Documente Academic
Documente Profesional
Documente Cultură
L.G.Bujoreanu-Mater Nemetal Mem Formei PDF
L.G.Bujoreanu-Mater Nemetal Mem Formei PDF
Leandru-Gheorghe Bujoreanu
Gabriela Sacarescu
Liviu Sacarescu
Mihaela Simionescu
MATERIALE NEMETALICE CU
MEMORIA FORMEI
Cuprins
formei.........................................................................................................................
I.3.1 Originea memoriei mecanice.............................................................
11
11
13
15
17
18
18
21
21
24
26
29
32
32
34
35
36
38
38
39
41
47
47
51
53
56
56
58
59
59
68
68
71
72
74
77
82
deschidere a ciclului...................................................................................................
III.4. Copolimeri siloxanici obinui prin hidrosililarea
84
ciclocarbosiloxanilor.................................................................................................
III.4.1. Copolimeri siloxanici cu structuri cicloliniare................................
85
86
86
87
88
88
90
93
93
93
94
94
98
102
105
111
116
Comportarea la iradiere in UV a
122
coroana fotosensibil..................................................................................................
IV.6 Efectul de memoria formei activat chimic...............................................
129
130
130
131
131
132
133
135
135
140
V.1. Polisiloxanimide..
141
143
V.1.2. Solubilitatea
144
145
147
148
152
153
155
156
158
160
161
167
170
170
170
173
174
175
176
178
183
183
184
189
200
Introducere
entropiile standard sunt de obicei negative [i mici. Deci semnul [i valoarea energiei libere
pot depinde de temperaturile absolute. Aceasta se manifest\ `n special `n sistemele
eterogene `n care exist\ echilibrul `ntre polimerul nesolubilizat [i cel din solu]ie.
Receptorii moleculari fotosensibili folosesc izomeria trans (E) - cis (Z) a
unit\]ii azobenzenice `ncorporata `ntr-o varietate de polieteri macrociclici. Moleculele
acestor noi polieteri sufer\ interconversii fotoinduse reversibile ale grupei azo `ntre
formele trans (E) [i cis (Z) ceea ce duce la modific\ri substan]iale ale conforma]iilor
centrilor de leg\tur\ [i implicit la modific\ri ale propriet\]ilor de complexare ale
cationilor. De exemplu, fotoiradierea compusului azo derivat de benzo15-coroan\-5 a dus
la modific\ri remarcabile ale capacit\]ii de complexare: forma trans (E) a extras Na+ de
5.6 ori mai eficient dec=t forma cis (Z), `n timp ce aceasta din urm\ a extras K+ de 42.5
ori mai eficient dec=t trans (E).
Receptorii moleculari sensibili la pH sunt combina]ii macrociclice ce con]in
una sau mai multe grupe func]ionale carboxilice a[ezate la periferia ciclului eteric. Ele `[i
modific\ abilitatea de legare `n func]ie de pH-ul mediului, mai exact, `n mediu acid
abilitatea de legare este redus\ iar `n mediu bazic este crescut\. Un macrociclu cu
func]iune de acid dicarboxilic-dicarboxamid\ a demonstrat eviden]a regl\rii prin pH a
selectivit\]ii transportului ionic. Trasnsportul preferen]ial de potasiu trece la transport
preferen]ial de calciu c=nd pH-ul cre[te de la pH=2 la pH=9 `n faza apoas\ ce con]ine cei
doi ioni metalici. Selectivitatea, exprimat\ prin raportul E/Z al extractabilit\]ilor, are
valoarea 238. Aceasta sugereaz\ c\ Na+ este extras sub form\ de complex [LC2+] `n timp
ce K+ este extras sub form\ de complex sandwich intramolecular [LC+].
Nu se poate vorbi inca de stabilirea unor corelatii intre structura liganzilor
macrociclici polimerici si proprietatile pe care acestia le probeaza in difente aplicatii de
laborator sau tehnologice. Sunt inca multe aspecte care vor trebul studiate pana sa se
realizeze o conducere optima a proceselor in care sunt implicati receptorii moleculari.
deceniului respectiv fiind de dou pe zi [7]. Ulterior, preocuparea de-a gsi noi aplicaii
pentru aceste materiale "revoluionare" considerate drept o "soluie care i caut
problema" [8] s-a redus n mod simitor, numrul total de cereri de brevete depind deabea 15000 n anul 1996 [2].
Compania american RAYCHEM a fost timp de 20 de ani liderul mondial absolut
al industriei materialelor cu memoria formei. n anii 90 compania i-a limitat activitatea,
n mod exclusiv, la colaborarea cu Pentagonul.
Strnit de americani, interesul pentru aceste materiale s-a transmis mai nti marilor
companii transnaionale cum ar fi General Electrics, IBM, Boieng, Texas Instruments
sau General Motors [9] i apoi altor ri din "Zona Pacificului" Japonia China,
Taiwan, Australia [10]. n Europa primele dispozitive electrice acionate prin materiale
cu memoria formei au fost produse de firma elveian ASEA BROWN BOVERY (1970).
La ora actual se consider ca rile europene cele mai implicate n industria materialelor
cu memoria formei sunt Frana (unde societatea IMAGO produce exclusiv dispozitive pe
baz de Cu-Zn-Al) i Germania [9].
n Romnia nu se poate vorbi, din pcate despre o "industrie" a materialelor cu
memoria formei, dei exist firme care comercializeaz de exemplu tuburi din
polimeri termocontractabili pentru conductorii electrici de for sau rame de ochelari din
metale cu memorie. Din punct de vedere al cercetrii, ns, se poate vorbi despre un
mult mai viu interes, mai ales n marile centre universitare (Bucureti, Timioara, etc.)
printre care i Iai. La Iai cercetrile au demarat n 1994 la Facultatea de tiina i
Ingineria Materialelor de la Universitatea Tehnic "Gh.Asachi", de unde s-au extins mai
nti la alte faculti i apoi la alte instituii, att de nvmnt superior (cum ar fi
Universitatea de Medicin i Farmacie) ct i de cercetare, cum ar fi Institutul Naional
pentru Cercetare-Dezvoltare n Fizic Tehnic. Lista aliajelor cu memoria formei (AMF)
este impresionant [11, 12] ns de uz comercial au devenit numai aliajele pe baz de NiTi, Cu-Zn-Al, Cu-Al-Ni i Fe-Mn-Si [10].
Principalul fenomen care a fost pus n legtura cu comportamentul de memoria
formei este cunoscut de peste 100 de ani i perpetueaz amintirea ilustrului metalograf
german Von Martens transformarea martensitic [13].
carbon absena difuziei i prezena relaiilor de orientare ntre faza iniial i produsul
de reacie [15] s-a convenit ca toate transformrile n stare solid de tip "militar", prin
care se realizeaz formarea coerent a unei faze dintr-alta n urma deplasrii simultane
(prin forfecare) a tuturor atomilor pe distane inferioare celei de salt difuziv, s fie
considerate de tip martensitic [21].
Pe baza considerentelor de mai sus, transformarea martensitic a fost identificat la
un numr mare de materiale, ce includ: metale pure, aliaje, materiale ceramice, minerale,
compui anorganici, sticle solidificate i bine-neles aliajele cu memoria formei (AMF)
[21]. n aceste condiii s-au propus o larg varietate de criterii de clasificare a
transformrii martensitice care au fost sistematizate pentru aliajele feroase i pentru cele
neferoase [12]. ntre aceste criterii se remarc structura cristalin a austenitei care la
AMF poate fi cubic cu volum centrat (de tip ) sau cubic cu fee centrate (de tip ).
