REFERAT NANOCOMPOZITE DE C-MG

GENERATE IN PLASMA PRIN METODA TVA

STEFAN ADRIAN IONUT

Fizica tehnologica anul 4

PROF.COORD
VLADOIU RODICA

Chimia Carbonului
Chimia carbonului este un domeniu active, interdisciplinar intre chimie si fizica,
chimia organic, anorganica si fizica stariilor solide. In ultimii 35 de ani , domeniu a cunoscut
5 domenii prioritare de dezvoltare, ce au largit aspectele neintelese ale stiintei materialelor,
precum si variatiunea asupra acestor aspect in ceea ce priveste intelegerea fundamentala a
proprietatilor carbonului. Aceste domenii sunt:
-carbonul nucrear (pentru reactoare de inalta tempereatura si reactoare grafitice
modern) ;
-compusi grafitici intercalate;
-diamant prin depunerea chimica in stare de vapori (cvd) si material superdure;
-fulerene;
-nanotuburi
Flexibilitatea chimica extrema si de aici proprietatile fizice ale carbonului
elementar,permit o variatie extrema de aplicatii. Astefel in nanostiinta ca si in stiinta
materialelor conventionale aplicatiile prezente nu epuizeaza nici pe departe poentialul pe
viitor al elementului carbon. In sensul exploatarii acestui potential,este neaparat necesara o
mai buna intelegere a fundamentarii proprietatilor chimice si intr`o oarecare masura a celor
fizice. In toate aplicatiile de inalta tehnologie,realizarea proprietatilor dorite devine asa de
scumpa, prin munca depusa, materialele si energia necesara, incat aplicatiile la scara larga din
industria producatorilor de masini sau industia chimica nu sunt disponibile din cauza
costurilor.
Absorbia de hidrogen n filme subtiri de Mg:C
n prezent, exist o mulime de interes pentru capacitatea mare de stocare a hidrurilor
metalice usoare. Magneziul este unul dintre cele mai usoar material de stocat in hidroge ; este
de asemenea abundent i ieftin. Principala problem cu folosirea de magneziu ca material de
stocare hidrogenat, este energia de legatura ridicata de hidrogen i cinetica lenta a absorbiei
prin hidrura de MgH2 care se formeaz la suprafaa bobitelor de magneziu.. O metod de
mbuntire a cineticii sistemului este de a reduce dimensiunea granulelor de Mg folosite la
mcinare cu bile. Nu s-a demonstrat c nanocristalinele de Mg au o hidrogenare superioara pe
bobitele mai mari i n plus prezint unele scderi de temperature de eliberare. Energia de
legtur a Mg20Hx fost calculat pentru x = 0-40 i s-a constatatat c pentru x <10
ndeprtarea hidrogenului devenit energetic nefavorabil. Studii au fost facute pentru a gsi
faze de absorbtie ale hidrogenului in Mg i un alt material cu caracter obligatoriu pe baz de
hidrogen ,energii mai mici dect cele de pur Mg, cum ar fi Mg (AlH4).O alt posibilitate de a
mbunti proprietile de stocareale a magneziului este de a prepara compozite de Mg i alte
materiale, cum ar fi Mg-C. Acolo energia de legtur poate fi influenat fr s formeze o
nou faz. Sistemul Mg-C a fost studiat cu atenie folosind tehnici de macinare cu bile . Mg i
grafitul au fost macinate cu bile cu i fr aditivi diferiti organici. Rezultatele arat o
mbuntire a cineticii de hidrogenare .Acest lucru se intampla si pentru Mg pur , dar n plus,
este speculat c un transfer are loc ntre Mg i grafit i acest lucru mbuntete i mai mult
proprietile cinetice. Alii ausustinut c efectul carbonului este de a mpiedica oxigenul
difuzat sa se intoarca la suprafaa Mg-ului. Oxigenul pe suprafaa bobitelor de Mg poate
mpiedica chemosorbia disociativ a hidrogenului mpiedicnd astfel o cinetic de
hidrogenare. Mg a fost, de asemenea mcinat cu bile cu diferite structuri de carbon, cum ar fi
nanotuburi de carbon care au mbuntit i cinetica de hidrogenare. Efectul carbonului asupra
energia de legtur de hidrogen n MgH2 nu este niciodat discutat cantitativ dei o scdere a
energiei de legare este indicat i rezultatele arat n general o distribuie n energia de
legtur a probelor.
3

Filme subtiri: multistrat si filme granulare.

