Pos MMC 03 Tratamentos Superficiais Prof Carlos

TRATAMENTOS SUPERFICIAIS
www.em.pucrs.br/nuclemat Prof. Carlos A. dos Santos

NCLEO DE ENGENHARIA DE MATERIAIS METLICOS
TRATAMENTOS SUPERFICIAIS dos FERROSOS

Bibliografia: CHIAVERINI, V., Aos e Ferros Fundidos, Editora ABM, 2004 CALLISTER, W.D., Engenharia e Cincia dos Materiais. Uma Introduo, McGrall- Hill, 1998 SMITHS, W., Materials Science, Blower Ed., 1996 REED-HILL, Physical Metallurgy, McGrall- Hill, 1998
Material disponvel no site: www.em.pucrs.br / nuclemat
Pode-se dividi-los em duas grandes categorias:
TRATAMENTOS DE SUPERFCIE SUPERF
Trmicos : aquecimento por chama, por induo, a laser, por feixe de eltrons e por plasma; Termoqumicos : baseados na difuso atmica: cementao, nitretao, carbonitretao, nitrocementao, boretao e difuso de titnio-carbono; Qumicos : cromagem eletroltica, ataque qumico e a oxidao que remove ou muda a composio da superfcie por reaes qumicas, Mecnicos : jateamento com areia ou granalha de ao que endurece a superfcie por encruamento e a prensagem. Implantao inica : onde a superfcie modificada pela implantao de ons de alta energia em camadas superficiais do substrato
TRATAMENTOS DE DEPOSIO OU REVESTIMENTOS DEPOSI

Qumicos ou eletroqumicos : em soluo aquosa ou banho de sais Deposio por processos de soldagem : oxiacetileno, TIG, MIG, arco submerso Eletrodeposio : Asperso trmica, onde um plasma ou arco eltrico usado para fundir um p ou um fio, e gotas do material fundido so aspergidas sobre a superfcie do substrato que se deseja revestir Deposio fsica de vapor (PVD) em que um fluxo de vapor criado por um processo fsico de evaporao, Sputtering ou remoo por laser, Deposio qumica de vapor (CVD), onde uma reao das espcies no estado de vapor com as espcies da superfcie do substrato produzem o revestimento.
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CATEGORIA TIPO
Prof. Carlos A. dos Santos

TCNICA
por chama por induo
Trmico
a laser por feixe de eltrons por plasma cementao nitretao
Tratamento da superfcie do substrato
Termoqumico
carbonitretao nitrocementao boretao difuso de titnio-carbono ataque qumico oxidao implantao inica jateamento prensagem soluo lquida Soluo lquida sais fundidos oxiacetileno TIG MIG arco submerso eletroescria plasma chama plasma arco eltrico metalizao por arco eltrico deposio fsica de vapor (PVD)
Qumico Fsico Mecnico Qumico Eletroqumico
Soldagem Deposio de revestimentos sobre o substrato
Asperso Trmica
Eletrodeposio
deposio qumica de vapor (CVD) sputtering ou remoo a laser
TRATAMENTOS DE SUPERFCIE : Trmicos SUPERF
TMPERA SUPERFICIAL
Tmpera realizada somente na superfcie; Superfcie adquire propriedades e caractersticas da estrutura martenstica; Permite obter alta resistncia ao desgaste e dureza na superfcie, com ductilidade e tenacidade no ncleo da pea; Permite o endurecimento em reas localizadas; Aplica-se peas de grandes dimenses; Pode ser usada quando a geometria da pea ocasionar grandes deformaes; rpida, pode ser aplicada na linha de fabricao com baixo custo; No produz grande oxidao e descarbonetao no ao; Melhoria da preciso dimensional de peas finas e delgadas; Evita o aparecimento de fissuras durante aquecimento e resfriamento cclicos;
Possibilidade de utilizar aos mais econmicos do que os ligados.
PROCESSOS MAIS COMUNS:
Por Chama Por Laser
Por Induo Por Feixe Eletrnico
TMPERA POR CHAMA