Fig.1 Ordonarea celulelor elementare cvc prin substituirea atomilor iniiali: (a) A2 cvc dezordonat,
toi atomii sunt de aceeai specie; (b) B2 (tip CsCl) atomul din centru este de alt specie; (c) D03(tip
Fe3Al) atomii de pe fee paralele i diagonale neparalele sunt de alt specie; (d)L21 (tip Cu2AlMn sau
Heusler) atomii de pe fee paralele i diagonale neparalele sunt de alt specie iar atomul din centru
este de o a treia specie [9, 3]
Componentul(ele)
Exemple
principal(e)
1
aur
Aliaje pe baz
de argint
3
46,5-50 %at.Cd
Au-Mn
50-53 %at.Mn
Aliaje pe baz
de cupru
Ag-Cd
44-49 %at.Cd
Ti-Ni
49-51 %at.Ni
Ti-Ni-Fe
de titan-nichel
(Ti50Ni50-xMx)
concentraie
Aliaje pe baz
Aliaje pe baz
3
Transformarea martensitic
Au-Cd
Au-Cu-Zn
2
Intervalul de
Ti-Ni-Cu
Cu-Al-Ni
Cu-Zn-Al
Substructura
martensitei
macle i defecte
'2 (B19)
de mpachetare
macle
macle i defecte
de mpachetare
defecte de
mpachetare
2(B2)R(romboedric)
Ti50Ni50-xFex
"2 (B19)
x 3 at. Fe
macle
Ti50Ni50-xCux
x=10-30 %at.Cu
"2 (B19)
(10-14) %Al-
-(2-4) %Ni
(19-30) %Zn-
-(4-8) %Al
macle
defecte de
mpachetare
Tabelul 2 Transformrile martensitice din cteva aliaje semnificative de tip , cu memoria formei [9,
12, 13, 14, 15]
Nr. Componentul(ele)
crt.
1
2
3
principal(e)
Aliaje pe baz de
Indiu
Aliaje pe baz de
fier
Aliaje pe baz de
mangan
Exemple
In-Tl
Fe-Pt
Fe-Ni
Intervalul de
Transformarea
Substructura
concentraie
martensitic
martensitei
(18-27)%at.Tl (cfc)(tfc)
~25/at.Pt
macle
1(L12)(tvc)
macle
max.33,5%Ni (cfc)(cvc)
macle
Fe-Mn (15-30)%at.Mn
(cfc)(hc)
defecte de mpachetare
Mn-Cu
(cfc)(tfc)
macle
(5-35)%Cu
mecanic aplicat. innd cont c transformarea martensitic din AMF are proprietatea
unic de-a asocia modificrile de form cu transformrile reelei cristaline, seciunile
urmtoare vor sintetiza legtura dintre transformarea martensitic i comportarea
macroscopic a materialului n cadrul celor patru efecte menionate mai sus. Deoarece
primul dintre aceste efecte presupune recuperarea deformaiilor aplicate prin simpla
descrcare mecanic, PSE mai este numit i memorie mecanic. Pe de alt parte, EMF
i EMFDS presupun recuperarea deformaiilor prin nclzire i respectiv nclzire-rcire.
Aceste efecte caracterizeaz aa-numita memorie termic [23].
S-a ales exemplul traciunii deoarece este cea mai concludent metod de analiz
a deformrii materialului [24]. Celelalte dou curbe din Fig.2 sunt reprezentative pentru
cele dou tipuri principale de pseudoelasticitate: superelasticitate (0A1B1C1D10) i
pseudomaclare (0A2B2C2). Acelai AMF poate prezenta, pe diverse domenii de
Fig.3 Schema mecanismului demaclrii n cadrul unui AMF policristalin cu structur martensitic
multivariant: (a) grup de 4 variante de plci auto-acomodante de martensit indus termic; (b)
demaclare parial produs de creterea variantelor 3 i 4 sub efectul tensiunii aplicate, 1; (c)
demaclare total odat cu cretrea variantei 4, cea mai favorabil orientat, n raport cu axa tensiunii
aplicate, 2 > 1 [27]
10
Fig.4 Micrografie electronic a suprafeei de rupere (produs la o tensiune de 411 MPa i o alungire
de 2,07 %) a unei probei de AMF Cu-Zn-Al cu plci ale unei variantei de martensit '2 (6000:1)
[28]
11
cald este caracteristic domeniului austenitic iar forma rece celui martensitic. Cea mai
clar evideniere a EMF se realizeaz prin intermediul variaiei alungirii n raport cu
tensiunea i temperatura, ca n Fig.5.
Fig.5 Ilustrarea efectului simplu de memoria formei (EMF) prin intermediul curbelor schematice din
spaiul tensiune-deformaie-temperatur: EF1G1 EMF cu revenire liber; EF2G2 EMF cu
revenire reinut; DF3G3 EMF generator de lucru mecanic [12]
forma rece (p) la cea cald (rem). Acest efect se produce n absena oricror constrngeri
exterioare. Valoarea alungirii recuperabile (EMF) este mai mic la policristale dect la
monocristale, fiind mult influenat de orientarea cristalografic. De exemplu, la
monocristalele de AMF Ni-Ti, EMF atinge 10,7% pe direcia [233] 2 , 9,8% pe direcia
[111] 2 , 8,4% pe direcia [011] 2 i 2,7% pe [001] 2 .
EMF cu revenire reinut (EF2G2) se produce atunci cnd elementul de
memoria formei este mpiedicat s-i redobndeasc forma cald, prin nclzire. n
exemplul din Fig.5 se observ c este pstrat forma rece, caracterizat prin alungirea p
i din acest motiv, n timpul nclzirii ntre As i Af,este generat tensiunea , n punctul
G2. Cercetrile au artat c EMF cu revenire reinut poate fi evideniat chiar i la un
AMF care este meninut n domeniul elastic, cu condiia s existe o diferen ntre forma
cald i cea rece. Aceast evideniere a avut loc att la AMF de tip Cu-Al-Ni [29] ct i la
AMF de tip Cu-Zn-Al [30].
EMF generator de lucru mecanic (DF3G3) este evideniat sub efectul unei
tensiuni , meninut constant, n timpul nclzirii. Deoarece prin EMF este efectuat o
deplasare p-rem prin nvingerea unei tensiuni , este generat lucrul mecanic util pe
unitatea de volum: Lutil = (p-rem).
EMF, n special cel generator de lucru mecanic, reprezint una dintre cele mai
spectaculoase i mai utile aplicaii ale AMF. n lucrrile anterioare au fost prezentate
descrieri detaliate ale comportrii termomecanice [11], caracterizrii macroscopice [12] i
metodelor practice de analiz [31] a EMF.
13
La AMF Ni-Ti echiatomic, obinut prin topire cu arc electric, laminat la 1073 K,
rectificat mecanic, recopt i clit, s-a observat c EMAT nu se manifest dect n urma
ntreruperii (arestului) transformrii martensitice inverse (MA), dup cum arat Fig.6.
Termogramele corespunztoare transformrilor martensitice complete din primul ciclu
(trasate cu linie-punct) sunt abcde pentru transformarea direct (de la rcire) i fghij
pentru cea invers (de la nclzire). Punctele critice ale transformrii directe sunt
reprezentate prin b i d iar cele ale transformrii inverse prin g i i. n Fig.6(a)
transformarea martensitic direct a fost ntrerupt n Ar, la 314,8 K. Dac rcirea ar fi
fost continuat, s-ar fi obinut termograma cu linie-punct, corespunztoare transformrii
complete. Imediat dup ntrerupere (arest) s-a aplicat nclzirea pn peste Af (punctul i)
rezultnd termograma gghij. Picul endoterm cu maximul n h este mai mic deoarece
cantitatea de martensit care se transform n austenit este mai mic dect n mod
normal, o parte din austenit rmnnd netransformat la rcire. n ciclul 2 se aplic din
nou o rcire, rezultnd termograma arbrcrdr, identic cu cea a transformrii complete. La
nclzire se obine termograma frgrhrirjr caracteristic transformrii martensitice inverse,
complete.
