (UNESP), Sao Paulo, Brasil

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Anlisis de microdureza de dos diferentes resinas relacionadas a la intensidad de fotopolimerizacin

sin composites (Filtek-A110 and Filtek-Z250). The groups, 4 for each resin composite (n=5), which

samples were randomly prepared, constituting 8 were light cured at 0, 2, 4 or 8 mm distances, using crohardness measurements were obtained on top

distancia entre la gua de luz y la resina, la composicin de sta y la duracin de la exposicin, as como la sombra, son factores importantes en la polimerizacin de las resinas10,2. Est claro que la intensidad de la luz emitida por la fuente de luz de halgeno-tungsteno, se reduce con un incremento en la distancia, pero no est claro si tal disminucin en la intensidad reduce significativamente la profundidad de polimerizacin de la resina2. Debido a esto, las propiedades fsicas de las resinas fotopolimerizables son analizadas y estudiadas en diferentes aspectos: anlisis de microdureza y grado de conversin16. Existen algunas situaciones clnicas en las cuales es difcil de colocar la gua de luz de cerca o al lado de la resina. Por ello, algunos autores recomiendan realizar pequeos incrementos de resina (menos de 2mm) y un mnimo de tiempo de polimerizacin de 40 segundos19,3. Sin embargo, aun siguiendo estos parmetros, la influencia de la distancia de polimerizacin debe ser observada, principalmente cuando se utilizan resinas con diferentes tamaos o tipos de partculas de relleno. Cabe mencionar que pocos estudios han sido realizados para determinar la influencia de la distancia de polimerizacin utilizando resinas microhbrida y de microrelleno. De esta manera, el objetivo del presente estudio in vitro fue evaluar el efecto de la distancia de polimerizacin en el valor de la microdureza de una resina microhbrida y una de microrelleno, en superficies superior e inferior, utilizando muestras de 2mm de grosor.

the same output power. Afterwards, Vickers miand bottom surfaces of the samples. Data were submitted to t test or ANOVA followed by Tukey test (a=0.05). Results: The microhardness of the microhybrid resin, Filtek-Z250, was superior in

all distances analyzed in relation to the microfilled resin, Filtek-A110. For Filtek-Z250, the dishardness at top or bottom, except for 8 mm distance at bottom, where the lowest microhardness tance of polymerization did not influence the

was found. For Filtek-A110, a progressive decreawas observed at both top and bottom. At general,

se in microhardness with the increase of distance hardness at top was significantly higher than at

bottom for both resins. Conclusions: In the conof polymerization did not change microhybrid

ditions of this study, the increase in the distance composite resin polymerization. However, this

distance is an important factor to be observed in polymerization of microfilled composite resins. (Odontol Pediatr 2010;9(1):54-60). Key words: Composite resin. Polymerization distance. Vickers microhardness.

Introduccin
Desde la aparicin de las resinas fotopolimerizables en 1970, la calidad de la polimerizacin se ha
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convertido en una de las grandes preocupaciones cin de las resinas es crtico para las propiedades

de los investigadores . El grado de polimeriza-

Material.y.mtodos
Preparacin de la muestra Para realizar este estudio se utilizaron las resinas fotopolimerizables Filtek-Z250 (microh-

mecnicas y biolgicas de este material, influyen-

do directamente en el comportamiento clnico de las restauraciones1. Algunos parmetros como: la intensidad de la luz y la longitud de onda, la

brida, con tamao de partcula: 0.01 a 3.5m) y Filtek-A110 (microrelleno, con tamao de parOdontol Pediatr Vol 9 N 1 Enero-Junio 2010

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tcula: 0.04 m) (3M ESPE Productos Dentales, locando con una esptula metlica un slo inSt Paul; USA) . Las muestras se realizaron co5,8

NESS TESTER - Anton Paar, Paar Physica, Austria) que utiliza un diamante bajo una carga de 50g por 30 segundos. En el centro de cada suseis indentaciones y la distancia entre ellas fue de 100 m.