Superfcie aquecida acima da temperatura crtica por meio de uma chama oxioxiacetilnica (austenitizao) Resfriamento feito por meio de um jato de gua (transformao martenstica) Depois faz-se um revenido para o alvio de tenses
INDICADO QUANDO :
Pea ou componente com grandes dimenses impossibilitando o emprego de fornos

Ex: Engrenagens, matrizes, rolos de laminao, bases de mquinas
Somente uma pequena seco ou rea deve ser tratada, no afetando o restante
Ex: partes de alavancas, vlvulas, bombas
Preciso dimensional difcil de ser obtida devido a distores e/ou empenamentos

quando toda a pea aquecida. Ex: Engrenagens grandes
O emprego mais vivel e econmico quando comparados com outros processos Classificados como:
Estacionrios Mveis ou Rotativos Mistos
PRINCIPAIS GASES EMPREGADOS:
PRINCIPAIS PROBLEMAS E CAUSAS: SUPERAQUECIMENTO :

Temperatura setada alta no pirmetro Ciclo de aquecimento muito longo Excesso de oxignio na chama Uso inadequado do bico Controle do pirmetro est incorreto Chamas muito concentrada Excesso de presso no gs
DUREZA ABAIXO DA ESPECIFICADA :

Temperatura setada alta no pirmetro Ciclo de aquecimento muito curto Tempo para temperar muito longo Superfcie descarbonetada Controle do pirmetro est incorreto Severidade da tmpera muito branda Material com baixa endurecibilidade
DUREZA IRREGULAR :
Aquecimento no-uniforme Meio de resfriamento sem agitao Meio de resfriamento imprprio Tempo aquecimento - tmpera curto Presena de gua no leo de tmpera Superfcie descarbonetada
DISTORO :
Localizao incorreta da regio Ciclo de aquecimento muito longo Tmpera no-uniforme Material com endurecibilidade excessiva Estrutura metalrgica defeituosa Aquecimento no-uniforme Excessiva taxa de resfriamento
BAIXA PROFUNDIDADE DE ENDURECIMENTO :

Material com baixa endurecibilidade Velocidade da chama muito alta Controle do pirmetro est incorreto Severidade da tmpera muito branda longo Excessivo fluxo de gs Temperatura setada baixa no pirmetro Ciclo de auqecimento curto Tempo para temperar muito
EXCESSIVA PROFUNDIDADE DE ENDURECIMENTO :

Baixo fluxo de gs Temperatura setada alta no pirmetro Velocidade da chama muito baixa Excesso de gs combustvel na chama Controle do pirmetro est incorreto
TMPERA POR INDUO
O calor gerado na pea por induo eletromagntica, utilizando-se bobinas eletromagntica de induo, nas quais flui uma corrente eltrica de alta freqncia. A pea colocada no interior de uma bobina submetida passagem de corrente alternada. O campo energiza a pea, pea provocando seu aquecimento. Dependendo da freqncia e da corrente, a corrente taxa e a profundidade de aquecimento podem ser controladas. Resfriamento pode ser ao ar , gua ou leo e sempre seguido por um revenido para o alvio de tenses.
Quantidade de calor gerada dada pela lei de Joule:

i = corrente (A) R = resistncia do condutor (ohms) t = tempo que circula a corrente (s)
Q = 0,239 . i2 . R . t
Profundidade da camada temperada controlada pela: Forma da bobina