Filmele subtiri de nanocompozite sunt filme care sunt constituite din mai mult de o
faz, n care dimensiunile cel puin uneia din faze este de ordinal nanometrilor. Aceste filme
nanocompozite pot fi clasificate ca folii multistrat, n care fazele sunt separate de-a lungul
grosimii peliculei, sau filmelor granulare, n care diferitele faze sunt distribuite n cadrul
fiecrui plan de film. Multistraturile nanocompozite cu pelicula subire sunt constituite din
straturi cu diferite faze alternante i au o grosime caracteristic de ordinea nanometri. Aceste
filme sunt de obicei utilizate pentru duritatea lor consolidata, elastcitate i proprietatile de
uzura. Elasticitatea este mai mare n filme subtiri multistrat dect n filme omogene subtiri pe
fiecare componenta.Efectul super-modul este observat n unele sisteme metalice, prin care,
n anumite grosimi caracteristice (de obicei 2 nm, echivalentul unui bistrat constnd dintr-un
strat de fiecare faz) a filmului, creterea modulului elastic este cu mai mult de 200% .
Explicaia cea mai satisfctoare a acestui efect presupune o interfa incoerent ntre straturile
adiacente, ceea ce sugereaz c atomii sunt deplasate de la poziia lor de echilibru i c, n
timpul ncrcrii, toate straturile sunt supuse compresie, ceea ce duce la o rezistenta mai mare
la deformare. Creterea duritii nanocompozitelor multistrat a fost explicat considernd c,
atunci cnd ultra filmele subiri de materiale cu diferite lungimi de linie dislocate sunt
stivuite, puterea se apropie de limita teoretic. Dislocarile nu se pot deplasate de la strat la
strat, din cauza diferenei n lungime de linie dislocata, iar filmele sunt suficient de subire c
sursele de dislocare independente s nu devin operative. Tehnicile convenionale de
depunere de straturi subtiri (pulverizare, depunere de vapori fizic, CVD, depunere
electrochimic, etc.) pot produce nanocompozite multistrat, iar flexibilitatea excelenta a
acestor tehnici creeaz filme extrem de subtiri de compoziii uniforme.
Straturi subtiri
Acoperiri nanocompozite , de obicei, este constituita din dou sau mai multe faze
combinate ca multiplu de straturi sau amestecuri omogene multifazice izotrope. Multistratul
clasic (3 pn la mai multe straturi) de acoperire are grosimea totala de ordinal micrometrilor,
iar metal pur i ceramica nanocompozita,multe straturi sunt de obicei folosite pentru a oferi
rezisten i proprieti, cum ar fi rezistena la oxidare ( de exemplu, straturi din TiAlN).
Construirea de structuri multistrat prevede, de asemenea, proprieti tribologice mai
bune.Straturi Gradient sunt, de asemenea, de multe ori introduse pentru a contracara mari
diferene n coeficienii de dilatare termic ntre mai multe straturi, ceea ce ar provoca
tensiuni interne i exfoliere la interfeele dintre straturi. In acoperiri multistrat nanometrice,
cnd grosimea fiecrui strat este n intervalul nanometri, poate crete duritatea i alte
proprieti ale acoperirilor .Duritatea crescuta a acestor acoperiri (de exemplu, TiN / VN),
pentru care perioada deplasarilor este de ctiva nanometri, poate fi ca ordine de mrime mai
mare dect cea a materialelor de baz corespunztoare. Creterea duritati n aceste filme
multistrat de scara nanometrica rezult n principal din mpiedicarea micrilelor de dislocare
peste interfetele ascuite ntre dou materiale avnd forme diferite (modulul deosebit de
forfecare) .Un punct interesant de observat este faptul c, n cazul n care straturile individuale
sunt foarte subire (mai puin de 3-5 nm tipic), creterea duritati poate disprea, deoarece
cmpul tulpinii din jurul dislocarii se ncadreaz cu precdere n afara stratului particular. De
asemenea, claritatea interfeei afecteaz mecanismele de ntrire, pentru c interdifuzia la
nalt temperatur ntre straturi poate reduce variaia brusc a modulului de forfecare.Un alt
motiv posibil pentru creterea duritii i imbunatatatirii stabilitati chimice este diferena
chimica introdusa intenionat la interfee astfel nct s induc tulpini i interaciuni
electronice; de exemplu, structuri multistrat TiAlN / CrN sunt mai eficiente dect filmele
TiAlN. Efecteul de duritate rezultat din asimetriea grilajelor dispare la intervale mai mari de
10 multistraturi nm, datorit relaxari. Prin urmare, pentru aplicaii practice, grosimea
straturilor n aceste acoperiri este conceputa pe baza consideraiilor de mai sus, astfel nct s
se obin valori optime de duritate si proprieti de uzura cu stabilitatea termica adecvat. De
4