cremento de las resinas en una matriz metlica, la cual fue adaptada de tal forma tena que presentaba 4mm de dimetro y 2mm de altura. Una

perficie superior e inferior, se realiz una fila de

cinta de polister fue colocada en la superficie to sobre la cinta para lograr una mejor condensacin, evitando de esta manera la presencia de burbujas de aire. Posteriormente, la resina fue polimerizada utilizando luz halgena-tungnsK&M 200 R (DMC, San Carlos SP, Brasil). La

superior de la resina y 1kg de peso fue dispues-

Anlisis Estadstico Para determinar el efecto de las diferentes distancias utilizadas en la polimerizacin de ambas resinas, fueron analizadas las variables depen-

teno-quartz (HTQ) con unidades de fotocurado densidad de la intensidad de luz fue probada

dendientes: Nmero de Dureza Vickers (NDV) la superficie inferior en relacin con la superfi-

y el %NDV, el cual fue el porcentaje de NDV de cie superior. Las aseveraciones de igualdad de ron verificadas, aplicndose un anlisis de va-

(720 12 mW/cm2) antes de cada uso con un microprocesador de energa (CL-150, DMC, So Carlos SP, Brasil). La gua de luz fue colocada en un posicionador para que luz sea emitida paralela a la superficie de la muestra. Para estandarizar las distancias de la superficie de la resina y la gua de luz, se usaron aros metlicos con grosores de 2, 4 y 8mm respectivamente, que despus de ser posicionados fueron removidos para que no interfirieran en la emisin y polimerizacin durante 40 segundos. difusin de la luz. Posteriormente se realiz la Cada resina fue dividida en 4 grupos (n=5), de

varianza y la distribucin normal del sesgo fuerianza, el cual fue satisfactorio. Posteriormente se realiz la prueba de comparacin mltiple de Tukey. Para comparar el NDV entre las superfipolimerizable, considerando que son resinas microhbridas y de microrelleno, se utilizaron el t test y el test Mann-Whitney respectivamente. Cary: NC, 1999) fue utilizado y el lmite de la significancia fue establecido en 5%.

cies superiores e inferiores de cada resina foto-

El Software SAS (versin 8.02, Instituto SAS Inc;

acuerdo a la distancia a la gua de luz: 0mm (modo de contacto), 2, 4 y 8mm. Estas distan600 y 400 mW/cm respectivamente, determi2

Resultados
Los valores de microdureza de la resina FiltekZ250 fueron significativamente altos en comparacin con los obtenidos para la resina Filtekinferiores, a cualquier distancia adoptada por la A110, tanto en las superficies superiores como gua de luz (p0.05). En vista de esto, el anlisis sina.

cias utilizaron intensidades de luz de 750, 650, nadas por el microprocesador (CL-150, DMC). matriz metlica y mantenidas en la oscuridad a 37C durante 24 horas.

Al finalizar, las muestras fueron removidas de la

Anlisis de microdureza Las mediciones fueron realizadas con un Test de microdureza Vickers (MHT-110 MICROHARD56

estadstico se realiz por separado para cada reLos valores determinados para la resina Filtek-

A110 se encuentran en la Tabla.1. En esta resi-

Anlisis de microdureza de dos diferentes resinas relacionadas a la intensidad de fotopolimerizacin

Tabla.1 ..Microdureza.Vickers.(media..dp).obtenida.en.la.superficie.superior.e.inferior.. de.las.muestras.realizadas.con.resina.A110,.sometidas.a.una.fuente.de.luz.. halgena.a.diferentes.distancias

Distancia.(mm) 0 2 4 8 Superficie.superior 69.8 0.3a 60.5 0.6b 59.8 1.4b 56.8 0.5c Superficie.inferior 67.6 2.4d 59.4 0.7e 59.0 1.9e 55.7 2.2f %NDV 96.0 1.2d 98.2 0.6d 98.6 0.5d 98.0 1.2d

