Documente Academic
Documente Profesional
Documente Cultură
realizrii
circuitelor
integrate
Handout 5 -
Litografia
Un circuit integrat este o colecie de dispozitive active i
componente pasive interconectate electric, realizate pe
acelai substrat de siliciu.
Componenta de baz a circuitelor integrate este
tranzistorul. Iniial BIPOLAR apoi MOS n final BiCMOS.
Indiferent de tipul de tranzistor, acesta se compune dintro succesiune de straturi diferit impurificate.
Procedeul tehnic folosit pentru realizarea acestor straturi
succesive i a legturilor dintre ele este LITOGRAFIA
mai precis FOTOLITOGRAFIA
Fotolitografia se bazeaz pe acoperirea siliciului cu o
substan fotosensibil i expunerea selectiv la
ultraviolete prin nite mti.
Handout 5 -
IC for pocket
calculator
4 K memory
16 K memory
64 K memory
256 K memory
256 M memory
1 G memory
Year
Handout 5 -
www.semiconductorfabtech.com/.../ lithography/7.147.f8c.jp
Handout 5 -
Limita rezoluiei
Limita rezoluiei unui sistem de expunere optic este :
R k1
NA
unde:
k1 este un parametru de proces (uzual 0.4~0.8);
NA este apertura numeric a sistemului de lentile
(uzual ntre 0.16~0.6);
este lungimea de und a luminii utilizate.
Handout 5 -
Deep UV
light
F2
7
5
(1
nm
Handout 5 -
Handout 5 -
Fotolitografia
Utilizeaz lumin pentru a expune un strat de
fotorezist depus pe substrat prin intermediul unei
mti.
Masca este o plac de 2mm de sticl, pe care sunt
depuse regiuni opace de film de civa m sau chiar
mai puin.
Fotorezistul este un polimer sensibil la lumina
ultraviolet. Expunerea la lumin determin fie
creterea (rezist pozitiv) fie reducerea solubilitii
(rezist negativ) n anumii solveni.
Rezistul pozitiv asigur rezoluie mai bun, cel
negativ ader mai bine la metal i la SiO2.
Handout 5 -
Handout 5 -
Tehnici de expunere
Prin contact
Rezoluie bun
Uzura mtii
datorit contactului
Rezoluia bun
Lipsa uzurii
Masca nu se uzeaz
Handout 5 -
Handout 5 -
Handout 5 -
Handout 5 -
Handout 5 -
Handout 5 -
Handout 5 -