Microfabricatia 3D folosind rasini fotosensibile armate cu nanoparticule

Ovedenie Ion Vlad Mecatronica Avansata

2012-2013

Microfabricatia 3D folosind rasini fotosensibile armate cu nanoparticule

Folosind procesul de microstereoltografie s-a dezvoltat un nou ecran cu cristale lichide (LCD) pentru a putea realiza micropiese cu proprietati superioare (ex. Micro redutoare). In aceasta lucrare, vom investiga procesul de fabricatie al micro angrenajelor conice folosind rasini fotosensibile armate cu nanoparticule ceramice, acestea fiind realizate prin amestecarea uniforma a nanoparticulelor ceramice cu rasini fotosensibile. Este necesara o reducere a cresterii in surplus al materialului pentru imbunatatirea preciziei al micro rotilor conice. Reducerea cresterii surplusului se realizeaza dupa cum urmeaza. n primul rnd, rina parial solidificata se ndeprteaz uor, folosind fluxul forei rinii dezvoltate; acest flux forat este controlat de faza care se mic de-a lungul axei Z (Z-etap). n al doilea rnd, procedura de expunere pentru msca LCD alb-negru este efectuata pentru a reduce creterea surplusului cauzat de o procedur de laminare repetitiv. n cele din urm, metoda continu laminarea microstereolithografica cu o masc LCD n tonuri de alb-negru permite producerea de microstructuri extrem de precise, cum ar fi micro angrenaje conice ntr-o marj maxim de eroare de 3,6%.

Introducere
Recent, tehnologiile microstereolithografice (-STL) s-au dezvoltat rapid n domeniul sistemelor microelectromecanice (MEMS). n plus, n ceea ce privete aplicarea de rini fotosensibile, utilizarea rasinilor armate cu particule ceramice a fost propus pentru a obine structura 3D ceramic de -STL. -STL are avantaje similare la Tehnicile stereolitografice conventionale, cum ar fi flexibilitatea structurii fabricare i compatibilitatea cu un sistem de proiectare asistat de calculator (CAD). Dezavantajul acestei metode, cu toate acestea, rezistena mecanic este slaba datorit la utilizarea numai a rini

fotosensibile. Mai mult, este dificil pentru a mbunti att rezistena mecanic i prelucrarea cu precizie. n acest raport, se propune o nou metod pentru a depi dezavantajele menionate anterior; aceasta implic laminarea cu metoda -STL continu folosind o masca cu un ecran cu cristale lichide (LCD) i rini fotosensibile armata cu nanoparticule de ceramic. Noutatea acestei metode const n aplicarea unui model de masc alb-negru afiat pe masca LCD, n scopul de a reduce creterea in surplus care agraveaz preciziea de prelucrare. n primul rnd, o unealt micro cotita este fabricata pentru evaluarea preciziei de prelucrare i o rezisten mecanic a microparts. Formele de viteze fiind similare cu cele ale elementelor mecanice tipice, acestea sunt potrivite pentru evaluarea creterii surplusului deoarece aceast cretere este uor de generat pe suprafaa att orificiul central i dini. n scopul de a verifica eficacitatea acestei metode, vom fabrica de viteze micro conic cu o precizie mare de prelucrare, rezisten mecanic mare, i fr creterea surplus.

Laminarea microstereolitografica continua folosind masca LCD

Diagrama schematic a metodei continu de laminare microstereolitografica cu ajutorul unei mti de LCD este prezentata n Fig.1. Micro angrenajele conice sunt n primul rnd proiectate cu ajutorul unui sistem 3D CAD. Apoi, o serie de date transversale 2D este generat de modelul 3D CAD uneltelor de micro-conic. Aceste date transversale sunt folosite ca model dinamic pentru masca masca LCD. Aparatur experimental const n principal dintr-un sistem uniform iluminare, un sistem cu masc LCD, un sistem optic de reducere, i un sistem de fabricate cu o etap-Z pentru procedura de laminare.

O lamp Hg-Xe este folosit ca surs de lumin; aceast surs ofer cea mai eficient intensitatea luminii la o lungime de und de 436nm.Rina fotosensibil utilizat n acest experiment este extrem de sensibil la aceast lungime de und. Iradiere de la sursa de lumin este colimat prin trecerea printr lentila colimatoare A; fascicul colimat apoi lumineaz uniform LCD masca, care este plasat ntre doi plci sfert de und.Apoi, modelul de viteze afiat pe LCD se reduce la 16% din dimensiunea sa prin utilizarea sistemului de reducere optic care cuprinde lentila B condensator i imagistica lentila C. redus Imaginea este apoi concentrat pe plac de sticl n partea de jos a unui container rin. Sincronizarea micrii Z etape cucele date transversale ale unui angrenaj face procedurile laminare succesive din primul strat la strat final posibil. 3D de viteze micro-conic este n cele din urm fabricate prin folosirea acestui sistem.

