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Introduo
Principal matria-prima utilizada em farmcia. gua versus outros solventes (solvente universal).
Classificao
Lquido lmpido, incolor, inspido e inodoro. a o (Farm, Bras., 4 ed., 6 fasc., 2005) Lquido claro e incolor (Farm. Britnica, 2005)
Potvel
PW
WFI
WFI estril
Dura
Subterrnea
PW estril
p/ Inalao estril
p/ Irrigao estril
Estabelecido: slidos dissolvidos; trihalometanos; metais pesados; faixa de pH ; contagem microbiana mxima. Ausncia: microrganismos patognicos (E. coli); slidos em suspenso. Presena de cloro.
Menor teor: inorgnicos; orgnicos; slidos dissolvidos; contagem microbiana. Ausncia de cloro. pH restrito.
Pureza excepcional do ponto de vista microbiolgico: contagem microbiana; teor de pirognios. USP 29 (2006); Farm. Bras. 4a ed. ,6o fascculo (2005): WFI deve ser obtida por destilao ou por um outro processo equivalente ou superior, desde que seja validado. Farm. Britnica (2005); WHO (2005) e Europia (2005): WFI deve ser obtida por destilao.
Esterilidade
No Sim Sim Sim Sim
Pirognio
Sim Sim Sim Sim Sim
Conservante
No No Sim No No e Sim
Volume
Sem limite 1 litro (emb. nica) 30 mL (multidoses) 1 litro (emb. nica) Dose nica
Utilizao
Parenterais Reconstituio
Parmetros principais
Parmetro gua potvel PW WFI WFI estril
Inorgnicos
Orgnicos
(500 S/cm)
-
1,3 S/cm
0,5 ppm TOC
1,3 S/cm
0,5 ppm TOC
1,3 S/cm
0,5 ppm TOC
Slidos dissolvidos
Microrg. Pirognios Cloro pH
1.000 ppm
500 UFC/mL 0,5*-2,0 ppm 6,0-9,5
10 ppm
100 UFC/mL Ausente 5,0-7,0
10 ppm
10 UFC/100mL 0,25 EU/mL Ausente 5,0-7,0
10 ppm
Zero UFC/100mL 0,25 EU/mL Ausente 5,0-7,0
Microrganismos.
Gases dissolvidos
No reativos
Reativos
Oxignio; Nitrognio.
NH4+ + OH-
Inorgnicos dissolvidos
Ca2+ e Mg2+; Na+ e K+; Fe2+ e Fe3+; Al3+; Cl- ; NO3- e HCO3-; SO42-; CO32- e SiO42-; PO4 3- .
Catalisam reaes de oxidao dos medicamentos. Precipitam componentes das formulaes, desidratam pomadas, etc. Podem precipitar nas formulaes lquidas (fora inica X produto de solubilidade). Geram incrustaes em caldeiras, canalizaes, etc.
Definio: fora precipitante da gua em relao aos sabes. 2R-COOK + CaCO3 = (R-COO)2Ca + K2CO3 Origem: CO2 (ar, solo) + H2O = H2CO3 H2CO3 + CaCO3 (rochas) = Ca(HCO3)3 ons responsveis: 2+ 2+ >>> Fe2+, Co2+, Ni2+, Sr2+, Mn 2+ > Fe 3+ e Al 3+. Ca , Mg Nveis de dureza: branda < 75; moderadamente dura 75-150; dura > 150 mg de CaCo3/L de gua.
Orgnicos dissolvidos
(A) Procedncia natural: origem vegetal e/ou animal decompostas por m.os (substncias hmicas = cidos flvicos + cidos hmicos).
(B) Devido poluio: de indstrias (corantes, pesticidas), servio sanitrio, etc., decompostas ou no por m.os.
Trihalometanos: CHCl3, CHBrCl2, CHBr2Cl, CHBr3.
TOC (ppm)
0,5
0,5
Trihalometanos (ppm)
0,1
Material particulado
Insolvel: argila; areia; fraqmentos de vegetais e animais. Coloidal: SiO2.H2O; Fe2O3.H2O; Al2O3.2H2O.
Slidos suspensos presso RTI fluxo de PW. Slica coloidal entope membranas (filt., UF e OR).
1.000
10
10
(lquido lmpido........)
(lquido lmpido........)
(condutividade) (condutividade)
Microrganismos
Microrganismos - inconvenientes
Inativar os princpios ativos, e at mesmo, intoxicar os pacientes. Provocar reaes alrgicas (febre) nos pacientes.
Matrias-primas* (inclusive gua); Equipamentos (inclusive distribuio); ambiente produtivo e manipulao; operadores; material de envase.
