Fotoelasticidad

Integrantes Andreina Ramos Luis Lpez Arantza Manrique Yenifer Marchan Yenifer Rodrguez Oriana Amache Augusto Prez

Fundamentos Tericos de la Prueba

Fotoelasticidad
Es una prueba con la cal se pueden observar las caractersticas de las tensiones de un objeto por medio de diagramas de luz proyectados sobre una pantalla o sobre una pelicula fotogrfica.

Se Usa

Objetos sometidos a dos direcciones coplanarias

Estudiar

Objetos sometidos a tres direcciones coplanarias

Fundamentos Tericos de la prueba

Lneas Isocromticas: Son lneas del mismo color que representan el
color que representan el lugar geomtrico que tienen la misma diferencia de esfuerzo principal.

Lneas Isoclnicas: son aquellas que en una imagen del modelo

esforzado aparecen como una zona negra representando el lugar geomtrico de los puntos que tienen la direccin de los esfuerzos principales paralelos a los planos de polarizacin.

Birrefringencia: Es el fenmeno de doble refraccin de un rayo

luminoso al atravesar ciertos cuerpos donde ste al penetrar en el cuerpo, se transforma en dos rayos con distintos ndices de refraccin, y por tanto, con distinta velocidad de propagacin.

Fundamentos Tericos de la prueba

Tipo de Luz que se emplea en el ensayo

Monocromtica

Blanca

Se observan franjas oscuras y brillantes

Aparecen franjas de diferentes colores que representan la concentacin de esfuerzos en diferentes intensidades

El banco fotoelstico consta de una fuente de luz que puede ser blanca o monocromtica, intercambiables a voluntad.

El haz, aproximadamente paralelo que sale a travs del vidrio esmerilado atraviesa sucesivamente los siguientes elementos:

POLARIZADOR (P):
Permite obtener un haz de luz polarizada.

LAMINA CUARTO DE ONDA m1

Modelo m0, dispuesto en el puente o bastidor de cargas, donde se le somete a cargas semejantes a las soportadas por la pieza real.

LAMINA CUARTO DE ONDA m2

Polaroide analizador A. El haz es finalmente recogido por la cmara fotogrfica o proyectada sobre una pantalla.

Tambin:

Se pueden aadir otros lentes y cambiar la distribucin de los componentes. Si se acoplan espejos adecuados, haciendo al polariscopio de tipo doble, que es til para el estudio de los modelos delgados sometidos a bajas presiones, ya que el numero de formas se duplica.

 Cuando los 2 esfuerzos principales son de signo contrario.

En los bordes de las placas.

MAXIMO

CERO

LOS ESFUERZOS CORTANTES SON:

Ensayo en 2d

Ensayo de fotoelasticidad para tres dimensiones

Fotoelasticidad.
Materiales Birrefringentes.

Luz Dispersa.

Analizador ptico con un polariscopio.

IsocromticasEsfuerzos cortantes.

El anlisis fotoelstico es una tcnica experimental que permite

determinar la distribucin de esfuerzos o la concentracin del rango de comportamiento elstico.

Se aprecia un patrn de bandas o franjas coloreadas o claras y oscuras.

Estas observaciones, tornan posible una determinacin del estado de esfuerzo en los puntos de inters o en toda la parte.

El ensayo fotoelstico se basa en los siguientes hechos:

El rayo incidente de luz polarizada en cada punto se rompe en

dos rayos componentes de luz que vibran en planos mutuamente perpendiculares.

Cada rayo componente es transmitido a travs del material slido

transparente con una velocidad que es una funcin lineal del esfuerzo principal con el cual es asociado.

La composicin de los rayos de luz que atraviesa el sistema son los siguientes:

Bandas o franjas coloreadas. Bandas o franjas oscuras.

Una manera de encontrar la suma de esfuerzos principales consiste

en medir el cambio de grueso de la lnea del modelo bajo esfuerzo.

Sensibilidad ptica

Libre de Deformaciones

Birrefringencia

pticamente istopos

Materiales ms comunes utilizados para los ensayos

Transparentes

Homogneos

Elsticos

Otras Caractersticas
Fcil maquinado y conformacin. Constante fotoelstica reducida.

Las relaciones tensin-deformacin y tensin-efecto ptico debe ser lineal.

Para ello debe tener ciertas caractersticas mecnicas y un valor elevado de limite de proporcionalidad y elasticidad.

Efecto de escurrimiento lento despreciable. Libre de tensiones residuales. Resistente a la deformacin de esfuerzos residuales. Superficie Pulida.

Algunos Materiales Usados

Anlisis Bidimensionales: Columbia Resin CR-39. Goma de Poliuretano. Anlisis Tridimensionales: Resinas Epxicas. Phenol Formaldehido

Ventajas del ensayo Fotoelasticidad

1. No destructivo 2. Formas complejas

3. Sin clculos matemticos

3. Estado de tensiones