fapt, pentru multe aplicaii de acoperire (de exemplu, acoperiri de instrumente de tiere),
rezisten la temperaturi ridicate de funcionare i stabilitatea chimic sunt mai important
dect duritate singura. Exista acoperiri multistrat comerciale cu perioade multistrat n
intervalul nano; de exemplu, acoperiri WC / C utilizat n industria instrument de tiere. Cand
multistraturile de acoperire la scara nanometrica sunt depuse de variaia periodic a conditiilor
de depunere (de exemplu, pulverizare), un efect este adesea observat. In construirea
structurilor din diferite material , primul strat depus poate fora stratul urmtor (de diferite
materialului) s adopte structura cristalografic a primului strat; acest lucru se ntmpl, de
exemplu, n TiN acoperiri / Cr2N n care Cr2N este forat n structura TiN (fcc) substrat i n
TiN / AlN, n care ALN (iniial wurtzite) este forat n structura NaCl de TiN.
In plus fata de acoperirile multrat in intervalul nano, este de asemenea posibil de a
fabrica nanocompozite de acoperire izotrope formate din cristalite ncorporate ntr-o matrice
amorf, cu dimensiuni de cereale n intervalul nanometri. Aceste acoperiri au, n general, o
faz care este dura (portante, de exemplu, pentru carburi metalice de tranziie i nitruri) i o a
doua faz, care acioneaz ca un liant i ofer flexibilitate structural (nitrur de siliciu amorf,
carbon amorf).Formarea acestor structuri compozite implica separarea fazelor dintre dou
materiale (care arat miscibilitate complet n soluie solid),care sunt adesea depozitate, de
exemplu, prin pulverizare sau depunere cu plasm. Spre deosebire de sistemele compozite
multistrat, posibile compoziii de material i mrimea particulelor din acoperiri
nanocompozite sunt limitate de proprietile materialului i condiiile de depunere.De obicei,
aceste acoperiri nanocompozite sunt depuse de ctre plasma , depunere chimica de vapori
(PECVD) sau depunere fizica din vapori (PVD). Acoperirile foarte dure (50- 60 AAP)ale
nanocompozitelor au fost fcute dintr-un TiN / a-Si3N4 sistem, folosind PECVD de TiCI4,
SiCI4 / SiH4, i H2 la aproximativ 6008C. Nanocompozitele conin TiN nanocristalin (4-7
nm) ntr-o matrice de Si3N4 amorfa. Faza gasoasa (rate incontrolabile), precusori clorurati
(specii nereacionate rmne n proces, contaminnd filmele), i temperatura ridicat de
prelucrare sunt dezavantaje n acest proces.
.Alte sisteme care creeaz excelent nanocompozite, cu frecare redus, acoperiri dure
sunt bazate pe particule de carburi (Ti, Ta, Nb, etc.) in matrici DLC. Mai multe tehnici, cum
ar fi PVD, depunere pulsatii laser, i pulverizare magnetron reactiva, sunt folosite pentru a
depozita aceste acoperiri. Acestea conin de obicei particule cristaline mari (10-50 nm),
nconjurate de straturi groase de carbon amorf (5 nm).Dimensiunile particulelor sunt suficient
de mari pentru a permite luxaii, dar sunt prea mici pentru propagarea fisurilor. Astfel,
duritatea lor este de mult mai mare ( 30 Gpa) dect cea a materialelor de carbur cristalina, iar
aceste acoperiri au, n plus, mult mai mare duritate. Aceste tipuri de acoperiri pot fi de
asemenea modificate prin introducerea altor elemente; de exemplu, W sau Cr pentru crearea
de acoperiri optice de absorbie pentru convertoare de energie solar i materiale, cum ar fi
MoS2 (TiN / MoS2, TiB2 / MoS2) pentru acoperiri de lubrifiere.
Sisteme de metal- carbur / ductil sunt luate n considerare pentru instrumente de
tiere, pentru c Faza de carbur ofer duritate i metalul ofer tenacitate. De exemplu,
compozite, cum ar fi WC / Co, WC / TiC / Co sunt frecvent utilizate n aplica ii de tiere i
deformare scule, iar acestea pot fi sintetizate prin diferite ci. Aceste nanocompozite, n care
particule sau granule dimensiunile fazelor componente sunt n intervalul nanometri, au
proprieti mecanice mult mai bune (rezisten, duritate, tenacitate).De obicei, descompunere
reductiv a W- i sruri care conin Co-, urmat de carburare n faz gaz (cu CO / CO2) sunt
folosite pentru a prepara nanocompozitelor cum ar fi WC / Co. Aceste procese produc faze de
carbur metastabile cu deficit de carbon cu proprieti mecanice inferioare. Abordri
alternative, n care un precursor de polimer de tipul poliacrilonitrilice este folosit ca surs de
carbon n timpul sintezei chimice i tratamentul termic ulterior pentru a obine nanocompozite
de nalt calitate (mrimea particulelor 50-80 nm), au fost dezvoltate.Nanocompozitele TaC /
5

Ni sunt interesante datorita a doua aspecte: stabilitate termica excelenta si proprietati

mecanice deosebite. Acestea sunt utilizate ca acoperiri de suprafa de protecie mpotriva
uzurii i coroziunii. Aceste nanocompozite pot fi preparate prin devitrifiere filmelor amorfe
improscate de Na / Ta / C din compoziia non stoichiometrica. Dimensiunea granulelor
matricei Ni este de aproximativ 10-30 nm, iar particulele TAC ( 10-15 nm) sunt distribuite
uniform n matrice. Chiar i la 7008C, nu se observ nici o cretere a bobitelor , sugernd o
stabilitate termica excelenta pentru aceste compozite duplex n faz nanocristalina. Duritatea
msurat a compozitului (12 GPa) este identic cu cel al convenionalului WC / nanocompozit
Co la o fraciune de volum foarte redus (35%) a compozitului.
Depunerea chimica si fizic de vapori (CVD i PVD, respectiv), i cu absorbtia laser
au fost utilizate pentru a prepara o varietate de nanocompozite extradure din nitruri, boruri si
carburi.n aceste sisteme, duritatea nanocompozitulu depete n mod semnificativ cea dat
de regula amestecurilor n stare pura. De exemplu, duritatea nanocristalina a
nanocompozitelor MNN / o-Si3N4 (M = Ti, W, V, etc.) cu coninutul optim de Si3N4
(aproape de pragul de percolare) ajunge la 50 GPa, dei cea a nitruri individuale nu depesc
21 GPa. Pentru o soluie solid binar, cum ar fi TiN1-xcx, cele duritate crete monoton cu
creterea x de TiN la cea de TiC, n conformitate cu regula amestecurilor. Recent, superduritatea a fost atins n straturi de protecie dintr-o nitrur, tranzitie de metal dur i un metal
moale, care nu face nitruri termodinamice stabile, cum ar fi nanocristaline nN- M '(M = Ti,
Cr, Zr, M' = Cu, Ni). Cu toate acestea, sistemele au stabilitate termic sczut i duritate lor
scade la recoacere la 4008C .