Figura 1 Diagrama aparaturii experimentale

Procesul evaluarii -STL al rasinii fotosensibile armata cu nanoparticule de ceramica

Fotopolemizarea caracteristicilor al rasinii fotosensibile armata cu nanoparticule de ceramica Valoarea duritii Vickers (40,1 HV) de rin fotosensibil (KC1042, Japonia Synthetic Rubber Co, Ltd.) este utilizat ca material de baz de rin dezvoltat.Compoziia chimic a rinii fotosensibile armate cu nanoparticule ceramice este dup cum urmeaz. Particule: Al2O3-SiO2 (50wt%, diametrul mediu, 98 nm) Rasina fotosensibila: o KC1042 (9.4wt%) o KC1162 (37.6wt%) Dispersant: o Polimer hidrofobic o Fosfat monomer ester Experimentele de baz sunt efectuate pentru a examina caracteristicile fotopolimerizabile de rin dezvoltata. Fig.2 arat relaia dintre adncimea santului i energia de expunere pentru rin fotosensibil armat cu nanoparticule ceramice si dispersante.Adncimea santului este de 28,9 um, la o energie de expunere 5 mJ/cm2, acest lucru este aproape echivalent cu energia minim expunere utilizate n aceast metod. Rina dezvoltata are astfel o adncime suficient pentru a fabrica santul micropiesei 3D deoarece grosimea stratului este de obicei mai mic de 10 um n microstereolitografie. Adncimea santului este calculat din ecuaia (1), n conformitate cu legea Beer-Lambert.

Figura 2 Relatia dintre adancimea santului si energia expusa si influenta dispersantillor

Aici, Cd este adncimea santului; Dp, adncimea de penetrare a fasciculului, i E, energia de expunere pe unitatea de suprafa a rinii. Cantitatea de Ec energie expunere critic pentru rin. Luminia incidenta este larg rspndita i absorbita n rina fotosensibila armata cu nanoparticule ceramice.

Figura 3 Adncimi i dimensiuni in funcie de gradul de amestecare a nanoparticulelor ceramice.

Se crede c difuzia luminii i absorbia n rin provoca o adncime a santului sczut. Lumina difuz se agraveaza, de asemenea, precizia de prelucrare. Adeziunea intermediar, astfel, scade. Fig.3 arat un rezultat tipic care ar putea fi bazat pe fenomenul sus-menionat. Fig.3 (A) prezint imagini ale modelului masca expus. Figs.3 (B) i (C) arat formele de unelte fabricate la o energie expunere de 12,0 mJ/cm2 folosind rini fotosensibile cu i fr nanoparticule, respectiv. O comparaie a formelor fabricate din (B) i (C) indicate n tabelul 1 arat c uneltele cu nanoparticule (B) este mai mic de 23 um n limea dintelui (t) i de 80 um n diametru (D); Totui, diametrul su gaura este mai mare de 28 um.

Caracteristicile laminare continue ale micro angrenajelor conice n funcie de schimbarea de energie de expunere Laminarea a 50 de straturi cu expuneri succesive se realizeaz prin variaia energiei expunerea n scopul de a examina precizia de prelucrare a micro rotilor conice de viteza. Intensitatea de iluminare este de 103.5 mW/cm2.Timpul de expunere pentru fiecare strat este variat de la 0,04 s (TA), 0,09 s (TB), 0,13 s (TC), i 0,18 s (TD). Fig.4 arat rezultatele de expunere a modelului masca de viteze n diferiti timpi de expunere i, de asemenea, arat rezultatele de fabricarea micro uneltelor conice format din 50 de straturi. Tabelul 2 arat influena energiei expunere pe erorile dimensionale (%) pentru o singur expunere i pentru 50 de expuneri.

Figura 4 Angrenaje conice micro fabricate cu un singur strat (1) i de laminare.

Fig.5 prezint schematic mecanismul generarea creterii surplusului n fabricarea uneltelor micro unghiular. Aceasta viteze are cea mai mare suprafata de expunere pe primul strat. Zona de expunere scade treptat, cu o rat de reducere de 1% pn la ultimul strat (50).

Efectul de tonuri de gri

Relaia dintre tonurile de gri i intensitatea expunerii

Noi propunem o metod cu microstereolitografie cu masc LCD, folosind tonuri de gri model masca. Tonurila de gri masca LCD este capabil s controleze distribuia energiei expunere pentru a reduce creterea surplusului att n orificiul central i pe suprafaa dintelui.