*Medias seguidas por letras/smbolos distintos en las columnas indican la diferencia estadsticamente significativa mediante el test de Tukey (=5%). **%NDV Porcentaje de NDV de la superficie inferior con relacin a la superficie externa.

na se observ una progresiva disminucin en

la microdureza al incrementarse la distancia de e inferior. Sin embargo, no se encontr una di-

donde se encontr el menor valor de microdureza (Tabla.2).

polimerizacin en ambas superficies superior ferencia estadstica significativa en la distancia de 2 a 4mm en cualquiera de las superficies ya mencionadas anteriormente. Para la resina Fil-

La Tabla. 3 muestra detalladamente que para ambas resinas la microdureza en la superficie superior fue significativamente mayor que en la inferior, y tambin ocurri lo mismo en las resinas microhbridas (Filtek-Z250) en comparacin con las de microrelleno (Filtek-A110). Sin embargo, la polimerizacin de las resinas de micro-

tek-Z250, la distancia de la gua de luz no afect la dureza en las superficies superior e inferior, a excepcin de la inferior a una distancia de 8mm,

Tabla.2 ..Microdureza.Vickers.(media..dp).obtenida.en.la.superficie.superior.e.inferior.. de.las.muestras.realizadas.con.resina.Z250,.sometidas.a.una.fuente.de.luz.. halgena.a.diferentes.distancias

Distancia.(mm) 0 2 4 8 Superficie.superior 107.1 1.2a 106.6 1.8a 106.2 1.2a 105.8 1.1a Superficie.inferior 100.9 1.0x 101.0 0.7x 98.8 3.4x 93.0 1.5y %NDV 94.2 1.0d 94.8 1.4d 93.0 4.0d 87.9 1.4

*Medias seguidas por letras/smbolos distintos en la columna indican la diferencia estadsticamente significativa mediante el test de Tukey (=5%). **%NDV Porcentaje de NDV de la superficie inferior con relacin a la superficie externa. Odontol Pediatr Vol 9 N 1 Enero-Junio 2010

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Tabla.3 ..NDV.(media..dp).obtenido.en.la.superficie.superior.e.inferior.de.las.muestras,.NDV. general.y.porcentaje.de.NDV.de.la.superficie.inferior.con.relacin.a.la.superficie.externa.. determinadas.en.las.resinas.A110.y.Z250,.sometidas.a.una.fuente.de.luz.halgena.en.. todas.las.distancias.estudiadas

Resina Z250 A110 Superficie.superior 106.4 1.3aA* 61.7 5.0bA Superficie.inferior 98.4 3.8aB* 60.4 4.6bB General 102.4 4.9a 61.1 4.7b %NDV 92.5 3.5a 97.9 1.1b

Las letras maysculas comparan las filas y las letras minsculas comparan las columnas. *De acuerdo al test no paramtrico Mann-Whitney.

relleno fue ms homognea, desde que la microdureza de la superficie inferior adquiri valores alrededor del 98% de la dureza de la parte superior, mientras que para las resinas microhbridas este valor general fue alrededor de 92% (Tabla. 3). Esto fue observado en todas las distancias de polimerizacin para ambas resinas (vase valores de %NDV en Tablas.1.y.2).

dra llevar a una ineficaz polimerizacin del material13. Se recomienda el uso de equipos de fotopolimerizacin que posean una intensidad

de la luz2,15,16, y por consiguiente esto nos po-

de incremental de aplicacin del material, con

de al menos 400mW/cm2 asociados a la tcnica

un grosor no mayor de 2mm de resina en cada capa, para obtener de esta forma una apropiada polimerizacin3,19. Por estas razones, este