14
nclzirea peste Af nu produce nici un efect asupra transformrii directe din cel de-al doilea ciclu
(arbrcrdr) a crui transformare invers este complet ( f r' grhrirjr); (b) ntreruperea transformrii
inverse n Ac (331,7 K), urmat de rcirea pn la M 'f produce scindarea transformrii inverse
( f c' g c h 'c h "ci c jc ) din ciclul al doilea, la temperatura de ntrerupere din primul ciclu a crei
transformri directe (acbcccdc) este complet [35]
15
propriu-zis, la 8000C, proba este mpins de cilindrii de laminare n cuva de rcire, unde
se produce clirea n ap. Probele laminate la cald i clite au avut dimensiunile finale de
0,5 x 4 x 50 mm i masa de 0,9 g.
Fig.7 Evoluia deflectogramelor, de la primul la cel de-al cincilea ciclu, pn la obinerea EMFDS, la
ncovoierea unei lamele de 0,9 g, din AMF pe baz de Cu-Zn-Al, sub efectul unei sarcini de 300 g,
aplicat la captul liber [31]
Se constat c att forma rece ct i cea cald (R5 respectiv C5), obinute n ciclul
5 cruia i corespunde bucla nchis trasat cu linie continu, sunt deplasate fa de
formele corespunztoare primului ciclu, cu cca. 0,44 i respectiv 0,29 mm [31].
Pentru obinerea EMFDS este necesar aplicarea unui tratament termomecanic
special, numit educare, ce const din parcurgerea repetat a unui traseu n spaiul
tensiune-deformaie-temperatur. Se pot utiliza mai multe proceduri de educare cum ar fi
[32]: 1-educare prin supradeformare n stare martensitic; 2-educare prin cicluri de
memoria formei; 3-educare prin efect pseudoelastic [33]; 4- educare prin ciclare
combinat EMF/PSE; 5- educare cu intervenia difuziei atomice [9] sau 6- educare sub
tensiune constant, ca n exemplul prezentat n Fig.7. Educarea sub tensiune constant se
16
poate face prin mai multe variante de aplicare a sarcinii [34]: 1-numai la rcire; 2-numai
la nclzire sau 3-pe ntreg ciclul termic.
Fig.8 Ilustrare schematic e modului de obinere a efectului de memorie a formei complet rotunde
(all round shape memory effect) la o lamel din aliaj Ni51Ti49: 1-prob; 2-cilindru din oel inoxidabil;
3-sistem tubular de fixare, din oel inoxidabil [9]
17
La nceput, proba (1) este pus n soluie la 8000C i clit pn la temperatura ambiant,
cnd este nc n stare austenitic deoarece are punctul critic Ms = -1000C. Apoi proba
este curbat n jurul unui cilindru (2) i imobilizat n aceast poziie cu ajutorul unui
sistem tubular de fixare (3). La nceputul primului ciclu termic, ntreg ansamblul este
nclzit pn la 5000C, unde este meninut timp de o or. n ciclul 2 ansamblul este rcit
pn la -700C unde proba este eliberat i se constat curbarea ei n sens opus. La
nclzirea pn la 1000C, proba se curbeaz din nou n sensul iniial. Reluarea rcirii,
pn la -700C, indic redobndirea formei reci, deci n timpul ciclrii termice proba i va
modifica succesiv forma ntre cele 2 moduri opuse de curbare [9].
18
Fig.9 Evidenierea originii macroscopice a EMF, prin intermediul diferenei de rigiditate dintre
martensit i austenit
n Fig. 10, variantele de martensit acomodate prin maclare s-au notat cu M+ i M. La aplicarea unei tensiuni mecanice, cresc numai variantele M+ care sunt cel mai
favorabil orientate n raport cu axa tensiunii aplicate. Din punct de vedere microscopic,
se poate considera c exist o infinitate de forme reci dar numai o singur form cald,
spre care tinde aliajul n timpul producerii transformrii martensitice inverse (reversia
martensitei), atunci cnd reeaua cristalin revine la forma iniial.
n timpul reversiei, contractarea plcilor de martensit se produce n ordine
exact invers creterii lor, astfel nct ultima plac format la sfritul rcirii este prima
care se transform n austenit la nceputul nclzirii.
Dup nclzire, se obine austenita retransformat (Aretr.), care este identic
cristalografic cu austenita iniial (Ai). Diferena dintre aceste dou tipuri de austenit
este c cea retransformat pstreaz urme ale limitelor de macle de acomodare ale
variantelor de martensit.
Fig.10 Evidenierea originii microscopice a EMF, prin schimbarea morfologiei fazelor, n cadrul unui
ciclu rcire-deformare-nclzire [9]
20
Deci din punct de vedere microscopic, originea EMF este gradul mai sczut de
simetrie al martensitei n raport cu austenita. Redobndirea formei calde nu va mai fi
complet atunci cnd intervine alunecarea, ca mod de deformare plastic, la imprimarea
formei reci. Pentru recuperarea integral a formei calde, trebuie asigurat reversibilitatea
cristalografic a transformrii, ceea ce implic redobndirea att a structurii cristaline
ct i a orientrii cristalografice [9, 7]. n plus, matricea austenitic trebuie s fie
meninut n domeniul elastic.
I.3.4.2. Mecanismul EMAT pornete de la faptul c ntreruperea la TA (As < TA
< Af) a transformrii martensitice inverse, din timpul nclzirii, mparte cantitatea total
de variante de plci de martensit, care se obin la sfritul rcirii ulterioare, n dou
populaii: 1-populaia primar (reprezentat de martensita care nu a apucat s se
transforme n austenit din cauza ntreruperii) i 2-populaia secundar care s-a obinut
dup rcirea austenitei retransformate. Cele dou populaii difer din punct de vedere al
energiei elastice de deformaie, nmagazinat n austenit.
I.3.4.3. Mecanismul EMFDS se bazeaz pe cumularea rigiditii superioare a
austenitei (necesar pentru redobndirea spontan a formei calde prin nclzire, n cadrul
EMF) cu prezena dislocaiilor orientate din austenit (care favorizeaz redobndirea
formei reci, la scderea temperaturii). EMFDS a fost mediatizat pentru prima dat a
Simpozionul Internaional de Efecte i Aplicaii cu Memoria Formei, desfurat la
Toronto, n 1975 [37]. Baza microstructural a EMFDS a fost reprezentat schematic n
Fig.11, n cazul unui AMF policristalin, cu morfologie tip diamant.
21
22
23
formei reci, sub Mf; (c) reversia martensitei n austenit, n care se pstreaz dislocaiile orientate,
concomitent cu redobndirea formei calde, n urma nclzirii peste Af; (d) germinarea preferenial a
martensitei, la rcire, dup cel de-al doilea ciclu, odat cu redobndirea formei reci, la rcire sub Mf
[39]
Fig.13 Ilustrare schematic a mecanismului EMFCR prin interaciunea dintre precipitatele coerente
de Ti11Ni14 i matricea austenitic de 2 [9]
24
direcie exact opus deformaiei din austenit. n felul acesta, dei nu are o valoare mai
mare de cca. 2 %, EMFCR produce modificarea succesiv a curburii probelor subiri din
AMF Ti-Ni (cu peste 50,5 % at. Ni) atunci cnd sunt ciclate termic ntre domeniul
austenitic i martensitic [9].
25
26
27
28
% [43].
Principalele avantaje ale materialelor ceramice cu memoria formei sunt: (i) vitez
de reacie de ordinul ms; (ii) control uor al formei prin intermediul curentului electric,
fr generare de cldur; (iii) consum energetic redus, de ordinul W i (iv) compactitate
ridicat.