ARCUL TERMOIONIC N VID (TVA)

Arcul termoionic n vid constituie un nou tip de arc cu ajutorul cruia se pot face
depuneri de straturi subiri cu un grad de puritate crescut n condiiile n care stratul care se
depune este bombardat cu ionii de energie mare chiar ai materialului care se depune. Aceast
metod de depunere, denumit TVA ca un acronim al denumirii n englez Thermionic
Vacuum Arc (a fost prima dat raportat n anul 1983 n lucrarea intitulata Low voltage arc
welding in vacuum avnd autorii G. Musa, N. Betiu, I Musta, A. Baltog, A. Popescu,
publicat n strintate n Proceed. XI-th Int. Symposium on Discharges and Electrical
Insulation in Vacuum, Berlin, p. 229 231, 1984).
Spre deosebire de arcul anodic n vid (AVA) n care plasma este produs tot prin
evaporarea materialului anodului n condiii de vid naintat, dar la care catodul este rece,
arcul termoionic n vid (TVA) are un alt mecanism de funcionare.
6

n acest tip de arc catodul este nclzit la o temperatur la care s se produc o emisie
termoionic semnificativ. Fascicolul de electroni este accelerat prin aplicarea unei tensiuni
nalte ntre anod i catod (2-3 kV).
Sub aciunea incidenei fascicolului energetic de electroni, materialul din nacela mai
nti se topete, apoi ncepe s fiarb i apoi ncepe s se evapore. In acest mod, n spaiul
dintre tunul electronic i nacela ce conine materialul de evaporat se stabilete o densitate
staionar de atomi ai materialului continuu evaporat. La o cretere suplimentar de tensiune,
n condiii de vid naintat se aprinde o descrcare stabil n vaporii materialului evaporat.
Se obine astfel o plasm ce conine ionii energici. Energia ionilor provine din faptul c
plasma se afl la un potenial nalt fa de mas. Aceasta face ca filmul care se depune s fie
bombardat cu ioni de energie mare, natura ionilor care bombardeaz fiind chiar cea a
materialului care se depune.
Msurtorile distribuiei energiei ionilor ca i distribuia de potenial a plasmei pe
direcia expansiunii plasmei pentru diferite condiii experimentale au permis stabilirea
parametrilor de care depinde energia ionilor. Pentru condiii de operare constante, aceast
surs de plasm produce ioni energetici fr alte mijloace adiionale de accelerare. Mai mult,
energia acestor ioni poate fi ajustat de la o anumit valoare pn la 200 eV doar selectnd
condiiile de operare specifice pentru sursa de plasm, aa cum se va vedea n paragrafele
urmtoare.

CONFIGURAIA ELECTROZILOR
Arcul termoionic n vid (TVA) poate fi realizat n condiii de vid naintat
(10-5-10-6 mbar) ntre electrozii a cror configuraie este posibil ntr-o geometrie liniar sau
cilindric atunci cnd este vorba despre un singur tun electronic la catod. De asemenea, se
poate realiza i montajul cu dou tunuri electronice, dispuse simetric fa de pozitia anodului.
nainte de a analiza configuraia electrozilor n arcul termoionic n vid sunt necesare
cteva precizri privind electrozii. Din punct de vedere al modului n care se produce emisia
termoionic n vid, catodul poate fi nclzit direct sau indirect. n al doilea caz nclzirea are
loc prin bombardament electronic cu ajutorul unui catod auxiliar.
Pentru arcul TVA cu catod nclzit direct, catodul este confecionat din srm de
tungsten cu diametru de 0,2 mm rotit de 4 ori dup un diametru de 1 mm cu o suprafa de
emisie de 6,5 mm2. Pentru focalizarea fascicolului de electroni pe suprafaa anodului,
catodul este montat ntr-un cilindru Wehnelt cu diametrul de 12-15 mm i lungimea de 15
mm, prevzut cu un orificiu frontal de diametrul de 5 mm (Fig. 1).

Fig. 1 Catodul cu nclzire direct

n cazul catodului cu nclzire direct exist dou aspecte care trebuie luate n
considerare:
7

1)
Apariia unui mic defect ntr-un punct din srma filamentului nclzit
duce la nclzirea i evaporarea srmei n acel punct ceea ce atrage dup sine distrugerea
filamentului.
2)
Datorit depunerilor de material evaporat pe cilindrul Wehnelt diametrul
frontal al cilindrului se micoreaz n timp diametrul frontal al cilindrului.
n cazul arcului TVA cu catod nclzit indirect, catodul principal este o pastil de WThO2 4% cu un diametrul de 4 mm i o grosime de 2-3 mm, prevzut de-a lungul unui
diametru al pastilei cu doi supori conductori de seciune 1mm2 (ca n Fig. 2 i 3).