Distncia bobina-pea Freqncia eltrica Tempo aquecimento
Profundidade da camada temperada dada por:
p = 5030 . ( / . f )1/2
p = profundidade da camada (cm) = resistividade do material (ohm.cm) = permeabilidade magntica do material em Gauss/Oersted f = freqncia da corrente (Hz)
Tipos de bobinas de induo :
cilndricas retangulares planas helicoidais
Bobinas convencionais
As bobinas devem ser projetadas para um aquecimento uniforme, lembrando sempre que o calor maior no centro das bobinas e menor nas extremidades
Bobinas especiais
Distncia de acoplamento : distncia entre a fonte e a pea

para maiores freqncias (f) menores distncias (D) correntes (i) tambm influenciam na freqncia (f) para maiores freqncias (f) menores correntes (i) para melhorar acoplamento pode-se utilizar fluxos
Em superfcies estticas : Para aquecimento progressivo ou escaneamento : Para materiais no-ferrosos :
D = 1.5 mm (0.060 in.) D = 2 mm (0.075 in.) D = 1.5 a 3 mm (0.06 a 0.12 in.).
Influncia da geometria e detalhes da pea : geometria irregular dificulta

maior aquecimento em vrtices menor aquecimento nos rebaixos rasgos, chavetas, entalhes
Grande diferena entre o Aquecimento por Induo e em Forno a velocidade de aquecimento da superfcie e as altas temperaturas obtidas Aos tpicos tratados por induo: Mdio-carbono: 1030 e 1045, usados na indstria automobilstica Alto-carbono: 1070, usados em brocas e ferramentas Aos-liga usados em vlvulas, rolamentos, ferramentas
Ao Eutetide SAE 1077
Efeito %C na dureza de aos-carbonos

Induo : temperado ar
Influncia da Estrutura no Tempo de Austenitizao: - Perlita : fina facilita a difuso grossa dificulta a solubilizao - Martensita e Bainita reaustenitizam mais rpido que perlita - Taxa de aquecimento e a microestrutura influenciam nas Tcrticas A1 , A3 e Acm - Maiores taxas de aquecimento, maiores Tcrticas - Geralmente recomenda-se T acima Tcrtica em equilbrio + 100oC - Tempos empregados em induo geralmente no proporcionam crescimento de gros
Forno : temperado gua
Forno : temp. + revenido
Pea posicionada incorretamente
Principais Parmetros a Analisar: Efeito da microestrutura e da taxa de aquecimento na A3

SAE 1042
Recozido
- Caractersticas da pea (geometria e propriedades magnticas) - Distncia de acoplamento e design - Freqncia - Densidade de potncia (kW/ rea) - Tempo de aquecimento
SAE 1080
Normalizado
Temperado e Revenido
A1 A3
Efeito da microestrutura e da taxa de aquecimento na A3
Efeito da taxa de aquecimento na A1 e A3
Temperaturas aproximadas de austenitizao em aquecimento por induo em aos
Resultado metalrgico final obtido entre o processo por induo e o convencional em forno idntico Tempos envolvidos na induo so menores
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Capacidade de Aquecimento por Induo: - Principais propriedades necessrias: resistividade permeabilidade magntica relativa - Acima da Temperatura Curie a estrutura no-magntica - No-magntico necessita mais energia para aquecimento
Geralmente:
- Freqncias : 10 kHz a 1 MHz - Densidade de potncia : 80 a 1550 W/cm2
Revenimento por Induo
Variao da dureza em funo da temperatura de revenimento SAE 1050
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TRATAMENTOS DE SUPERFCIE : Termoqumicos SUPERF
CEMENTAO
Meio da aresta
Um dos processos mais antigos (500 aC) Combinam a ao do calor com a ao qumica, e cujo resultado a variao da composio e da estrutura nas camadas superficiais; Material aquecido em um meio ativo e mantido exposio por um determinado intervalo de tempo;
Meio da aresta Centro da face Meio da aresta
Centro da lateral
Envolve DIFUSO ATMICA; Fatores da estrutura que favorecem : baixo empacotamento atmico
baixo ponto de fuso ligaes fracas (Van der Walls) baixa densidade raio atmico pequeno presena de imperfeies.
Posies ocupadas por tomos intersticiais: (A) estrutura CCC (B) estrutura CFC
Fatores da estrutura que dificultam : alto empacotamento