Transformarea de tip martensitic din titanai, indus prin cmp electric, este de tip
araelectric-feroelectric sau feroelectric-antiferoelectric. In continuare vor fi prezentate
doua tipuri de noi polimeri pe baza de siliciu, care au proprietatea de a fi precursori
pentru materiale ceramice si anume, polisilani si ciclocarbosiloxani .
II.1.
II.1. Polisilani ca precursori pentru materiale ceramice
Materialele ceramice sunt utilizate n prezent pe scar larg n majoritatea
domeniilor de activitate, de la protetica medical p=n la tehnica aerospaial. Din acest
motiv, obinerea lor la scar industrial, constituie unul din principalele obiective de
interes n cercetarea tiinific. Dintre materialele ceramice cu proprieti calitativ
superioare se disting cele pe baz de siliciu i n special cele cu structur SiC deoarece
acestea au rezistena termic i mecanic excepionale.
Materialele ceramice cu structur -SiC pot fi obinute direct din SiO2 si grafit la
presiuni si temperaturi foarte nalte. Existena unor inconveniente de ordin tehnic legate
de imposibilitatea turnrii materialului n forme, au condus ctre necesitatea adoptrii
unei alte soluii. Aceasta s-a ivit n momentul n care un grup de cercetare japonez condus
de profesorul Yajima a publicat lucrri legate de posibilitatea obinerii de fibre i fire
ceramice de tip SiC printr-o metod care n prezent i poart numele. n cadrul acestui
proces, materialul ceramic se obine cu ajutorul unor precursori macromoleculari pe baz
de siliciu (polisilani, policarbosilani). Deoarece acetia pot fi astfel proiectai nct s
conduc la un randament n material ceramic ct mai bun, n prezent se fac eforturi
importante pentru optimizarea structural a polisilanilor precursori nc din etapele de
sintez.
Cercetrile prezentate de colectivul de autori au permis obinerea unei serii de
polisilani copolimeri cu grupe Si-H reactive i au demonstrat eficacitatea utilizrii lor ca
precursori pentru materiale ceramice SiC.
29
II.1.1.
II.1.1. Despre structura ii proprietile
propriet ile polisilanilor
polisilanilor
Primii polisilani au fost cei prepara]i de Kipping `n anii 20 [44] prin condensarea
difenildiclorsilanului cu sodiu metalic. Acest material `nalt cristalin a prezentat pu]in
interes [tiin]ific fiind insolubil, infuzibil [i neprelucrabil.
Dup\ aceste prime `ncerc\ri domeniul a r\mas neexplorat 25 ani, p=n\ c=nd
Burkhard a descris prepararea, printr-o metod\ similar\, a celui mai simplu derivat
dialchilic: polidimetilsilanul [45]. ~n acest articol (Me2Si)n a fost caracterizat ca o pulbere
alb\, insolubil\ `n solven]i organici [i care se descompune f\r\ s\ se topeasc\ la
temperaturi de peste 250o C. Descrierea lui Burkhard, de[i foarte corect\, a descurajat,
contribuind la neglijarea acestor polimeri timp de aproape 30 ani.
~ncep=nd cu 1975 Yajima [i colaboratorii au m\rit interesul pentru polimerii silanici
descoperind transformarea polidimetilsilanului la temperaturi ridicate `n fibr\ Si-C av=nd
la baz\ urm\torul proces [46-49] (Schema 1) :
(Me 2 S i)
o
450 C
n
Si
Si
Ar
C H3
C H3
o
1300 C
n
SiC
N2
Schema 1
CH3
CH3 R1
Na
Cl
Si
Cl
Cl
m
Si
Cl
R2
- NaCl
- (Si) - (Si) m
n
H
R2
R1 = CH3, C6H5
R2 = C6H5
Schema 2
31
II.1.2.
II.1.2. Propriet\
Propriet\]ile fizice
II.1.2.1. Structur\
Structur\ [i cristalinitate
Deoarece este vorba de o leg\tur\ `ntre atomi cu electronegativit\]i egale ar trebui
ca ea s\ fie lipsit\ de caracter ionic. Totu[i marea majoritate a reac]iilor leg\turii Si-Si
sunt ionice [i se realizeaz\ prin atac nucleofil la atomul de siliciu.
Energia relativ mic\ a acestei leg\turi, 51 kcal/mol constituie explica]ia stabilit\]ii
termice mici [i a descompunerii u[oare prin compara]ie cu leg\tura C-C (83 kcal/mol).
Diferen]a mare `ntre energia de disociere a leg\turii [i energia de leg\tur\ poate fi
explicat\ dac\ se are `n vedere diferen]a de energie `ntre radicalul liber silil [i grupul silil
`n forma sa legat\.
Lungimea leg\turii Si-Si determinat\ cu ajutorul difrac]iei electronice este `n mare
aceea[i ca [i `n siliciul elementar: 2.32 A.
Investiga]iile realizate prin spectroscopie Raman [i difrac]ie electronic\ indic\
faptul c\ molecula se poate roti liber `n jurul axei Si-Si probabil ca o consecin]\ a
lungimii ei mari. Totu[i cercet\ri ulterioare au ar\tat c\ aceast\ rota]ie este limitat\ [i c\
exist\ o serie de pozi]ii de echilibru. Aceast\ concluzie este sprijinit\ [i de rezultatele
analizei spectrale IR. Astfel, m\rimea barierei de rota]ie depinde de interac]iunile [i de
distan]a interatomic\ dintre substituen]i.
Caracteristicile leg\turii Si-Si sunt legate de propriet\]ile ei electronice [i de starea
fundamental\. Studiul acestora s-a realizat la `nceput cu metode de calcul cuantic din cele
mai simple [i au contribuit la elaborarea principiilor fundamentale de `n]elegere a
remarcabilei structuri electronice delocalizate a polisilanilor. Aceste calcule s-au efectuat
pe modele moleculare ale oligosilanilor cu p=n\ la 40 de atomi de siliciu `n molecul\.
Formarea leg\turii `n polisilani poate fi descris\ pornind de la modele cu lan]uri
relativ mici [i apoi extrapol=nd la mase moleculare mari. Acestea au la baz un set de
orbitale hibride sp3 localizate pe atomii de siliciu orientate c\tre vecinii lor : orbitali 1s ai
hidrogenului sau al]i orbitali corespunz\tori de la al]i substituen]i (de exemplu sp3 de la
un carbon metilic).
Astfel, prin analogie cu polienele s-a demonstrat existen]a unei interac]iuni `ntre 2
orbitali hibrizi sp3 responsabili pentru formarea leg\turii `ntre atomii de siliciu
(vicinali) [i a unei alte interac]iuni dintre orbitalii sp3 geminali conduc=nd la o
32
33
(HexSiPen)n adopt\ ambii structura de tip hclq la temperatura camerei, dar sufer\
transform\ri la -50oC [i -20oC.
II.1.2. 2.
2. Absorb]ia UV [i termocromismul
Ca rezultat al delocaliz\rii electronilor , polisilanii prezint\ absorb]ii puternice de
tip * `n UV apropiat, de la 300 nm la 400 nm. Aceste excit\ri electronice [i emisiile
fluorescente corespunz\toare au fost intensiv investigate at=t experimental c=t [i teoretic.
Polisilanii pot fi considera]i ca fiind forma]i dintr-o serie de segmente cromofore `n
conforma]ie trans. Transferul de energie `ntre segmentele lan]ului polimer este rapid, [i
excitarea sa tinde s\ se concentreze pe lan]urile trans mai lungi.
Maximul de absorb]ie se deplaseaz\ c\tre lungimi de und\ mai mari o dat\ cu
cre[terea lan]ului p=n\ la 40 atomi, peste acest punct max devine aproape constant.