Fig. 2 Catodul cu nclzire indirect

Fig. 3 Seciune transversal prin

pastila cu supori ai catodului

principal
Catodul principal (p) este nclzit prin bombardament electronic folosind un catod
secundar (s) nconjurat de un cilindru Whenelt secundar. Catodul principal (p) este montat n
interiorul cilindrului Whenelt confecionat din molibden i care este prevzut cu un orificiu
frontal mai larg dect diametrul catodului cu 1-2 mm. La nivelul pieselor suport ale catodului
(vezi Fig. 2 i 3) este montat o foi de material refractar ca scut ce separ cilindrul Whenelt
n dou pri. Rolul scutului este de a evita o legtur necontrolat ntre catodul secundar i
cel principal prin fascicolul de electroni sau difuzia plasmei.
Catodul nclzit indirect are o durat de via mai mare dect cel cu nclzire direct
i totodat asigur un curent de descrcare mai mare. De asemenea, nu mai apare depunerea
nedorit - care se produce la catodul cu nclzire direct pe orificiul cilindrului Whenelt.
Printr-o aezare corect a catodului cu nclzire indirect, cilindrul Whenelt confecionat
dintr-un material refractar, poate fi meninut la o temperatur nalt de 1000 0C datorat
energiei transportate sub form de radiaii de la catodul cald.
Dei nclzirea unui asemenea catod necesit cureni de 100-150 A, creterea duratei
de funcionare compenseaz de departe acest neajuns.
Anodul este o nacel de tungsten avnd forma unei linguri cu grosimea de 0-3 mm i
diametrul superior de ordinul a 10 mm n care se afl materialul de evaporat. Evident sunt
utilizate i alte forme i materiale pentru nacel. Aici facem prezentarea unui dispozitiv
standard.
ntre catodul nclzit i anod se aplic o tensiune nalt, cilindrul Whenelt aflndu-se
n scurtcircuit cu unul din braele catodului. Pentru o anumit valoare a tensiunii nalte,
aleas corespunztor datorit bombardamentului electronic, materialul anodului din nacel se
topete, realizndu-se astfel o evaporare continu.
8

Configuraia electrozilor n geometria liniar discutat este prezentat n Fig. 4 pentru

arcul termoionic n vid cu catod nclzit n care unghiul reprezint unghiul dintre linia
imaginar perpendicular pe anod i axa de simetrie a catodului, cu rol important n controlul
energiei ionilor,

Fig. 4 Configuraia electrozilor cu arcul termoionic n vid cu catod nclzit direct

APRINDEREA ARCULUI
Noiunea de tensiune de aprindere a arcului termoionic n vid (TVA) este similar
cu tensiunea de strpungere de la descrcrile luminescente uzuale, ns sunt necesare
anumite observaii.
n primul rnd, pentru a se iniia descrcarea n arcul TVA presiunea n incint trebuie
s fie mai mic de 10-5 mbar. La presiuni mai ridicate arcul se aprinde n gazul rezidual i n
acest caz anodul nu mai este nclzit.
n al doilea rnd, aprinderea arcului se realizeaz n mai multe etape. nti este
nclzit filamentul catodului la o temperatur nalt care s asigure o emisie termoelectronic
semnificativ. Apoi se aplic o tensiune astfel nct, datorit accelerrii electronilor de la
catodul nclzit spre anod acesta nti ncepe s se topeasc i apoi se evapor n mod
continuu. Se creeaz astfel o densitate stabil de atomi ai materialului anodului evaporat n
spaiul interelectrodic (Fig. 5).

Fig. 5 Evaporarea materialului anodului n arcul TVA cu catod nclzit indirect

O cretere ulterioar a tensiunii aplicate va duce la aprinderea arcului n vaporii
generai de la anod i simultan va crete semnificativ curentul dintre anod catod, n timp ce
tensiunea pe arc va scdea (Fig. 6).
Astfel se stabilete arcul termoionic n vid, arcul fiind meninut de vaporii anodului
evaporat. Este un arc cu catodul nclzit care asigur electronii necesari prin emisie
termoelectronic, care are ns anumite particulariti care l difereniaz fa de arcul
obinuit cu catod nclzit din exterior.

Fig. 6 Expandarea plasmei de vapori ai materialului anodului n arcul TVA cu catod nclzit
indirect
Deci, tensiunea aplicat n cazul arcului TVA trebuie pe de o parte s genereze gazul
necesar pentru a susine curentul de descrcare, iar pe de alt parte, imediat dup aprindere
trebuie s menin o densitate stabil de atomi neutrii evaporai din catod, tiut fiind c o
parte din tensiune este preluat de rezistena de balast i de cderea de potenial a plasmei.
10

Cu aceste obsevaii, putem defini cele trei condiii pe care trebuie s le ndeplineasc
tensiunea de strpungere pentru aprinderea arcului TVA:
S evapore atomii neutrii de la suprafaa anodului cu o astfel de rat nct n spaiul
interelectrodic s fie meninut n stare staionar o densitate de atomi neutri;
S asigure prin ciocniri inelastice electronii atomi neutri destui ioni capabili s
menin densitatea de sarcin necesar descrcrii, compensnd n mod continuu
pierderile de ioni prin procesele de recombinare i de difuzie ambipolar;
Imediat dup aprindere s menin cel puin aceeai rat de evaporare a atomilor de
la anod ca nainte de aprinderea arcului.