alto ponto de fuso ligaes fortes (inicas e covalentes) alta densidade raio atmico grande, alta qualidade cristalina
Como o processo difusivo nos tratamentos termoqumicos ocorre em condies no-estacionria ou transitria (C varia com t) de acordo com SEGUNDA LEI DE FICK: FICK
onde : C t x D = = = =
concentrao da soluo (%) tempo (s) posio (m) coeficiente de difuso ou difusividade do elemento difundido na soluo slida [m2/s]
2C C = D. 2 t x
Coeficiente de Difuso : indicao da velocidade de difuso e ele depende da natureza dos tomos que esto sendo estudados, do tipo de estrutura cristalina e da temperatura
Qd D = D o . e R.T
onde : Do = constante de difuso dependente do material [m2/s] Qd = energia de ativao proporcional ao nmero de stios disponveis para o movimento atmico [J/mol] R = constante dos gases [8,31 J;mol.K] T = temperatura [K]
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RESOLUO ANALTICA:
Condies de Contorno:
antes da difuso os tomos do soluto distribudos uniformemente coeficiente de difuso permanece constante durante todo processo (no muda c/ %C) valor de x na superfcie 0 e aumenta a medida que avana em profundidade no slido t = 0 imediatamente antes da difuso
Resoluo do espao semi-infinito - Concentrao constante na superfcie exposta ao meio (Cs)

- Em um ponto distante (x) da superfcie da pea - Concentrao (Ct,x) depende: composio na superfcie (Cs) concentrao inicial (Co) no material coeficiente de difuso (D) tempo (t) desde o incio do processo
C X Co x = 1 erf CS Co 2. D.t
ou
x C X = C S (C S C o ).erf 2. D.t
onde : erf(Z) - denominada de Funo Erro de Gauss
(A) Perfil de concentrao em um instante de tempo qualquer e (B) Distribuio da concentrao na zona monofsica de difuso, em vrios instantes de tempo, com concentrao na superfcie constante.
Difuso em metais puros por istopos radioativos : A) Esboo da movimentao dos tomos na rede cristalina B)Grfico concentrao dos tomos na distncia e no tempo
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D = COEFICIENTE DE DIFUSO ou DIFUSIVIDADE (dependente da temperatura) [m2/s] Do = CONSTANTE DE DIFUSO (dependente do material) Qd = ENERGIA DE ATIVAO [J/mol] [m2/s]
CFC
CCC
Temperatura
PRINCIPAIS VARIVEIS DO PROCESSO: - Temperatura ( Ferro- = T Gros )