Microrganismos + nutrientes
1 m.o. em suspenso
1.999 m.o.s aderidos s superfcies
Microrganismos - biofilmes -
E Mn+ Org Superfcie Bactrias + Glicoclice (x) Bactria Exopolmeros ( 90% polissacardeos, glicoprotenas) Biofilme
Microrganismos - pirognios
Endotoxinas (Gram -) + Exotoxinas (Gram + e fungos). Entidade primariamente responsvel por reaes pirognicas: LPS. LPS termoestveis, solveis em gua, diferentes dos m.os vivos, insensveis variaes de pH, MM de 2.000 a milhes e carga negativa.
Biofilme e pirognio
Parmetros
PW
WFI
WFI estril
Ausente
Ausente
Ausente
Ausente
500
100
0,1
Zero
Pirognios (EU/mL)
0,25
0,25
Inorgnicos (1,2)Condutividade; (1)Ions (Ca, Mg, nitratos, cloretos, etc), metais pesados, amnio, acidez e alcalinidade. Orgnicos (1)Substncias oxidveis. (2,3)TOC.
Verba disponvel.
Sistemas de injeo
Injeo de cloro
Objetivos 500 UFC/mL e ausncia de patgenos (E. coli). Problemas H2O + Cl2 = HCl + HClO = H+ + Cl- + H+ + ClO- (pH 8,5); pode haver formao de THMs; PW e WFI no podem conter Cl2. Cuidado Manter a gua potvel com 0,5-2 ppm de cloro.
Objetivo + Na2S2O5 + 2 Cl2 + 3 H2O = 2 NaHSO4 + 4 H + 4Cl Problemas Valores flutuantes de cloro; pode ser fonte de contaminao microbiana. Alternativa Carvo ativado.
Injeo de NaOH
(pH = 8,0-8,3)
Problemas PW e WFI devem ter pH 5-7, no 8,0-8,3 = NH + + OH- (pH = 7,0-9,0) NH3 + H2O = NH4OH 4 Cl2 + H2O = HCl + HClO = H+ + Cl- + H+ + ClO(pH 8,5) Alternativas Carvo ativado, degaseificadores.
Filtrao
Objetivo Remover material particulado da gua, incluindo os m.os, e em alguns casos, pirognios. Filtros usuais e utilizao Areia 50 a 100 m; Profundidade * 1 a 5 m; superfcie 0,45 e 0,22 m.
Filtrao
Carvo ativado
Objetivo Remover orgnicos, cloro e CO2. Problemas No elimina cidos hmicos; interage com os m.os formando biofilme; gera partculas de carvo finssimas. Cuidado Sanitizao e troca frequente; usar CA na forma de cartucho. Alternativas: UF e/ou OR; Na2S2O5; degaseificador ou NaOH
Carvo ativado
Degaseificao
Objetivo Eliminar o dixido de carbono da gua utilizando vcuo. Problemas Pode haver aumento da contaminao microbiana???? Alternativas Injeo de NaOH (RTI ou OR); Carvo ativado.
Oznio
Oznio
Objetivos Ao bactericida mais efetiva e rpida (3.125 X Cl2/E. coli); eliminao de TOC.
O3 + 3H2O + 254 nm = 3H2O2 = 6OHo OHo + TOC = aldedo = cido = CO2 + H2O
Problemas Incompatvel com filtros, UF e OR de polisulfona; gerao de formaldedo. Alternativas Manuseio assptico; CA, UF, OR (TOC).
Na atmosfera O2 + Sol (UV 180 a 200 nm) = O3 O3 + 3H2O + Sol (UV 254 nm) = 3H2O2 (chuvas) No tratamento de gua O2 + X* = O3 O3 + UV (254 nm) versus decomposio em 20 ?????
X* - combinao de reaes eletrolticas e qumicas, eletrlise da gua, UV 185 nm ou descarga eltrica sobre O2 do ar seco.
Lmpada ultravioleta
Objetivos Ao bactericida (alterao dos cidos nuclicos dos m.os); eliminao de TOC; eliminao de oznio.
Lmpada ultravioleta
Problemas Intensidade e qualidade da radiao diminui com o tempo; depende da sensibilidade do m.o envolvido, da velocidade de fluxo de gua, da geometria do tanque e do tempo de contato (ao de superfcie e por um tempo prolongado); pode ser fonte de pirognios; eliminao do TOC depende de 185 + 254 nm; m.os tm crescimento exponencial.
