Nume Prenume: Andries Silviu

Grupa: 1041B

Disciplina: L-A4-S2-ISu – Ingineria Suprafetelor – IS

Laborator: L2 - Depunerea de straturi subtiri
Data/ora: 05.05.2020/12-14

Tema de lucru*

Intrebari:
1. Care sunt cele doua tehnologii de obtinere a straturilor subtiri studiate in cadrul
laboratorului?
Raspuns: Metoda pulverizarii magnetron si metoda evaporarii in arc catodic.
2. Care sunt principalele diferente intre cele doua metode de depunere?
Raspuns:
Mecanismul de pulverizare reprezintă un proces de bombardare cu particule energetice
a unei suprafeţe (ţintă). În cadrul tehnicii de pulverizare magnetron, aceste particule sunt ioni
produşi cu ajutorul unei plasme. În urma aplicării unei tensiuni negative pe catod, ionii încărcaţi
pozitiv sunt atraşi din plasmă şi direcţionaţi spre ţintă. Aceşti ioni sunt acceleraţi datorită
câmpului electric intens din apropierea catodului şi bombardează suprafaţa ţintei cu o energie
suficient de mare pentru a permite pulverizarea de particule de pe suprafaţa acesteia.
Metoda de depunere cu arc catodic constă în obţinerea unor acoperiri prin formarea
unor ioni metalici produși prin evaporarea catodului în urma unei descărcări care funcționează
în regim de arc electric.

*Tema de lucru va fi urcata pe platforma Moodle pana la ora incheierii intervalului orar al activitatilor de laborator.
Parte practica – Calculul ratei de depunere:
Calculati rata de depunere daca se cunosc grosimea stratului depus si timpul efectiv de
depunere a straturilor subtiri. Aceste date se regasesc in Tabelul de mai jos (Tabel 1).
Tabel 1. Rata de depunere
Tip Timp de Grosime strat Rata de
strat depuner [µm] depunere
e [nm/min]
[min]
Strat 1 24 1,4 58.33

Strat 2 5 0,52 104

Strat 3 54 3,1 57.40

Strat 4 146 9,8 67.12

Strat 5 39 4,1 105.12

*Tema de lucru va fi urcata pe platforma Moodle pana la ora incheierii intervalului orar al activitatilor de laborator.