Mul]i polisilani suport\ efecte de temperatur\ la absorb]ie cu max deplas=ndu-se
la lungimi de und\ mai mari o dat\ cu sc\derea temperaturii. Acest termocromism UV se
observ\ at=t la polisilanii solizi c=t [i la polisilanii `n solu]ie. ~n general este de 2 tipuri:
- deplasare batocrom\ gradual\ a benzii de absorb]ie.
- tranzi]ie termocrom\ brusc\ `n care banda dispare fiind `nlocuit\ de o alta la
energie mai joas\.
Absorb]ia UV depinde puternic de natura substituen]ilor de la atomul de siliciu. ~n
solu]ie, di-n-alchil-polisilanii prezint\ o absorb]ie tipic\ la 350 nm. Ramificarea lan]ului
macromolecular conduce la cre[terea lungimii de und\. De ex., max este de 340 nm
pentru (PhSiMe)n `n solu]ie [i aproximativ 400 nm pentru poli(diarilsililene). Maximul de
absorb]ie este destul de sensibil la modific\rile de conforma]ie ale lan]ului. ~n general
tranzi]iile de faz\ vor fi `nso]ite de o tranzi]ie termocrom\ brusc\.
Tranzi]iile `n stare solid\ de la polisilanii cristalini implic\ adoptarea unei
conforma]ii particulare de c\tre lan]ul principal ca urmare a cristaliz\rii lan]urilor laterale.
Tranzi]iile `n solu]ie sunt foarte complexe [i implic\ agregarea intramolecular\ a
lan]urilor polimere chiar [i la dilu]ii mari.
34
II.1.3. Propriet\
Propriet\]ile chimice
II.1.3.1.
II.1.3.1. Fotodegradare. Polisilani fotoini]iatori
Starea de excita]ie * a polisilanilor poate pierde energia prin reiradiere
(fluorescen]\), aceasta constituind cea mai comun\ cale de dezactivare. Reac]iile
fotochimice implic\ procese majore cu iradiere de energie la 254 nm ca de exemplu
ruperea lan]ului cu formare de radical silil (ec. A) [i eliminare de sililene (ec.B). Un
proces mai pu]in semnificativ este ruperea lan]ului cu migrare de substituent (ec.C).
Eliminarea de sililene nu apare la iradierea cu fotoni de energie joas\ (> 300 nm) procesul
major fiind ruperea lan]ului (Schema 3).
R1
R1
Si
Si
R2
R2
R1
R1
R1
Si
Si
Si
R2
R2
R1
R1
h
Si
R2
R1
R1
Si
Si
R2
R2
R2
R1
R1
R1
Si
Si
Si
R2
R2
R2
Si
R1
R2
R1R2Si
.. Si
R2
..
R1
Si
R2
Schema 3
(pp-
bis(triclormetil)benzen [i 2,4,6-tris(triclormetil)triazin\.
Radicalii produ[i prin fotoliz\ pot fi deasemenea utiliza]i pentru a cataliza alte
reac]ii ca de exemplu polimerizarea unor acrila]i sau monomeri etilenici. Radicalii silil
produ[i `n prima faz\ adi]ioneaz\ la leg\tura dubl\ C=C pentru a ini]ia polimerizarea
`nl\n]uit\. {i `n acest caz sensibilitatea redus\ a polisilanilor constituie un factor limitant
care poate fi dep\[it prin modificarea structurii. Marele avantaj al polisilanilor este `n
35
acest caz, mai slaba lor sensibilitate la oxigen comparativ cu al]i fotocatalizatori
radicalici.
II.1.3.2.
II.1.3.2. Procese
Procese de reticulare
Reticularea polisilanilor este important\ la utilizarea acestora pentru materiale
ceramice; dac\ materialul nu este reticulat majoritatea siliciului se va volatiliza `n timpul
procesului de termoliz\ f\r\ a se forma material Si-C. Fenomenul de reticulare este
necesar [i la utilizarea polisilanilor ca fotorezistori. Pentru `mbun\t\]irea reticul\rii
chimice [i fotoinduse a polisilanilor s-au dezvoltat o serie de metode.
II.1.3.2.1.
II.1.3.2.1. Reticularea oxidativ\
oxidativ\: poli(ciclotetrametilensililenele)
Inelele silaciclopentanice sunt tensionate [i suport\ reac]ii de deschidere de ciclu la
leg\tura Si-C cu destul\ u[urin]\. Dup\ cum se arat\ `n ec. de mai jos, polisilanii care
includ acest grup pot fi ob]inu]i utiliz=nd ciclotetrametilendiclorsilan drept comonomer
(Schema 4):
Cl
Si
Cl
Cl
Si
Cl
Na, toluen
( Si )
n
110 C
Na, toluen
+
RMeSiCl2
( Si ) ( Si )
m
n
110 C
Me
R = Me, Ph
Schema 4
36
oxidativ\ are loc chiar la temperatura camerei de[i mult mai `ncet. Spectrele IR ale
polimerilor reticula]i indic\ faptul c\ ei con]in `n principal leg\turi Si-O-Si [i Si-O-C. Se
crede c\ reticularea are loc prin reac]ii de deschidere de ciclu conform ec. (Schema 5) :
O
O2
( Si ) ( Si )
m
n
( Si ) ( Si )
m
n
O
Me
80 C
Me
Grupele aril substituite `n polisilani induc efectul de fotoreticulare. Acest efect este
mai pronun]at pentru grupele olefinice. Astfel poli(ciclohexeniletil)metilsililenele suport\
reticul\ri atunci c=nd filme sub]iri sunt expuse la lumina ultraviolet\, preferabil cu >
300 nm. ~n procesul de fotoreticulare, radicalii silil adi]ioneaz\ la leg\tura dubl\ C=C fie
din acela[i lan] sau din lan]uri vecine, produc=nd radicali carbon. Reac]ia se poate
propaga prin adi]ie la o nou\ leg\tur\ C=C conduc=nd la o nou\ reticulare.
O cale foarte simpl\ pentru reticularea unui polisilan este aceea de a-l amesteca cu
un compus ce con]ine nesatur\ri multiple [i apoi de a ini]ia formarea de radicali liberi
termic sau fotochimic. Agen]i de reticulare deosebit de reactivi
tetravinilsilanul,
1,2-bis(trivinilsilil)etanul,
s-au dovedit a fi
1,6-bis(trivinilsilil)hexanul,
metilvinil-
ciclotetrasiloxanul, 1,4-ciclooctadiena, 1,9-decadiena [i trialil benzen-1,3,5-tricarboxilatul. ~n aceste condi]ii reticuleaz\ at=t alchil c=t [i aril polisilanii.
Reticularea fotochimic\ are loc probabil prin scindarea ini]ial\ a lan]ului polisilanic
cu formare de radicali care adi]ioneaz\ la leg\tura C=C a agen]ilor de reticulare. Adi]ia
produce reticul\ri [i genereaz\ noi radicali carbon care pot provoca ulterior alte reac]ii de
reticulare (Schema 6):
Si .
.
+
Si
Schema 6
organice ale polisilanului. De exemplu pierderea de hidrogen din grupele metil ale
polisilanului va conduce la formarea de reticul\ri (Schema 7):
R.
RH
Si
Si
CH2
CH3
Si
CH2
.
R
Schema 7
II.1.4.
II.1.4. Propriet\
Propriet\]i optice neliniare
Marea mobilitate a electronilor delocaliza]i confer\ polisilanilor mari
polarizabilit\]i care conduc `n final la propriet\]i optice neliniare. Acest lucru face ca
polisilanii s\ poat\ fi folosi]i pentru fabricarea ghidajelor de und\ [i a altor diverse
materiale optice utilizate `n stocarea de date [i transmisie.
Un alt fenomen neliniar observabil la polisilani `l constituie absorb]ia de 2 fotoni.