CATINICA
ANINICA
OHH+
LEITO MISTO
RTI
Problemas R-OH antes de R-H; facilidade de formar biofilmes; trabalhoso regenerar e sanitizar frequentemente; cuidado com a qualidade dos regenerantes; formao de caminhos preferenciais. Alternativas OR, eletrodeionizao, destilao.
Ultrafiltrao
Ultrafiltrao
Objetivos Eliminar parte dos orgnicos (substncias hmicas), e a maioria do material particulado, m.os e pirognios. Problemas e solues (?) No 100% efetiva; filtro pode entupir. Alternativas OR, CA, oznio, filtros com e sem potencial zeta positivo, destilao.
Osmose Reversa
Osmose Reversa
Osmose Reversa
Objetivos Eliminar a maioria dos sais, orgnicos, material particulado, m.os e pirognios. Elimina ons monovalentes (>90%), polivalentes (>95%); orgnicos mm 200-300 (90-99%) e >300 (>99%); material particulado (>99%); bactrias (>99%); pirognios (>99%).
Osmose Reversa
Problemas e solues (?) Cloro deteriora membranas de nylon; material particulado pode danificar membranas; como o cutt off nominal no gera gua estril; a gua pode contaminar a membrana; no elimina 100% dos ons; filtro pode entupir;
Alternativas Conjunto de tecnologias; OR de duplo passo; destilao.
Destilao
Destilao
Objetivos Eliminar a maioria dos sais, orgnicos, gases, material particulado, m.os e pirognios. Precaues gua de alimentao; CO2 e NH3; substncias no volteis (sais, por ex.); m.os e pirognios (coleta e manuseio); material de construo dos destiladores.
Destilao
Desvantagens Elevado gasto de energia (custo); Necessidade de ser feita manuteno peridica. Alternativas Conjunto de tecnologias validadas.
Eletrodeionizao
H2 O
- +
H2 O
H2 O
Mm+ AnMm+ An-
+
Mm+
Mm+
AnAn-
Mm+ An-
Objetivo geral Prover a quantidade de gua necessria para os picos de consumo. Objetivos especficos Tanques de estocagem recebem a gua produzida para utilizao em curto espao de tempo. Tanques de distribuio mantm a gua por um prazo mximo de 24 horas.
Condies de estocagem
80-85 oC. Em recirculao. Spray ball. No mximo 24 horas. Vent filter aquecido.
Estocagem e distribuio
biofilmes biofilmes
+
O
Minimizar a longitude e simplificar o traado da tubulao. No manter pontos mortos (ter formas de drenagem). Repurificar a gua no utilizada. Usar ao inoxidvel 316L polido (ouro, titnio e platina) sem rachaduras microscpicas.
Sanitizao
In place: CIP (Clean In Place) ou WIP (Washing In place); SIP (Steam in Place). Aumentar a frequncia de limpeza e combinar tratamentos (fsicos vapor, escovao; qumicos cido, base, etc.).
Lembrar que a utilizao de gua purificada essencial e que a esterilizao final no resolve todos os problemas.
Bomba
0,22 m
1 m
Leito misto
Tanque
UV
0,45 m
Leito misto
0,22 m
OR
UV
0,45 m
Leito misto
0,22 m
Tanque
OR OR
1 gerador de O2 2 gerador de O3 3 vent filter 1 2 Tanque
0,22 m
UV
gua de alimentao dura; filtro; dois abrandadores em srie; ajuste de pH; injeo de bissulfito; dois filtros em srie (A); UV; osmose reversa duplo passo gerando 2 caminhos: caminho A - recirculao antes de A; caminho B - UV, tanque de estocagem com loop e pontos de utilizao.
gua de alimentao; filtro; dois abrandadores em srie; ajuste de pH; injeo de bissulfito; dois filtros em srie (A); UV; osmose reversa gerando 2 caminhos: caminho 1 - recirculao antes de A; caminho 2 EDI, UV, tanque de estocagem com loop e pontos de utilizao.
gua de alimentao; Z-Na e estocagem em tanque onde se mantm a concentrao do cloro entre 0,2 a 0,5 ppm (A); filtro de areia seguido do carvo ativado; filtro de 5 m seguido de um outro de 0,45 m; resina catinica seguida da aninica gerando 3 caminhos: caminho 1 - recirculao para A; caminho 2 pontos de utilizao; caminho 3 UF, tanque de estocagem (85 oC, vent filter), loop atravs de filtros de 2 e 0,22 m gerando 2 outros caminhos: caminho 4 pontos de utilizao; caminho 5 destilao, tanque de estocagem (85 oC, vent filter), loop e pontos de utilizao.