Discusin
El anlisis de la microdureza es ampliamente utilizado para evaluar la polimerizacin de las resinas y por consecuencia la eficacia de la inmendaciones bsicas de cmo usar la intensidad de la luz para la polimerizacin, as como la incorrecta manipulacin de las resinas son tensidad de la luz4. La negligencia en las reco-

grosor fue utilizado en el presente estudio. Los resultados demostraron que cuando se utilizala microdureza de la superficie al aumentarba una resina microhbrida no hubo cambio en se la distancia. Quizs esto es justificado por la intensidad de luz alcanzada por el equipo de polimerizacin que se utiliz (K&M-200R) trabajando con 720 mW/cm2 a 0mm y con

las causas de los fracasos del desenvolvimiento clnico de estos materiales9,14. Algunos investigadores han demostrado que cuanto mayor sea la distancia de la gua de luz con respecto a la superficie, la microdureza ser menor7,15,17. Adems, la distancia entre la resina y la gua de luz, afecta la intensidad de la misma, por

la distancia de 8mm se obtuvo una apropiada

400mW/cm2 a 8mm. De esta manera incluso a

intensidad con nuestra fuente de luz. Esto debe

haber causado una suficiente intensidad para polimerizar la resina microhbrida en ambas superficies, lo que fue comprobado por la falta de diferencia en la significancia estadstica enla superficie inferior, a una distancia de 8mm tre las distancias estudiadas (Tabla.2). Solo en

esto el incremento de la distancia involucra la

disminucin de la densidad de la intensidad 58

esta resina presentaba una menor dureza, de-

Anlisis de microdureza de dos diferentes resinas relacionadas a la intensidad de fotopolimerizacin

que no sea la intensidad ideal a ser utilizada

mostrando que utilizando 400mW/cm2 pueda

Nuestros hallazgos concuerdan con lo reportado por Li et al. (1985) quien asoci la dureza y polimerizacin de las resinas con el tamao de mayor tamao presentaron una mayor dureza y

para una adecuada polimerizacin en la cara superficial de una resina. Por ello, como anteriormente se sugiri, el uso de un incremento
2

sus partculas, en donde aquellas que posean viceversa (Tabla.3). Adems, la superficie de ducantidad de carga en la resina.

de 2mm de grosor, polimerizado con densidad menor de 400mW/cm puede causar una signide la resina fotopolimerizable. ficativa prdida de las propiedades mecnicas Sin embargo, para comprobar alguna alteracin en la polimerizacin de las resinas se puede comparar la microdureza en las superficies su-

reza est relacionada con la distribucin de una Finalmente, dentro de las condiciones del pre-

sente estudio podemos concluir que el incremento de la distancia de polimerizacin de las resinas microhbridas no altera la polimerizaportante a ser considerado en la polimerizacin de las resinas de microrelleno.

periores e inferiores (%NDV) utilizando 2mm de grosor de la muestra. Un resultado aceptable es obtenido cuando la dureza de la superficie inferior es por lo menos un 80-90% del valor de la superficie superior. Por ello, para ambas resinas examinadas, se adquiri un apropiado grado de tancia de 8mm. Por otro lado, la diferencia entre

cin. Sin embargo, esta distancia es un factor im-

Agradecimientos
El presente estudio fue realizado durante el desarrollo de la Disciplina Tpicos avanzados en investigacin perteneciente al Programa de pregrado en Odontologa, en el rea de

polimerizacin (Tablas.1.y.2) incluso a una disla microdureza de las superficies superiores e inferiores fue mayor para las resinas microhbriinferior para estas resinas comparadas con las narse que el mayor tamao de carga de partcudas sugiriendo un coeficiente de polimerizacin de microrelleno. De esta manera, puede menciolas puede haber disminuido la penetracin de

Odontologa Clnica de la Facultad de Farmacia, Odontologa y Enfermera de la Universidad Federal del Cear, en Fortaleza, Brasil. Los autoSantiago por su invalorable contribucin. res expresan su gratitud al Profesor Srgio Lima Un agradecimiento a la C.D Mnica Velezmoro ticulo.

la luz, haciendo que la conversin de los monmeros en polmeros disminuya en la superficie inferior al ser comparada con la obtenida en la superficie superior.

de Peralta por la ayuda en la traduccin del ar-

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Recibido: 17 de mayo 2010 Envo para evaluacin: 22 de mayo 2010 Aceptado: 12 de junio 2010 Correspondencia: lidianykarla@yahoo.com.

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