PARTICULARITILE PLASMEI ARCULUI TVA

Dac sunt ndeplinite condiiile de aprindere discutate n paragraful anterior la
aplicarea unei tensiuni nalte ntre catodul termoionic i anod, n spaiul dintre electrozi apare
o descrcare strlucitoare extrem de stabil n ceea ce privete forma, valoare curentului de
descrcare i intensitatea luminii emise. Din momentul aplicrii tensiunii pn la apariia
descrcrii este necesar un timp n care materialul anodului se topete apoi ncepe s se
evapore pn la stabilirea unei densiti staionare a vaporilor materialului anodului n spaiul
interelectrodic. La aprinderea arcului TVA va avea loc expandarea plasmei vaporilor
materialului anodului, plasma avnd o densitate care va scdea cu distana (r) fa de nacela
care conine materialul topit. Astfel numrul de particule evaporate dintr-o surs de evaporare
punctual care cad n unitatea de timp i pe unitatea de suprafa a substratului este invers
proporional cu ptratul distanei de la o surs la substrat.
Spre deosebire de descrcrile uzuale cu catod autonclzit, n care cderea catodic
este de ordinul zecilor de voli, n arcul TVA cderea catodic este cel puin cu un ordin de
mrime mai mare, ajungnd chiar la nivelul kilovolilor.
Aceast valoare mare este determinat de faptul c, pentru a se iniia descrcarea,
tensiunea de aprindere trebuie pe de o parte s asigure producerea unui numr suficient de
purttori de sarcini electrice, iar pe de alt parte s genereze gazul n care se introduce
descrcarea printr-o densitate corespunztoare de vapori ai atomilor neutri.
Dup aprinderea descrcrii se stabilete distribuia de potenial n spaiul
interelectrodic, cderea catodic avnd o valoare mult mai mare dect n cazul arcului electric
obinuit.
Acest facilitare, care reprezint un net avantaj al arcului TVA, se datorete faptului c
emisia de electroni de la catod este independent de parametrii plasmei arcului TVA. Ca
urmare mrimea cderii catodice va fi legat de aducerea electronilor emii de catod la
plasma TVA. De exemplu, dac se ndepteaz catodul de anod, pentru a menine curentul de
electroni care ajunge de la catod la plasma vaporilor, trebuie s se mreasc tensiunea aplicat
care va duce la creterea cderii catodice.
Valoarea cderii catodice este influenat de o serie de factori geometrici i
operaionali cum ar fi de exemplu: distana interelectrodic (d); poziia relativ a
electrozilor dat de unghiul i temperatura catodului determinat de intensitatea curentului
de nclzire a filamentului (If).
O distan mai mare dintre arc substrat va duc la energii mai mare ale ionilor pe
suprafa. Apoi, acest bombardament ionic poate fi realizat uor prin alegerea optim a
parametrilor de operare i a distanei arc substrat. Dac gradul de ionizare a plasmei n arcul
TVA este de 20 % se obine o cretere semnificativ a bombardamentului ionic prin acest
proces. Aceast tehnic elimin echipamentul RF greu de mnuit i scump care trebuie s fie
utilizat n alte descrcri pentru a accelera ionii pn la suprafeele dielectrice.
11

Msurtorile efectuate pentru determinarea distribuiei energiei ionilor pe direcia de

expandare a plasmei pentru diferite condiii experimentale permit stabilirea parametrilor de
care depinde energia ionilor.
Este interesant de subliniat c, pentru condiii de operare fixate, aceast surs de
plasm din arcul TVA produce ioni energetici fr intermediul unui alt mijloc de accelerare a
ionilor. Mai mult dect att, ca metod de depunere a straturilor subiri, metoda TVA va
asigura bombardarea stratului care se depune cu ioni energetici provenii chiar din materialul
anodului evaporat, filmul depus avnd, datorit celor mai sus artate, un grad mare de
puritate. De asemenea, tot datorit bombardamentului cu ioni, filmul depus va avea o bun
aderen, fiind compact i omogen.
La un curent fixat al arcului, creterea sau descreterea tensiunii pe arc prin ajustarea
altor factori va determina o variaie n acelai sens a cderii catodice sau anodice. Cu alte
cuvinte, ntre cderea de tensiune pe arc i energia ionilor exist o clar interdependen. n
Fig. 7 este redat corelarea dintre energia maxim msurat a ionilor Ei (eV) i cderea de
tensiune pe arc Uarc pentru un curent al arcului de I arc = 1,25 A i n cazul n care unghiul de
nclinare al tunului electronic avea valoarea = 600, la o descrcare n arcul TVA n vapori de
cupru.