~n general acest tip de excita]ie decurge printr-o cale similar\ cu cea a absorb]iei unui
singur foton, adic\ prin fluorescen]\ [i scindare de lan]. Totu[i absorb]ia de 2 fotoni `n
filme groase de (Hex2Si)n produce birefringen]\ permanent\ `n polimer. Aceast\
proprietate singular\ a polisilanilor `i recomand\ pentru utilizarea `n fabricarea unor
dispozitive de `nalt\ tehnologie cum ar fi circuitele integrate optice.
II.1.4.1.
II.1.4.1. Conductivitate electric\
electric\ [i fotoconductibilitate
Polisilanii sunt izolatori, dar dup\ o prealabil\ oxidare cu AsF5, SbF5 sau H2SO4 ei
devin semiconductori. Transferul de electroni are loc probabil de la polimer la oxidant
form=nd un cation radical, un gol, r\spunz\tor pentru conductivitate. Cationii radicalici
ai polisilanilor ciclici au putut fi identifica]i prin spectroscopie RES.
Polisilanii au propriet\]i foarte bune ca materiale de transfer de sarcin\. Aceast\
proprietate poate fi folosit\ la aparatele de fotocopiat. Viteza de migrare a sarcinilor
38
electrice nu depinde de natura substituen]ilor indic=nd astfel faptul c\ ea are loc de-a
lungul lan]ului polisilanic.
~n tabelul de mai jos se compar\ eficien]a de migrare a sarcinilor polisilanilor cu a
substan]elor utilizate `n mod curent la fotocopiatoare (r\[ini policarbonat dopate cu
triarilamine). Poli(fenilmetilsililena) este superioar\ acestui material standard iar
polisilanii ce con]in triarilamine sunt chiar mai buni.
Tabel 3. Mobilitatea sarcinii [i energia de activare pentru transportul de sarcin\
sarcin\ la polimerii
electrofotografici
Polimer
Polivinilcarbazol
Mobilitatea golului
(cm2V-1s-1)
10-8
Energia de activare
( eV )
0.6
10-4
0.3 - 0.7
Poli(fenilmetilsilan)
> 10-4
0.28
-3
10
39
grupe CH2 se realizeaz\ chiar pe lan]ul principal Si-Si l\s=nd la siliciu atomi de hidrogen
(Schema 8):
(Me2Si)
o
450 C
n
Ar
( Si
(Me2Si)6
o
400 C
CH2 )
Me
Schema 8
41
CH3
R1
Si
Si
CH3
R2
300-500 oC
b
PCS
P(atm), Ar
500-800 oC
SiC
1300 oC
-SiC
R2
Si
Si
R1
CH3
500-800 oC
b
Ar
SiC
Si
Si
Si
Si
Si
H3C
Si
Si
Si
Si
Si
Schema 11. Structura polimerului preceramic
42
datelor
de
[61],
literatur
polisilanii
prezint
la
analiza
Fig. 15. ATG olimetilfenilsilan (argon, 40-900 oC, 10 oC/ min.) [60]
43
Si ; C
Schema 12. Modelul
Modelul optimizat al moleculei de polimetilfenilsilan
Pentru prima iteraie punctul de start este dat de configuraia moleculei furnizat de
utilizator (x1).
Modelul molecular astfel determinat a fost utilizat n etapa urmtoare n care s-au
simulat condiiile de expunere termic la 500 0C. S-a remarcat c o dat cu creterea
uniform a energiei poteniale a sistemului, macromolecula tinde s adopte o conformaie
specific, ciclic, pe o lungime de 5-8 atomi de siliciu (Schema 13).
Si ; C
Schema 13. Conformaia
Conforma ia specific
specific
pecific a macromoleculei la stres termic
44
Se cunoate c legtura Si-Si ( 51 kcal/ mol) este mai labil termic dec=t legtura SiC (78 kcal/ mol) [143]. Din conformaia determinat rezult c ntr-o prim faz au loc
preponderent reacii de scindare a lanului polisilanic cu formare de oligomeri ciclici, cu
5 atomi de siliciu, mai stabili din punct de vedere termodinamic [62]. Aceste procese se
desfoar cu participarea orbitalelor d ale atomilor de siliciu (Schema 14):
R1
R1
Si
R2
Si
R2
R1
R2
R1 R2 R2
Si
Si
Si R1
Si
to
R2
Si
R2
Si
R1
R2
R2
R1
R1 R2
R1
R2
Si
R1
Si
R1
Si
R1
R2
Si
R2
R2
Si
Si R1
R1
R2
PMFS
n-5
R1
= C6 H5
= CH3
Si
C
45
46
II.1.5.2.1
II.1.5. .1.
.1. Polisilanii ca precursori
ntr-o prim etap s-a procedat la sinteza unor precursori clasici, polisilani
solubili, divers substituii.
II.1.5.2.1.1. Sinteza n sistem heterogen
Pentru obinerea unei serii de polisilani, precursori pentru materiale ceramice SiC,
s-a utilizat procedeul clasic al cuplrii reductive n sistem heterogen cunoscut sub
denumirea de cuplare reductiv Wurtz [62].
n
acest
scop
s-a
procedat
la
sinteza
unui
polisilan
homopolimer,
C6H5-;
R 2=
C6H5-,
formeaz
poli(dimetil-co-difenil)silan
(PDMDFS)
R 1=
CH3,;
(PDMMTS).
R 1=
CH3;
R 2=
C6H5-,
formeaz
poli(dimetil-co-metilfenil)silan
(PDMMFS)
Structura chimic a produilor sintetizai s-a determinat prin analiz spectral IR, 1HRMN , 13C-RMN i UV. Produii prezentai sunt solubili n solveni uzuali.
II.1.5.2.1.2. Transformarea precursorului n material SiC
Polisilanii sintetizai au fost supui unor procese de transformare termic n gaz
inert, ntr-o singur etap controlat de difuzie, conform metodei descrise. n acest scop
s-a efectuat un set de experimente n care s-a variat timpul de expunere termic a probei
i valoarea temperaturii de meninere. Rezultatele obinute sunt prezentate n tabelul 4:
47
Polisilan/ r*
Temp oC
15
30
PMFS/ 1.00
500 75.4
25.3
22.3
600 60.2
21.0
20.8
800 55.5
20.5
20.5
500 66.5
19.3
17.5
600 62.4
16.0
15.8
800 58.8
15.5
14.6
500 72.6
21.5
20.3
600 65.5
20.0
19.6
800 63.2
19.3
19.0
500 58.2
20.5
18.6
600 55.3
18.4
16.5
800 50.4
15.8
15.0
PDMDFS/ 0.22
PDMMTS/ 0.35
PDMMFS/ 0.15
Dup cum se poate remarca din tabel, cantitatea de material rezultat pe parcursul
prelucrrii termice variaz, tinz=nd ctre valori limit caracteristice fiecrui polisilan
studiat. Iniial n sistem se formeaz un amestec de polimer preceramic i material SiC.
Pe msur ce procesul avanseaz cantitatea de polimer preceramic se micoreaz n
favoarea formrii de material SiC.
Materialul SiC obinut prin aceast metod, se prezint sub forma unei pulberi de
culoare cenuie i este format dintr-un amestec de material ceramic SiC cristalin i amorf,
carbon liber i mici cantiti de SiO2 rezultat ca urmare a prezenei n prob a unor
cantiti de oxigen rezidual.
n spectrul IR se poate observa prezena legturilor Si-C printr-o band de
absorbie larg la 820-870 cm-1. Se mai remarc banda de absobie de la 1000 cm-1 care s-
48
Fig. 16. PMFS: Analiza IR a materialului SiC (Ar, 800 oC, 30 min.)
25
SiC(%)
20
15
10
5
0
0
0.5
1.5
r (Ph/Me)
49
CH 3
H3C
Si
CH 3
H3C
Si
Si
Si
.
.
