Riza Stefan Radu

Facultatea de Inginerie Medicala

Grupa 1431

Electron Beam Lithography

EBL este o tehnica de modelare cu o rezolutie foarte inalta care a fost initial dezvoltata
pentru industria semiconductorilor. Aceasta tehnica de fabricare are o miscare de sus in jos
pentru scrierea directa a caracteristicilor de fabricare care variaza de la 10 la 100nm. In ultimii
ani, EBL a fost adaptat cu succes in domeniul cercetarii biologice pentru formarea micro
matricilor de biomolecule si cellule. Tehnica EBL necesita vid si utilizeaza echipamente cu un
cost ridiat precum fasciculul de electroni concentrate. Litografia cu fascicul de electroni, este o
metoda foarte precisa si de inalta rezolutie, scriere directa, o metoda pentru formarea modelelor
intr-un strat de material. [1]Litografia directa se deosebeste de o mare varietate de alte metode
prin faptul ca permite generarea unor modele dintr-un fisier de date. Prin urmare, este o metoda
de modelare si nu o metoda de replicare.[2] EBL, in forma sa obisnuita , foloseste hardware-ul,
spre deosebire de SEM, pentru a ghida un mic fascicul de electroni in scopul formarii imaginii
latente intr-un strat subtire de polimeri cunoscut sub numele de rezistenta. Scopul acestei
expuneri este de a adapta rezistenta astfel incat aceasta sa fie mai solubila(rezistenta la ton
pozitiv) sau mai putin solubila(rezistenta la tonul negativ) in functie de nevoia dezvoltatorilor.
Modelul rezultat este apoi transferat prin gravare sau depunerea altor materiale.

EBL poate fi utilizat pentru a modula interactiunile si retelele celulelor neurale.

Hidrogelurile polimerice precum poli(amidona) pot fi micro formate prin EBL pentru a ghida
adbsorbia proteinelor. Atunci cand celulele neuronale au fost cultivate pe aceste substraturi
microstructurate, controlarea adeziunii celulare si cresterea ulterioara a neuritului in
interconexiuni au dus la formarea unei retele neuronale intercelulare(figura de mai jos).
Utilizarea EBL pentru microstructurarea hidrogelurile polimerice pot facilita crearea de modele
complexe pentru analiza cu celule unice, care sunt esențiale pentru înțelegerea efectelor
fiziologice și farmacologice importante.[3]
Riza Stefan Radu
Facultatea de Inginerie Medicala
Grupa 1431

Microscopia confocală a neuriturilor crescute pe rețele de micropel cu model de litiografie cu fascicul de electroni
(10-μm diametru) conectate prin microcanale (lățime 1 μm).[4]

Bibliografie:

1. Tennant, D. M., & Bleier, A. R. (2016). Electron Beam Lithography of Nanostructures.

Reference Module in Materials Science and Materials Engineering. doi:10.1016/b978-0-
12-803581-8.09255-9
2. Kolodziej CM, Maynard HD. 2012. Electron-beam lithography for patterning biomolecules at the
micron and nanometer scale. Chem. Mater. 24(5):774–80 51.
3. Mendes PM, Yeung CL, Preece JA. 2007. Bio-nanopatterning of surfaces. Nanoscale Res. Lett.
2(8):373–84
4. Dos Reis G, Fenili F, Gianfelice A, Bongiorno G, Marchesi D, et al. 2010. Direct microfabrication of
topographical and chemical cues for the guided growth of neural cell networks on
polyamidoamine hydrogels. Macromol. Biosci. 10(8):842–52