- Tempo ( tempo profundidade ) - Meio ativo ( %C tempo )
PRINCIPAIS MEIOS DE CEMENTAO:
Por via slida Por via lquida Por via gasosa Por plasma
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EXEMPLOS PRTICOS : CEMENTAO E DESCARBONETAO
Macro e micrografia de uma amostra exposta por 6 horas a atmosfera carbonetante a temperatura de 1000C - SAE 1040
Superfcie descarbonetada em um SAE 1020 cementado
Descarbonetao superficial em amostras de aos aquecidos em atmosferas inadequadas
) .)
Um ao com 0,35% C est exposto a uma atmosfera isenta de carbono a temperatura de 1400 K durante um tempo de 10 horas. Determine a que profundidade o teor de carbono ser de 0,15%.
Dados: z 0,40 0,45 erf(z) 0,4284 0,4755 T = 1400 K D = 6,9x10-11 m2/s
x Cx Co = 1 erf Cs Co 2. D.t
x 0,15 0,35 = 0,5714 = 1 erf 0 0,35 2. D.t
x erf = 0,4286 2. D.t
z=
x 2. D.t
= 0,4002
x = 2. D.t = 2.(0,4002). (6,9 x10 11 m 2 / s ).(3,6 x10 4 s )
x = 1,26 x10 3 m
= 1,26 mm
Considerando que uma barra de ferro puro (Fe) submetida a uma atmosfera com teor de carbono igual a 4%, qual o tempo necessrio para atingir um teor de carbono igual a 1,5% a 1 mm da superfcie, se a pea for mantida a 1000C ?
D = D 0 .e
Q RT
136000 J 8,31J mol.K
D = 1,0 10 5 m 2 s .e
mol .1272K
D = 2,583 10 11 m
C x C0 x = 1 erf Cs C0 2 Dt
Da Tabela,
x 1,5 0 = 1 erf 40 2 Dt
x = 0,628 2 Dt
t=
x 0,375 = 1 erf 2 Dt
x2 1,577536.D
erf (z ) = 0,625 z = 0,628
assim:
Resultando:
Aplicando o valor do coeficiente de Difuso e analisando na profundidade: p/ x = 1 mm = 0,001 m
t = 26.610 s
(7 horas, 39 minutos)
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CEMENTAO SLIDA
As peas de ao so colocadas em caixas metlicas confeccionadas em ao-liga resistente ao calor, ficando separadas umas das outras pelo agente carbonetante O agente carbonetante ou meio carbonetante tpico constitudo de carvo vegetal, mais ativadores (Carbonato de Brio, ou Sdio, ou Potssio) e leo de linhaa (5-10%) ou leo comum como aglomerante No recomendada para a obteno de camadas muito finas Geralmente realizada em temperaturas entre 850-950C Mecanismo bsico:
2C + O2 CO2 + 2C 3Fe + 2CO 2CO2 (850-950 C) 2CO Fe3C + CO2 C reage com O do ar e libera CO2 CO2 reage com carvo em brasa e libera CO CO reage com o Fe, difunde C e forma Fe3C
tempo de tratamento
T [oC]
T Tcrtica
Atmosfera rica em C
Resfriamento
t [h]
A presena do ativador (catalisador de formao do CO
carbonato de Brio) contribui para aumentar a velocidade
CEMENTAO LQUIDA
Meio carbonetante composto de sais fundidos, tais como: NaCN, Ba(CN)2, KCN Como ativador utiliza-se o BaCl2, MnO2, NaF e outros Tambm faz parte do banho a grafita de baixo teor de Silcio para a cobertura do banho Banho lquido bastante homogneo porque os sais se misturam facilmente em gua Cementao lquida realizada a temperaturas entre 840-950C Dentre algumas das vantagens deste processo podem-se citar:
Melhoria o controle da camada cementada; A camada cementada mais homognea; Facilidade na operao; Aumento da velocidade do processo; Possibilidade operaes contnuas em produo seriada; D proteo quanto oxidao e descarbonetao
Desvantagens deste processo podem-se citar:

Alto custo dos sais; Perigo no manuseio das peas; Problemas graves de ordem ambiental
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CEMENTAO GASOSA
Mistura carbonetante bem definida e perfeitamente estvel durante toda cementao Processo mais limpo, pois elimina os ps, as caixas pesadas e custosas e evita o contato com substncias txicas como no caso da cementao lquida Permite melhor controle do teor de carbono e da espessura da camada cementada mais rpida que a tmpera em caixa e oferece possibilidade de uma s tmpera direta Mecanismo : gases carbonetantes (monxido de carbono CO) e gases derivados de hidrocarbonetos, como gs natural, propano, etano, metano
2CO (C) + CO2 (C) + H2O (C) + 2H2 (C) + xCH4 + yH2 (C) + xC2H6 + yCH4 + zH2
CO + H2
CH4(metano) C2H6(etano) C3H8(propano)
Funo dos gases diluidores (N2 e H2) : evitar igualmente uma atmosfera excessivamente concentrada adjacente s entradas de gs, garantir movimento rpido do gs no forno e garantir um volume de gs para manter uma presso positiva em todos os pontos
NITRETAO
Utiliza a difuso do nitrognio (N) O material mantido em uma atmosfera rica em nitrognio, normalmente amnia (NH3) para a nitretao gasosa e sais para a nitretao lquida ; A maior vantagem so as baixas temperaturas empregadas, abaixo de A1 para os aos predominantemente ferrticos, sendo a faixa mais utilizada entre 350oC e 590oC ; A camada nitretada apresenta alta dureza devido formao de nitretos extremamente duros, o que acarreta em aumento da resistncia ao desgaste e abraso, resistncia fadiga por promover tenses residuais de compresso na superfcie e na zona difundida do material, aumento da resistncia corroso, exceo dos inox, e aumento da resistncia para aplicao em temperaturas pouco acima das temperaturas de nitretao [Mei, 2006]
Figura 4.31 (A) Esquema da formao da camada branca pelos dois nitretos: e , (B) Perfil de dureza da superfcie ao centro [Vendramin, 2004].
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Os nitretos se formam pela nucleao da fase- (Fe4N) na forma de agulhas na interface entre a atmosfera rica em nitrognio e a superfcie do material. Com o crescimento das agulhas de , ocorre a nucleao do nitreto- (Fe2-3N) na interface entre a atmosfera e a j formada camada do nitreto- (Figura 4.31), com posterior crescimento sobre todo o substrato. Na regio de existncia do nitreto- e nitreto forma-se a chamada camada composta ou camada branca, e logo abaixo desta forma-se uma outra camada denominada de zona de difuso. Os principais aos endurecidos por nitretao so [ASM Handbook, Chiaverini, 2004, Mei, 2006, Totten, 2006]: - aos baixa liga contendo alumnio; - aos mdio carbono com teores de cromo, como os das sries SAE/AISI 41XX, 43XX, 51XX, 61XX, 86XX, 87XX, e 98XX; - aos para trabalho a quente, como os aos para matrizes contendo geralmente 5% de cromo tais como o AISI H11, H12 e H13; - aos baixo carbono com teores de cromo, como os das sries SAE/AISI 33XX, 86XX, e 93XX; - aos ferramentas, como o AISI A2, A6, D2, D3 e S7; - aos de usinagem rpida, como o AISI M2 e M4 - aos inoxidveis nitrnicos, tais como o 30, 40, 50 e 60; - aos inoxidveis ferrticos e martensticos das sries AISI 4XX e 5XX; - aos inoxidveis austenticos das sries AISI 2XX e 3XX; - aos inoxidveis endurecveis por precipitao (PH), tais como AISI 13-8 PH, 15-5 PH, 17-4 PH, 17-7 PH, A-286, AM350 e AM355.
Figura 4.33 Microestruturas de camadas nitretadas em banho de sais e profundidades das camadas superficiais [Li, 1997].
18
BORETAO
Utiliza a difuso do boro (B) O material mantido em uma atmosfera rica em boro, normalmente via slida com um granulado especial de carbeto de boro (B4C), responsvel pelo suprimento de boro ao material, agentes ativadores como cloreto de boro (BCL3) e borito de potssio (KB3) responsveis pela cintica da reao e pela manuteno de uma camada uniforme, e um diluidor ; Boro reage com o ferro formando um boreto de ferro (Fe2B) de extrema dureza que penetra na superfcie do material como agulhas, proporcionando uma tima aderncia ; O processo tambm pode ser realizado por via lquida ou gasosa e pode ser aplicado tambm a algumas ligas no-ferrosas, como nquel, cobalto, molibdnio, titnio, tungstnio, nibio, entre outros [Pohlmann, 1976; Bejar, 2006; Uslu, 2007]
NH3 / H2
N N N Fe- + N N N N
Fe-
Fe- + N
Fe-
Fe-
Figura 4.37 Esquema da formao dos boretos.
O processo consiste em dois tipos de reaes: a primeira reao ocorre entre o meio reaes boretante e a superfcie do material tratado, nucleando uma fina camada superficial de partculas de boretos que crescer dependendo das condies de temperatura e tempo. A segunda reao envolve a difuso do boro no substrato, alojando-se na regio subseqente a camada superficial
Figura 4.40 Microestruturas mostrando a variao da espessura da camada boretada em funo da composio qumica de alguns aos [ASM Handbook, v.4].
Figura 4.39 (A) Influncia de alguns elementos de liga na espessura da camada boretada [ASM Handbook, v.4], (B) Perfis de dureza em aos SAE 1045 e 4340 [Bejar, 2006].
19

