​Llitografia este procesul de transferare a configurațiilor geometrice de pe o mască pe un strat

subțire de material sensibil la radiații care acoperă Suprafața unei plachete.

fotolitografia utilizează ca radiație lumină ultravioletă cu lungimea de undă Y intors aprox

0,2...0,4

fotolitografic se desfășoară între o cameră Alba iluminată cu lumină galbenă.

etape

etalonarea , expunerea, developarea

fotoreziști

pozitivi: au trei componente fotosensibile

rășină de baza solvent

înaintea expunerii componenta fotosensibilă este insolubilă în soluția de developare.

după expunere și aplicarea radiațiilor în zonele expuse aceasta devine solubilă soluția de
developare

prin developare sunt îndepărtate zonele expuse

developarea constă între o dizolvare simplă A fotorezist ului

expus ce nu afectează regiunile în excursie

negativi:

sunt polimeri combinați cu o componentă fotosensibilă

după expunerea componentei foto sensibile aceasta absoarbe energia optică și o convertește
în energie chimică pentru inițializarea unei reacții în lanț și determină legea transversală a
moleculelor de polimeri.

polimerul cu legătura transversală are o greutate moleculară mai mare și devine insolubil în
soluția de developare

tehnici de expunere: există două metode de expunere optică prin umbrire contact sau
proximitate și proiecție

foto măști:

sunt realizate din plachete de sticlă sau cuarți

cu grosimea de 1,5... 3 mm și formă pătrată de 4,5/ 6 țoli.

plachetele sunt acoperite cu o emulsie fotosensibilă sau cu crom.

în cazul micro cristalelor cu densitate mică pe unitatea de suprafață prin corodare umedă sau
uscată cu proiecție foto

o problemă importantă la măști este densitatea de defecte

controlul măștilor se poate face numai cu programe deosebit de costisitoare cu optică de înaltă
rezoluție și mese de deplasări foarte precise

la măștile de crom pot fi definite două tipuri de defecte:

opace: pentru rezolvare este îndepărtat cromul cu radiație laser sau cu fascicul ionic

transparente: pentru rezolvare se foloseste un procedeu de depunere din stare gazoasă și

structurare locală cu un laser a cărui energie este riguros controlată