Fig. 7 Corelarea dintre energia ionilor Ei (eV) i cderea de tensiune pe arc Uarc (V)
Msurtorile efectuate n diferite condiii de operare au condus la urmtoarea
dependen empiric ntre energia ionilor i cderea de tensiune pe arc:
Eioni = k Uarc

(1)

Constanta de proporionalitate k are valoari cuprinse n intervalul 0,5-0,75 depinznd de

natura materialului care se evapor la anod i de condiiile de lucru.
Aadar, prin msurarea - relativ simpl a cderii de tensiune pe arc se poate obine o
informaie direct asupra valorii energiei ionilor, valoarea maxim a energiei ionilor fiind o
fraciune din cderea de tensiune pe arc.
In concluzie, energia ionilor depui poate fi controlat chiar n timpul efecturii
depunerii, depinznd de anumii factori cum ar fi:
distana anod catod (d),
unghiul de nclinare al tunului electronic (),
intensitatea curentului de nclzire a filamentului (If),
12

 intensitatea curentului de descrcare pe arc (Iarc) a cror influen este

absolut semnificativ.
S-a constatat deasemenea c factorii menionai anterior pot controla i ali parametrii
importani ai arcului ca de exemplu: valoarea tensiunii de aprindere a arcului, rata de
depunere a filmului, intensitatea curentului de descrcare sau cderea de tensiune n
descrcare.

APLICAII ALE TEHNOLOGIEI TVA CA METOD DE

DEPUNERE A STRATURILOR SUBIRI
Studiile asupra arcului TVA au vizat n mod special aplicaiile ca metod de depunere a
filmelor subiri pe un anumit substrat din mai multe motive:

depunerea are loc n vaporii materialul anodului filmul depus coninnd

chiar ionii acestui material i deci se obine un strat cu un nalt grad de puritate.

datorit bombardamentului ionic filmele depuse nu prezint o structur

columnar, au rugozitate redus fr granulaie i un grad mare de aderen.

energia ionilor depui poate fi controlat n timpul depunerii depinznd de

factorii geometrici i operaionali prezentai n paragraful anterior.

plasma de vapori a materialului anodului este extrem de stabil.

cderea catodic ajunge pn la nivelul kilovolilor

gradul mare de ionizare datorit densitii mari a plasmei, este adecvat

pentru depunerea oricrui tip de material, indiferent de punctul de topire al acestuia.
Folosind aceast tehnologie s-au realizat urmtoarele depuneri cu metoda TVA:
1. depuneri n staturi metalice: cu Ti, Cu, Zn, Ni, Cr, Ag, etc
2. depuneri de aliaje Al Ag2O3, Cu Ag, Cu Sn, Ni Cr, etc
3. depuneri de oxizi: MgO, TiO
4. depuneri de carbon realizndu-se structuri tip Diamond Like Carbon
DLC-uri
5. depuneri de materiale refractare : W, Re, Be
Desigur c n funcie de tipul materialului care urmeaz s fie depus i configuraiile
electrozilor au suferit modificri fa de configuraia de baz prezentat anterior.
Astfel, pentru a se realiza o depunere uniform i simetric a filmelor subiri fa de
un ax vertical care trece prin mijlocul anodului s-a introdus nc un catod care poate funciona
independent fa de primul catod (Fig. 8). Acest catod va putea fi nclzit direct sau indirect,
la fel ca i primul putnd avea nclinri diferite fa de axa perpendicular pe nacel a
anodului.
Prin aceast modificare s-a realizat un sistem care asigur expandarea plasmei arcului
TVA pe o direcie perpendicular pe nacela anodului ce conine materialul de evaporat.
Astfel, anodul va fi nclzit pe o suprafa mai mare dect n cazul unui singur catod i
din acest motiv noul montaj experimental poate fi utilizat cu succes pentru dielectrici i
semiconductori unde transportul de cldur nu se face att de repede ca la metale.
Folosind un tun electric suplimentar se pot controla de asemenea parametrii importani
cum ar fi: energia ionilor i rata de depunere. Pentru o cdere de potenial mare i un curent
de descrcare mic susinut de primul catod se obine o energie mrit a ionilor i ca urmare o
mai bun aderen a filmului subire depus pe substrat. Apoi se poate susine descrcarea prin
intermediul celui de-al doilea tun electronic, la o cdere de tensiune mic i un curent de
descrcare mare pentru a obine o rat de depunere mare.

13

Fig. 8 Arcul cu dou tunuri electronice

De asemenea o alt configuraie care s permit minimalizarea opturrilor ale spaiului
n care se expandeaz plasma TVA a fost realizarea arcului termoionic cu geometrie
cilindric.
Astfel arcul TVA se poate obine cu mai multe perechi de tunuri. Sau, din aproape n
aproape se poate imagina un singur catod circular continuu montat n interiorul unui cilindru
Whenelt. Evident, acesta nu va mai avea forma clasic discutat anterior, ci se va adapta
noului tip de filament. Anodul este construit dintr-o tij de fier cu trecere izolat la nalt
tensiune i etan la vid, n vrful creia este fixat nacela, prin filetare cu un urub. n acest
caz, pentru confecionarea nacelei s-a folosit molibdenul, diametrul superior al acesteia fiind
de 5 mm, iar adncimea de 0,6 mm. Ca i n cazul geometriei liniare nu s-a folosit un sistem
de rcire al anodului sau al catodului.
Nacela acestui tun a fost umplut cu cupru. Dup nclzirea filamentului i aplicarea
unei tensiunii nalte s-a aprins un arc intens ntre filamentul circular i anodul ce conine
cuprul, plasma astfel generat expandndu-se n jet ascendent (Fig. 9).

