Universitatea POLITEHNICA din Bucureti

Facultatea de Ingineria i Managementul Sistemelor Tehnologice

Specializarea / Programul de studii

Ingineria Nanostructurilor i Sitemelor Neconvenionale

PROIECT
Microprelucrarea cu laser EXCIMER si CVL
Aurel-Nicolae BOLAT
Masterand,

2013-2014
CUPRINS

1. Domenii de utilizare a micro i nanotehnologiilor 1.1. Exemple de aplicaii ale nanotehnologiilor 1.2.Microprelucrarea cu laser 1.2.3. Micorprelucrarea cu Laser EXCIMER

1. DOMENII DE UTILIZARE A MICRO I NANO TEHNOLOGIILOR 2

Tendina ctre miniaturizare a fost determinat de dezvoltarea rapid a microtehnicii care a avut impact direct asupra industriei mainilor unelte i a ingineriei produciei. A aprut astfel, o ramur nou a ingineriei, microingineria, avnd ca obiect activiti de fabricare, asamblare i utilizare a componentelor foarte mici care pot intra n construcia dispozitivelor microelectronice sau opto-microelectronice, pentru realizarea unor sisteme complete. Efectele noilor tehnologii s-au fcut resimite chiar asupra ramurilor de baz, saltul fcut de la prelucrarea cu comand numeric (CN) la procesul de fabricare integrat de calculator (CIM). Principalele aplicaii, concrete, ale nanotehnologiilor n acest domeniu sunt prezentate n fig.1.2:

Fig. 1.1. Aplicaii ale nanotehnologiilor 1.1. EXEMPLE DE ALIACII ALE NANOTEHNOLOGIILOR

Nanotuburi din carbon Echipamente militare: - Armura din nanotuburi de carbon S-a observat c o estur de 600 nm grosime, alctuit din ase straturi de cte 100 nm de nanotuburi de carbon, poate respinge proiectile cu o energie de maxim 320 J. Aceasta este echivalent unei arme de foc de mn, sau a putilor i automatelor de mici dimensiuni. Acoperiri i straturi subiri Impregnarea n fibrele esaturilor - Nanotububurile jucnd un efect de catalizator i orice substan oragnic se descompune sub influena luminii.

Substane chimice sintetice - Vopsele uor de curat - Vopsele antibacteriene - Vopsele rezistente la zgrieturi

Dispozitive biomedicale Nanoboi - Pot fi injectai n organism cu ajutorul unei seringi standard cu un ac hipodermic.

1.2. MICROPRELUCRAREA CU LASER Astfel, microprelucrarea cu laser este o metod de fabricaie din ce n ce mai important n domenii ca electronica, telecomunicaiile, industria dispozitivelor medicale, industria aerospaial i altele. O mare varietate de tipuri de laser sunt folosite n microprelucrri i microablaii (microprelevri), fiind mecanismul dominant de ndepartarea materialelor, n special n tehnica straturilor subiri. n micro i nanotehnologii, cele mai folosite tipuri de laseri sunt cele de tip excimer, Nd solid i CVL (laser cu vapori de cupru). 1.2.1. MICROPRELUCRAREA CU LASER EXCIMER

Configuratia unui laser EXCIMER Lumina laserului este generat din cutia laserului, energia electric necesar pentru a forma impulsuri este generat de o surs de nalt tensiune. Umplerea laserului cu amestecul adecvat necesit o pomp de gaz n vid. Controlul este computerizat, este legat la cutia laserului i la sursa de nalta tensiune printr-o fibr optic.

Tranzitia de gaz excimer Laserul Excimer incorporeaza o gam mare de specii de gaze, cum ar fi KR2, unde rdcina sa moelcular poate exista doar n stare excitat. Acestea au evoluat pentru a include specii noi de halogenuri de gaze excitate rare, cum ar fi KrF, aceast specie ct i XeF, ArF, XeCl, KrCL sunt legate numai n stare excitat, n timp ce starea fundamental este slab legat.

Molecula KrF este creat de o reacie chimic a componentelor sale dup ce au fost ionizate de o descrcare electric de mare vitez.Din stare excitat, molecula de excimer se separ din nou iar n timpul tranziiei un foton de UV este emis. Efectiv cinematica formrii gazului KrF este destul de complex i implic alte stri de excitare intermediare, n diagrama de mai jos este prezentat formarea conceptuli de baz a gazului excimer. 5

n esen, o descrcare electric ceeaz Kr + F ioni, care se combin pentru a forma molecula excitat KrF. Aceast combinaie implic interaciunea cu moleculele de neon fiind un al treilea partener care mprumut sau absoarbe energia din reacie. Tranziia moleculelor de KrF emite un foton de UV, dupa care molecula de KrF are un timp de relaxare scurt n care Kr i molecula F2 se stabilizeaz n starea lor normal de energie. Descrcarea UV a lserului EXCIMER ntr-un laser excimer, mediul este excitat prin intermediul unei descrcri electrice transversale de mare vitez. Descrcarea de nalt tensiune este alimentat la o reea, formator de impuls, care const ntr-un comutator de nalt performant tiratronice, un sistem magnetic asigur compresia impulsului i un banc condensator de stocare.Aceste componente asigur un impuls de curent de mare vitez prin electrozi. Acest impuls de curent traverseaz distana dintre electrozi, iar gazele ionizate formeaz molecula de excimer. n urmatoarea imagine se arat procesul de descrcare .