+
polisilan
Si
.
Si
CH 3
CH 2
CH 3
H3C
Si
Si
.
Si
Si
CH 3
CH 3
Si
Si
C6H5 C6H5
H2C
Si
Si
CH 2
C6H5
CH 3
Schema 16
50
H3C
CH 3
51
Polisilan
Oligomeri
SiC
SiC*
(%)
(%)
(%)
(1) PMFS
33.6
36
15.5
(2) PDMDFS
25.5
26
11.4
(3) PDMMTS
9.4
24
5.0
(4) PDMMFS
40.5
36
21.0
SiC (%)
20
1
15
2
10
3
5
0
0
10
20
30
40
50
Oligomeri (%)
52
53
54
metilfenildiclorsilanului
metilfenildiclorsilanului n sistem
omogen
Complex
Temp.
Randament
metalic
+
Mw (GPC)
Mw/Mn
(%)
-
K / 18C6, Na
-75
-75
60
6400
1.36
II
17
1500
1.40
III
23
650
1.36
68
8500
1.40
II
12
1900
1.50
III
18
630
1.30
(I) fracia insolubil n alcool isopropilic; (II) fracia insolubil n amestec alcool isopropilic/
ap (raport volumic 9 : 1); (III) fracia solubila n amestecul alcool isopropilic/ ap.
Fig. 20. Analiza GPC fracia
frac ia I, polimetilfenilsilan
55
II.1.5.
II.1.5.2.2
1.5. .2.
.2. Polihidrosilani precursori pentru materiale ceramice
S-a constatat anterior c exist posibilitatea de a obine polisilani precursori
pentru materiale ceramice cu un coninut relativ mic n oligomeri precum i cu o
distribuie ngust a maselor moleculare.
n etapa urmtoare s-au efectuat studii privind obinerea unor polisilani cu un
coninut ridicat n grupe termolabile cercetrile fiind orientate ctre sinteza de
polihidrosilani. Acetia sunt precursori ceramici ce conin n lanul principal grupe Si-H.
II.1.5.2.2.1
II.1.5. .2.1.
.2.1. Cuplare reductiv
reductiv Wurtz n sistem heterogen
56
R1
CH3
CH3 R1
Na
Cl
Si
Cl
Cl
m
Si
R2
Cl
- NaCl
- (Si) - (Si) m
n
H
R2
R1 = CH3, C6H5
R2 = C6H5
Schema 17. Reacia
Reac ia de sintez
sintez a polihidrosilanilor copolimeri
copolimeri
Dup cum se poate observa, procedeul de sintez este similar cu cel clasic.
Deosebirea const n faptul c la obinerea polihidrosilanilor s-a avut n vedere
meninerea n sistem a unei concentraii sczute n Na metalic pe parcursul desfurrii
procesului iar n faza final de neutralizare, s-a utilizat un raport alcool/ ap determinat i
nedestructiv pentru grupele Si-H. Produii obinui au fost analizai spectral pentru
confirmarea structurilor propuse.
Experimental s-a observat c exist o legtur ntre coninutul n grupe fenil
substituente la atomii de siliciu din polimer i cantitatea de oligomeri din produsul final.
Aceasta scade o dat cu creterea numrului de grupe fenil prezente pe lanul
macromolecular fie ca urmare a utilizrii unui exces de metildiclorsilan sau ca urmare a
introducerii n reacie a unor monomeri silanici bogati n substitueni fenil.
Se pare c acest fenomen este legat de procesul de formare a ciclurilor
polisilanice prin reacii de back-biting, proces ce poate fi fr=nat pe de-o parte de efectul
steric exercitat de grupe voluminoase sau poate fi activat de formarea unor legturi de tip
(p--->d) la centrii de propagare cu micorarea stabilitii acestora [82, 83]. n acest din
urm caz un rol important l joac cantitatea de electroni liberi prezeni n mediul de
reacie .
Corel=nd aceast observaie cu rezultatele obinute de Coriu i colaboratorii la
sinteza polisilanilor n prezena de hidruri metalice [84], s-a propus un mecanism prin
care se evideniaz faptul c n prezena grupelor Si-H, electronii liberi din sistem conduc
la o serie de reacii secundare care pot justifica coninutul mare de oligomeri n mediul de
reacie [85] (Schema 18) :
57
C6H5
CH3
Si
Si
C6H5
e- (exces)
Si
CH3
(-)
Si
C6H5
C6H5
Na+
C 6H 5
CH3
Si
..
Si
+ Na+H -
C 6H 5
monomeri
oligomeri ramificati
C 6H 5
CH3
Si
Si
Si H + Na Si
C 6H 5
C6H5
Na+H -
C6H5
CH3
oligomeri ciclici
58
S-au obinut polisilani cu grupe Si-H reactive, similari celor din procedeul
heterogen dar cu distribuie monomodal a maselor moleculare medii i cu un coninut n
oligomeri semnificativ mai mic.
Prin procesul de cuplare n sistem omogen s-a obinut polihidrometildifenilsilan
(PMHDFS) cu o distribuie ngust a masei moleculare n jurul valorii de 4400 (Mw/ Mn =
1.20). Mecanismul de reacie prezint o serie de trasturi specifice [85].
La nceputul reaciei oligomerii ciclici pot apare mai ales ca urmare a competiiei
ntre procesele de end-biting i cele de formare a dianionului silil. ntr-o faz ulterioar,
c=nd concentraia anionului metalic n sistem devine sensibil mai mic n locul acestei
competiii se dezvolt cu precdere reaciile ntre anionii silil i silil-cloruri care conduc
la formare de lanuri polimere. n aceast etap oligomerii ciclici se pot forma ca urmare
a unor procese de back-biting.
Prezena grupei funcionale Si-H n produsul final a fost pus n eviden prin
analize spectrale IR, 1H-RMN, 13C-RMN i UV. Datele obinute au confirmat structurile
presupuse.
Utiliz=nd cuplarea reductiv n sistem omogen s-a reuit sinteza unui precursor cu
urmtoarele caracteristici:
-
termic n gaz inert, la temperaturi cuprinse n intervalul 200-800 oC. Produsul obinut a
fost analizat spectral IR i s-a determinat influena structurii chimice a precursorului
asupra randamentului n material ceramic.
II.1.5.2.2.3.1.
II.1.5.2.2.3.1. Prelucrare prin proces termooxidativ
Reaciile de termooxidare sunt puternic influenate de viteza de difuzie a oxigenului
n material care este dependent de viteza de nclzire a probei.
nclzirea n aer p=na la 400 oC cu viteze de nclzire mai mici de 5grd./min.
produce o transformare total a grupelor Si-H cu formare de legturi Si-C (Fig.
Fig. 21).
21
59
60
120
Rez. (%)
100
80
PMHMFS
60
PMHDFS
40
20
0
0
300
600
900
Temp. ( oC)
II.1.5.2.2.3.2
II.1.5.2.2.3.2. Prelucrare izoterm
izoterm n atmosfer
atmosfer inert
inert
Polihidrosilanii sintetizai au fost expui izoterm n atmosfer de gaz inert, argon,
la diverse temperaturi cuprinse n intervalul 250-700 oC, timp de 30 min (Fig.
Fig. 23).
23
Material (%)
100
80
91.4
78.7
60
PMHMFS
PMHDFS
48.5
40
32.6
20
23.5
19.6
0
250
500
700
Materialul obinut n urma acestui tratament a fost analizat ATG, n aer n scopul
determinrii cantitii de C liber [67].
Rezultatele au fost nregistrate n tabelul 7:
61
Nr.