Fig. 9 Expandarea plasmei de cupru n arcul TVA cu geometrie cilindric

14

n cazul depunerilor de materiale exist i cazuri n care se impune producerea unor

filme subiri utiliznd condensarea simultan pe suprafaa de depunere a dou metale
(materiale) diferite obinndu-se o structur compozit care nu este neaprat un aliaj n sensul
c poate avea aspectul unei structuri formate din amestecarea a dou pulberi diferite eventual
nanostructurate.
n Fig. 10 se arat structura de electrozi pentru depunerea simultan a dou materiale
pe un support comun. Dup cum se observ n aceast figur anodul este alctuit din dou
nacele de evaporare (fiecare coninnd un alt material, cele dou nacele fiind legate electric la
polaritate pozitiv i cu tensiune nalt).
In dreptul fiecrui anod care conine materiale diferite se afl cte un tun electric cu
filamentul nclzit separat i care este constant la tensiune nalt fa de pmnt. Descrcarea
se aprinde simultan ntre catozii cu filament de wolfram i cele dou nacele aflate n scurt
circuit. O dat descrcare aprins, curentul de descrcare pentru fiecare din cele dou arcuri
este strict controlat de temperatura (nclzirea) filamentului fiecrui catod. Ca urmare, n
timpul depunerii celor dou materiale simultan pe aceeai suprafa de prob, viteza de
depunere pentru oricare dintre cele dou materiale poate fi modificat doar schimbnd
temperatura catodului.
Pentru a evita n anumite cazuri interacia celor dou plasme de tip TVA create ntre
fiecare pereche de electrozi, cele dou tunuri electronice sunt separate de un ecran metalic
plan. Acesta este situat pe un plan median pe axa de simetrie a sistemului i perpendicular pe
planul desenului
Deoarece acest sistem poate nclzi la temperaturi nalte orice material, metoda TVA
este una din cele mai adecvate metode pentru evaporarea carbonului. Mai mult dect att
descrcarea poate fi iniiat aa cum am artat n condiii de vid nalt astfel nct metoda
va asigura o puritate ridicat mai ales pentru straturile de carbon nanostructurate fr coninut
de hidrogen.
Una din cele mai interesante structuri obinute prin depuneri de straturi subiri se
dovedete a fi structura DLC (Diamod Like Carbon) cu proprieti asemntoare cu cele ale
diamantului, dar nu identice. Structurile tip DLC reprezint reele neregulate de lgturi
covalente sp3 mrginite de structuri grafice de tip sp2 carbon care se nteptrund fr a avea o
ordine cristalin pe regiuni ntinse

Fig. 10 Structura de electrozi pentru depunerea simultan a dou materiale pe un

suport comun
15

Studiul intens care se acord acestor structuri DLC este justificat datorit propietilor
pe care acestea le confer suprafeelor acoperite, ca rezisten la uzur, conductivitate
electric, duritate, netezime, coeficieni mici de frecare, rezisten la oxidare i o bun
aderen. Mai mult dect att, gama de aplicaii pe care o pot avea este extrem de vast,
ncepnd de la acoperirea cu filme subiri DLC a compact discurilor, a lentilelor ochelarilor, a
capetelor de citire magnetic (benzi magnetice), a lamelor de ras, a bijuteriilor, a fibrelor
optice, a fotomtilor, a scanerelor laser pentru citirea barelor de coduri i pn la acoperirea
diafragmelor de la microfoane.
Straturile de carbon depuse prin metoda TVA prezint cteva caracteristici
remarcabile, fiind compacte, omogene, cu o rugozitate n zona nanometrilor, fr s prezinte
microparticule sau impuriti.
Aceste caliti se datoresc att faptului c arcul este produs n condiii de vid naintat
ct i faptului c ionii din plasma TVA au o energie ridicat determinat de cderea catodic.
Spre deosebire de arcul electric obinuit unde cderea catodic e de ordinul 10 V, n cazul
arcului termoionic cderea catodic poate fi de ordinul 102 V i chiar mai mare. Filmul
subire, n timpul depunerii este bombardat de ioni energici, prin aceasta asigurndu-se
calitile subliniate mai sus pentru filmele subiri depuse.
Aceste aspecte au fost studiate i aprofundate n special n cazul utilizrii metodei
TVA pentru depunerile de straturi subiri metalice precum i pentru un numr de compui.
Comparnd diferite aspecte caracteristice metodelor de depunere prin laser pulsat, depuneri cu
arc n vid i depuneri prin arc termoionic rata de depunere, eficiena tehnologic,
posibilitatea de control, sfera de aplicabilitate se poate considera c metoda de depunere
TVA a straturilor de carbon va avea un rol esenial n crearea filmelor de carbon cu proprieti
deosebite.

16