Procesul de descrcare a laserului EXCIMER

Preionizarea Pentru a genera o descrcare de plasm omogen, este necesar o densitate de electroni iniiala de 107 108 cm. Laserul excimer industrial folosete scnteie pentru preionizare pentru a atinge acea densitate iniiala. n timpul fazei iniiale a impulsului de curent de nalt tensiune prin scanteie de foc aceasta produce UV ioniznd amestecul de gaze, acesta inducnd o descrcare mare de plasm. Principala descrcare de gaz Descrcarea de acumulare gaz se realizeaz printr-un constituent de gaz tampon de neon. Descrcarea are densitatea de curent de 10 A/cm2. Kr+ si F- ioni precum i alte specii excitate, se formeaz n timpul descrcrii. 2.

1.

Formarea rdcinii de excimer Descracrea de acumulare principal formeaz un numr mare de molecule de KrF excitate i extrem de instabile, care au o durat de via de aproximativ 2,5ns. 3.

Obinerea tranziiei de fotoni UV n timpul i dup descrcarea de acumulare, de variatoarele excitate formate 4. 7

imediat, ncepe trecerea la starea de obinere care produce emisii de fotoni la 248mm. Aceast lumin este alimentat napoi prin cavitatea de descrcare a rezonatoarelor optice al fiecrui capt al camerei. Restul de moleculele de KrF este stimulat de tranziie producnd astfel pulsul laser UV. Dup ce pulsul competeaz, constituenii gazului necesit un timp de relaxare mai mare de 100 ms nainte de a participa la o noua evacuare. Rezervorul de gaz al laserului excimer Datorit construciei excimer de relaxare, efectul termic influeneaza formarea de particule. Descrcarea de acumulare a laserului poate avea loc doar la rate de repetiie mai mici de 1 Hz, cu excepia n cazul n care gazul dintre electrozi este n mod constant nlocuit cu gaz proaspt. Rezervorul de gaz furnizeaz un volum mare de gaz, astfel ncat realizeaz mprosptarea gazului poate avea loc. Un ventilator de mare vitez circul gazul n laser cu vitez de 1 pna la 5 m/s, astfel nct volumul de decalaj este complet remprosptat ntre impulsuri la rate de repetiie de pna la 40Hz. Dup descrcare, amestecul de gaz traverseaz schimbtoarele de cldur care elimin cldura generat n timpul pulsului. Cele mai multe lasere folosesc o form de filtrare de particule pentru a cura amestecul de gaze nainte de a trece din nou de pe electrozi. Avantajele laserului EXCIMER Laserul Excimer urmarete avantajele pentru aplicaii de microprelucrri: - imagine de und scurt: 193 nm-351 nm; - rezoluie optic mare: < 1m; - adncimea de absorbie: 0,1 0,5 pM; - volumul mic de interaciune; - absorbie ridicat a energiei materialului; - arie mare de utilizare a fascicolului; - densitate uiform a puterii pe o suprafa mare; - putere la vrf mare: 107W; - adncimea de absorbie permite un control strict al adncimii facilitat de un control al numrului de impulsuri la care materialul este expus; - lungimea de und optic scurt, ofer generare de nalat rezoluie , aproximativ 1pM; - dimensiunea fascicului mare i de mare putere la vrf, permite simultan expunerea pe suprafee mari; Dezavantajele laserului EXCIMER Ca i alte microtehnologii, laserul Excimer prezint dezavantaje: - este necesar un circuit de descrcare de nalt performan pentru a genera lumina laser; - sunt necesare switch-uri de mare vitez; 8

- aparatura electonic de nalt performan care necesit ntreinere frecvent; - amestec de gaze toxice i corozive; - reactivitatea amestecului duce la formarea de impuritai n timpul funcionrii laserului; - laserul trebuie reumplut cu gaz proaspt regulat; - modificarile chimice a gazului afecteaz formarea fasciculului de lumin; - necesit echipamente sofisticate pentru manipularea gazului halogen; - suprafeele optice sunt deteriorate rapid de lumina laserului;