Figura 7 Relaia dintre intensitile de expunere i nuntele de gri. Intensitatea de expunere este examinata prin varierea nivelului nuanei de gri. Fig.7 arat relaia dintre intensitatea expunerii i nuane de gri. Intensitatea expunerii este normalizat de intensitate, la un nivel de 255 nuane de gri. Intensitatea este meninut aproape constant pn la un nivel de 100 tonuri de gri. expunerea Intensitatii apoi exponenial crete cu o cretere n nuane de gri, n intervalul de 120-220. Aceast relaie este de acord bine cu curba aproximnd bazat pe ecuaia (2), exprimate de mai jos.

Aici, k1and K2 sunt constante; K1 = 9,2 10-3, k2 = 19,5 10-3

Caracteristicile stratului n funcie de forma de masca gri i a raportului de valori de gri Noi investiga efectul gri al modelelor masca prin reducerea creterii surplusului. Fig.8 arat formele de viteze fabricate de dou tipuri diferite forme de nuane de gri modele masca: model este de forma uneltelor redus 85% grayscale (A), iar cellalt are forma unui cerc (B) din jurul orificiului central.Nivelul de gri este de aceeai valoare (160) n ambele forme. Condiiile de fabricaie sunt urmtoarele.Expunerea energie este de 13,8 mJ / cm 2; grosimea stratului, 10 um, i numrul de laminare, 5.

Rezultatele de fabricaie pentru nunatele de gri cu nivelurile de 160 i 170 arat o bun prelucrabilitate, aa cum se arat n tabelul 3.Rata maxim de eroare este mai mic de 2%, iar cea mai bun precizie de prelucrare se obine n cazul nivelului de nuane de gri 170.The uneltelor micro cotit este n cele din urm fabricat fr creterea excedentara suprafatei dintelui.Creterea excedent, ns, rmne n orificiul central deoarece risipete luminii incidente de la particulele din stratul vindecat i ptrunde limita stratului intermediar.

Rezultatele de fabricatie n aceast seciune, vom dezvolta n tonuri de gri modele de masca care permit reducerea creterii excedentului n orificiul central. Fig.11 ilustreaz relaia dintre tonuri de gri levelsand energiile expunere sau adncimi cura, care este obinut din rezultatele prezentate n Figs.2 i 7. Adncimea cura linear crete pn la un nivel de 220 tonuri de gri.Nuane de gri de 255 (valoarea maxim) este echivalent cu energia expunerea de 13,8 mJ/cm2 i este valoarea care este capabil de a fabrica primul strat cu o mare precizie de prelucrare.

Fig.13 arat microscopie electronic de baleiaj (SEM) imagini ale angrenajul micro fabricate de tonuri de gri masca D, care are cea mai bun acuratee a ratelor de eroare de 1 i tole strat de 50 de ani. Angrenajul cotit micro, cu un clar gaura centru i regiune dinte poate fi observat fr creterea surplus.

Tabelul 4 arat ratele de eroare n cele trei caracteristici tipice ale uneltelor. Dimensiunile uneltelor de micro conice sunt n rata de eroare de -0,3% n gaura central a primului strat.Creterea surplus este redus la o rat de eroare mica de -0.6% n cazul stratului 50.Viteze micro cotit este fabricat cu o eroare mic dimensiune mai mic de 3 um n orificiul central avnd un diametru de 400 um.

Concluzii

Concluziile sunt rezumate dup cum urmeaz. 1) Sistemul de laminare continu bazat pe ecranul LCD n tonuri de gri microstereolithography masca este stabilit pentru fabricarea de microparts 3D folosind rin fotosensibil armat cu nanoparticule ceramice. 2) Aceast rin este dezvoltat prin amestecarea nanoparticule ceramice cu un diametru mediu al particulelor de 90 nm cu rin fotosensibil. Bazat pe testul de micro-duritate Vickers, duritatea rin solidificat inclusiv nanoparticule se dovedete a fi la fel de mare ca 3,4 ori cea a rinii fr particule. 3) Rina, care a fost dezvoltat ndeplinite criteriile de ct bun dispersabilitate i fluiditate mare. O procedur laminare repetitiv pentru formarea a 50 de straturi se efectueaz succesiv pentru a obine un strat cu grosimea de 10 microni. 4) Timpul de expunere pentru fiecare strat este mai mic de 0,15 s, iar angrenajul cotit micro constnd din 50 de straturi pot fi fabricate rapid n rate de eroare de 3,6% i cu o mare precizie de prelucrare. 5) angrenajul cotit micro cu o gaura cu un diametru de 400 um a fost fabricat precis n rate de eroare de 2% din cauza reducerii ofthe a creterii surplusului generat n orificiul central.Creterea excedent ar putea fi reduse prin controlul gri a mtii LCD. Pe baza rezultatelor de mai sus, ne-a confirmat eficiena LCD tonuri de gri metoda microstereolitografiei masca cu rini fotosensibile armate cu nanoparticule ceramice.