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TRATAMENTOS SUPERFICIAIS dos FERROSOS

Pode-se dividi-los em duas grandes categorias:

TRATAMENTOS DE SUPERFCIE SUPERF

TRATAMENTOS DE DEPOSIO OU REVESTIMENTOS DEPOSI

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NCLEO DE ENGENHARIA DE MATERIAIS METLICOS

a laser por feixe de eltrons por plasma cementao nitretao

Tratamento da superfcie do substrato

Qumico Fsico Mecnico Qumico Eletroqumico

Soldagem Deposio de revestimentos sobre o substrato

deposio qumica de vapor (CVD) sputtering ou remoo a laser

TRATAMENTOS DE SUPERFCIE : Trmicos SUPERF

Possibilidade de utilizar aos mais econmicos do que os ligados.

PROCESSOS MAIS COMUNS:

Por Chama Por Laser

Por Induo Por Feixe Eletrnico

TMPERA POR CHAMA

Pea ou componente com grandes dimenses impossibilitando o emprego de fornos

Preciso dimensional difcil de ser obtida devido a distores e/ou empenamentos

PRINCIPAIS GASES EMPREGADOS:

PRINCIPAIS PROBLEMAS E CAUSAS: SUPERAQUECIMENTO :

DUREZA ABAIXO DA ESPECIFICADA :

BAIXA PROFUNDIDADE DE ENDURECIMENTO :

EXCESSIVA PROFUNDIDADE DE ENDURECIMENTO :

TMPERA POR INDUO

Quantidade de calor gerada dada pela lei de Joule:

Profundidade da camada temperada controlada pela: Forma da bobina

Profundidade da camada temperada dada por:

Tipos de bobinas de induo :

cilndricas retangulares planas helicoidais

Distncia de acoplamento : distncia entre a fonte e a pea

Em superfcies estticas : Para aquecimento progressivo ou escaneamento : Para materiais no-ferrosos :

D = 1.5 mm (0.060 in.) D = 2 mm (0.075 in.) D = 1.5 a 3 mm (0.06 a 0.12 in.).

Influncia da geometria e detalhes da pea : geometria irregular dificulta

Ao Eutetide SAE 1077

Efeito %C na dureza de aos-carbonos

Forno : temperado gua

Forno : temp. + revenido

Pea posicionada incorretamente

Principais Parmetros a Analisar: Efeito da microestrutura e da taxa de aquecimento na A3

Efeito da microestrutura e da taxa de aquecimento na A3

Efeito da taxa de aquecimento na A1 e A3

Temperaturas aproximadas de austenitizao em aquecimento por induo em aos

Revenimento por Induo

Variao da dureza em funo da temperatura de revenimento SAE 1050

TRATAMENTOS DE SUPERFCIE : Termoqumicos SUPERF

Meio da aresta Centro da face Meio da aresta

Fatores da estrutura que dificultam : alto empacotamento

Resoluo do espao semi-infinito - Concentrao constante na superfcie exposta ao meio (Cs)

onde : erf(Z) - denominada de Funo Erro de Gauss

PRINCIPAIS VARIVEIS DO PROCESSO: - Temperatura ( Ferro- = T Gros )

PRINCIPAIS MEIOS DE CEMENTAO:

EXEMPLOS PRTICOS : CEMENTAO E DESCARBONETAO

Superfcie descarbonetada em um SAE 1020 cementado

Descarbonetao superficial em amostras de aos aquecidos em atmosferas inadequadas

x 0,15 0,35 = 0,5714 = 1 erf 0 0,35 2. D.t

x erf = 0,4286 2. D.t

x = 2. D.t = 2.(0,4002). (6,9 x10 11 m 2 / s ).(3,6 x10 4 s )

erf (z ) = 0,625 z = 0,628

Aplicando o valor do coeficiente de Difuso e analisando na profundidade: p/ x = 1 mm = 0,001 m

A presena do ativador (catalisador de formao do CO

carbonato de Brio) contribui para aumentar a velocidade