1.2.2. MICROPRELUCRAREA CU LASER CU VAPOIRI DE CUPRU ( CVL ) Laserul cu vapori de cupru ( cu metal neutru ) este cea mai util clas de lasere cu impulsuri de vapori de metal. Lumgea de und principal este de 510 578 nm, laserul CVL are

o putere mare i nalt eficien atunci cnd funcionarea prezint impulsuri mai mari de zeci de kHz. Laserul cu vapori de cupru n poziie neutr se descrc electric rapid, excit direct atomi de metal, iar reelele de repetiie ridicat permit o ieire de mare putere. Vapori de cupru provin din buci de cupru plasate n tubul de descrcare, care este nclzit la aproxivativ 15000 C pentru a produce vapori la presiune de aproximativ 0,1 mbar. Mai muli mbari de neon se adaug cu un gaz tampon pentru a preveni contaminarea i pierderea vaporilor de cupru. Procesul de microprelucrare cu laser CVL Microprelucrarea se realizeaz prin ndepartarea mterialului prin combinaia de vapori de cupru i topirea materialului, acestea depind de parametrii laserului. n figura 2 este prezentat fascilulul de lumin verde iar n figura 3 se arata procesul de ndepartare de material.

Microprelucrri cu laser CVL.

Tierea

10

- Fascicul de laser fix - Prelucrare pe axa XY - Precizie ridicat - Suprafa mare de prelucrare - Acceleraie i vitez moderat

- Fascicul de laser reglabil - Prelucrarea pe toate axele - Precizie moderat - Suprafa moderat de prelucrare - Acceleraie i vitez ridicat

Gurirea

- Fascicul de laser fix - Dimensiunea i forma guri este determinat de fascicul - Precizia i calitatea prelucrrii scazut - Vitez mare de prelucrare

- Fascicul de laser fix - Dimensiunea si forma guri este determinat de masa de prelucrare - Precizie i calitate ridicat - Vitez moderat

Gurirea

11

- Fascicul reglabil - Gurire circular - Precizia i calitatea prelucrrii ridicat - Vitez moderat

- Fascicul reglabil - Gurire de diferite forme - Precizie nalt - Vitez moderat

Exempe de microprelucrri de gurire cu laser CVL pe diferite materiale

Oel Adncime 1 mm

Oel inoxidabil Adncime 0,1 mm

Oel inoxidabil Adncime 0,05 mm

Aur Adncime 0,05 mm

Figura urmtoare arat construcia schematic a unui laser cu vapori de cupru.

12

Instalaii i parametrii Laser CVL Oxford 25UM http://www.arrowsound.ch/cvl/ Laserul cu vapori de cupru sunt lasere cu impulsuri, intervalul de operare este 2-15 kHz. Se aplic impulsuri de nalt tensiune de aproximativ 8 kV iar curentul de descrcare fiinde de 300A, acesta se nclzete pn la 1500 0C fiind temperatura de vaporizare a cuprului. Timpul de nclzire pentru a ajunge la putere maxim este de aproximativ 2 ore. n urmatorul tabel sunt prezentai parametrii laserului CVL Oxford 25 UM Tabel 30 wati pentru o putere de impuls de 200kW 50 nsec 42 mm 1,2 ; 1 CEE 16 pentru maxim 5 kW Heliu cu puritate mare 30 g pe ncrcare, variaz de la 2 la 300 de ore

Putere Durat impuls Diametrul fasciculului Distribuia energiei electrice Sursa de alimentare Gaz Aprovizionarea cu Cu

Laser CVL 50W http://www.cat.ernet.in/technology/laser/lsed/ecvld.html Laserul CVL este un sistem cu laser cu impulsuri n mod inert, mediul de funcionare este cu generarea de vapori de Cu ce genereaz cldur, acesti vapori sunt depui ntr-un tub de alam unde are loc descrcarea electric . Construcia mecanic a acestor lasere CVL este similar, tubul de plasm din Al2O3 este plasat coaxial ntr-un tub de sticl, spaiul inelar ntre sticl i tubul ceramic este umplut cu fibre 13

de Al2O3 izolat termic cu un material izolator. Acest ansamblu este plasat coaxial ntr-o mant de ap, amblele capete fiind din oel inoxidabil cuplate la conducta de sticl. Lumgimea tubului de plasm este de 1500 mm lungime. Frecvena de funcionare este de 5-6 kHz, temperatura de funcionare la acest laser este de 15001600 0C n urmatorul tabel sunt prezentai parametrii laserului CVL 50W Diametrul fasciculului 55 mm Puterea de iesire 50W Frecvena de pulsare 6kHz Limea pulsului laser 50ns Temperatura din tub 1200 0C Rcirea tubului H2O Lungimea tubului 1,5 m Eficiena 0,8%

Caracteristicile laserului UV-CVL i CVL Laser CVL Lungimea de und 511 578 Puterea 10 50 Pulsul frecvenei 1 50 Durata pulsului 10 50 Calitatea fasciculului 12

UV-CVL 255 271 289 1 4 10 10 50 12

Aplicaiile laserilor cu vapori de cupru - Surse de pompaj pentru laser cu colorant, pentur pulsuri scurte. - Iluminarea obiectelor n fotografierea la vitez ridicat - Terapia foto-dinamic ( PDT ) - mbogirea uraniului ( U235 ) 14

15