Utilizarea compuilor coordinativi cum ar fi -diketonates de chelai metalici ca
precursori posed avantaje la temperatur de descompunere sczut a moleculei
metalorganice Td = 250-300oC i uurina de a obine un compus de oxid. Acesta din urm se datoreaz unei anumite structuri chimice a moleculei precursoare, n care un atom de metal are o legtur de coordonare cu cele mai apropiate atomi de oxigen nvecinate. Mai mult dect att, utilizarea soluiei de amestec de precursori ofer un caracter "surs unic" a tehnicii MAD i ca o consecin o posibilitate de control n compoziia cationic a filmului crescut uor. Vaporizarea micilor particule (aerosoli) de precursori sau cu alte cuvinte poriuni mici de metalorganic e pare a fi foarte eficient, deoarece permite de a se micora esenial timpul de evaporare, astfel prevenind procesele de polimerizare i faptul reducerii volatilitii. Mai mult dect att, legturi de coordonare ntre moleculele precursoare i cele ale cutiei de solvent mbuntesc volatilitatea de precursori. Toate acestea duc la o faz de vapori mai stabil, mai ales n caz de precursori de pmnturi rare metalice (Y, La, Nd, etc.) i cele ale altor metale, cum ar fi Ba, Pb. Ca rezultat al acestei vaporizri "discrete" precursorilor set de metalorganic adecvat compui pot fi mrite fa de mult mai simplu, ieftin, i chiar mai puin volatile compui, care nu pot fi utilizate n MOCVD. Procesul de formare n faz de vapori se plaseaz n imediata apropiere a substratului nclzit, n cazul n care un film de oxid este n cretere prin intermediul unei reacie de piroliz eterogen. Aceasta se realizeaz prin pulverizarea aerosolilor n reacia zon. Astfel, orice reac ii n faz de vapori i a proceselor de difuzie termic pot fi suprimate considerabil ducnd la o compoziie stabil din faza de vapori peste substrat. Consecina urmtore este o posibilitate de a crete o concentraie local a fazei de vapori peste substrat n comparaie cu MOCVD convenional de transport al gazelor. Nu este evident c n aceste condiii numai viteza de depunere poate fi crescut, dar mecanismul de cre tere a filmelor va rmne acelai ca i ntr-un proces MOCVD.