Substituent
log
ra
Reziduu
C/Sic
(%)
C liberb
SiC
(%)
(%)
R1
R2
Mw
CH3
C6H5
3.90
30.5
5.5
79.5
20.5
CH3
C6H5
3.85
28.4
4.3
76.5
23.5
C6H5
C6H5
3.81
33.2
8.2
81.8
18.2
C6H5
C6H5
3.65
33.0
7.0
80.4
19.6
a) r raport Me(H)SiCl2 / R1R2SiCl2 utilizat n reacie ; b) C determinat prin analiza ATG a materialului
la 900 oC ; c) obinut prin analiz elemental
n acest caz, dei cantitatea de material obinut din prelucrare este mai mic
dec=t la termooxidare, crete considerabil coninutul n material ceramic SiC.
Prezena de material ceramic SiC este dovedit de banda de absorbie n IR de la
840 cm-1 (Fig. 23).
62
83
3
C liber (%)
82
81
80
79
78
77
76
0
10
C/Si
Dup cum se poate observa din Fig. 26, coninutul n grupe Si-H influeneaz
cantitatea de material rezultat prin prelucrare termic.
23.5
r=2
r=1
19.6
20.5
10
18.2
20
30
40
50
SiC(%)
MePh
Ph2
63
H3 C
Si
H3 C
Si
Si
CH
.
+ H
.
Si
CH 3
polihidrosilan
H3 C
CH CH
3
Si
Si
CH3
Si
Si Si
+ H2
H3C
Si
CH 3
+ H2
CH2 Si
H3 C
Si
Schema 19
CH 3
Si
CH 3
H3C
Si
Si
Si
.
.
+
polihidrosilan
R
Si
.
Si
CH 3
CH 2
CH 3
H3 C
Si
Si
.
R
+
Si
.
CH 2
Si
CH 3
CH 3
Si
Si
CH 3
R = H, C 6 H 5
64
C6 H5
H2C
Si
Si
CH 3
H3 C
H3 C
polihidrosilan
Si
Si
Si
Si
H C
Si
Si
CH 3
CH 3
CH 3
Si
Si
H3C
C6H5
H2C
Si
Si
CH 3
Si
CH 3
Si Si
CH 3
Si CH
3
CH 3
CH 3
Si
Si
R
CH
Si
H3C
Si
CH 3
R = H, C 6 H 5
Schema 20
65
H2
CH 3
+ CH 4
CH
Si
CH 3
Si
C H
6
H C
2
Si
Si
CH 3
Si
H C
CH
Si Si
H
CH 3
Si CH
3
CH 3
CH 3
Si
Si
R
CH
Si
Si
CH
CH 4
R = H, C 6 H 5
Analiza IR (Fig.
Fig. 27
27) a produilor obinui la 250 oC confirm cele prezentate. Astfel,
se remarc o diminuare a benzii de absorbie caracteristice legturii Si-H de la 2150 cm-1
i apariia celor corespunztoare legturii Si-CH2-Si (1080 cm-1) din carbosilan. n aceast
zon apar i benzile de absorbie corespunztoare legturii Si-O-Si (1000-1130 cm-1).
Cantitatea de material SiC ram=ne aproximativ constant n raport cu valoarea masei
moleculare. Valori mari ale masei moleculare sunt de dorit n cazul n care se
intenioneaz obinerea de fibre ceramice (Fig.
Fig. 28).
28
66
25
SiC (%)
20
15
MePh
10
Ph2
5
0
8000
7200
6500
Mw
4500
67
Cap.III.
Cap.III. Ciclocarbosiloxani ca precursori pentru materiale ceramice
III.1.
III.1. Definirea clasei de compu[i
Ciclocarbosiloxanii sunt compu[i a c\ror structur\ ciclic\ este format\ dintr-o
component\ anorganic\ siloxanic\ [i una organic\:
Ace[ti compu[i pot fi utiliza]i la ob]inerea de copolisiloxani. Realizarea unor
asemenea structuri combin\ propriet\]ile celor dou\ segmente conduc=nd la o gam\ larg\ de
produ[i: materiale cu permeabilitate mare la oxigen , biocompatibile, cu propriet\]i diverse
de suprafa]\ precum [i cu rezisten]\ mecanic\ `mbun\t\]it\ [87].
~n literatur\ [ 1,2,3 ] se men]ioneaz\ diverse procedee de sintez\ de policarbosiloxani:
- reac]ii cu deschidere de ciclu (segmentul hard poate proveni de la un compus
ciclic organic iar segmentul siloxanic de la oligomerul liniar corespunz\tor).
- reac]ii de policondensare sau poliadi]ie (utilizeaz\ compu[i cu func]iuni reactive
specifice procesului).
Datorit\ structurii lor particulare ciclocarbosiloxanii pot fi utiliza]i `n ambele c\i de
sintez\ prezent=nd avantajul unui control riguros asupra structurii finale a copolimerului (
strict alternant\) precum [i al posibilit\]ii de reglare a
n
Schema 21
68
R1
Si
R1
R
n
Schema 22
Si
Si
Si
Si
Schema 23
Introducerea grupelor alchilice sau arilice `n lan]ul siloxanic `n mod strict alternant
reprezint\ o combinare optim\ a propriet\]ilor celor dou\ segmente. Grupele arilice
contribuie `n mod spectaculos la cre[terea cristalinit\]ii polimerului, la cre[terea
propriet\]ilor mecanice o dat\ cu `mbun\t\]irea stabilit\]ii termice [i conduc la
temperatur\ de tranzi]ie sticloas\ mic\ [90].
Datorit\ acestor propriet\]i ei se utilizeaz\ cu prec\dere `n industria aerospa]ial\ sub
form\ de elastomeri la protec]ia camerelor de combustie sau sub form\ de adezivi [i
chituri protectoare cu rezisten]\ termic\ `nalt\.
69
Si
Si
O
O O
O
Si
Si
Si
Si
O
O
O
Si
Si
Schema 24
Pentru ace[tia literatura [91] citeaz\ metode de sintez\ care folosesc drept parteneri
`n reac]ii, oligomeri silsesquioxanici [i compu[i organici. Dezavantajul acestor metode `l
constituie dimensiunea mic\ a componentei anorganice - siloxanice comparativ cu cea
organic\ fapt care conduce de multe ori, `n cazurile `n care se dore[te o cre[tere a
concentra]iei componentei anorganice, la o separare a fazelor chiar `n timpul desfa[ur\rii
sintezei. Deasemenea, posibilit\]ile de variere a structurii componentei silsesquioxanice
sunt limitate de c\ile de ob]inere a acestora de obicei hidrolitice.
Utilizarea
ciclocarbosiloxanilor
`n
construirea
unor
asemenea
arhitecturi
70
III.2.
III.2. Importan]a i aplicaii
Principalele aplicaii ale ciclurilor carbosiloxanice sunt legate de obinerea de
copolimeri siloxanici cu secvene strict alternante. Exist o gam larg de posibiliti
privind combinarea segmentelor organic i siloxanic, motiv pentru care proprietile
fizico-chimice ale polimerului rezultat pot fi proiectate din faza de sintez n conformitate
cu cerinele finale impuse de utilizare.
n cele ce urmeaz se prezint cteva din aplicaiile compuilor carbosiloxanici
ciclici n realizarea unor structuri siloxanice cu diverse arhitecturi.
S-au folosit ciclocarbosiloxani sintetizai n laborator dup cum urmeaz:
Clasificarea pe serii (Fig. 29):
Seria DFE
Ph
R1
Me
Si
O
Ph
Ph
Me
Si
R1
Ph
R1
Si
Me
R1
O
Me
Me
Ph
Ph
Ph
Si
Seria DHNF
Seria DFMO
Seria TFB
Ph
R1
R1
O
Si
Me
Si
O
Me
Si
Si
Si
Si
R1
Me
Me
Me
R1
71
R1
R1
R1
CH3
H
-CH=CH2
C6H5
p-CH3-C6H4
TFB
CH3
H
-CH=CH2
C6H5
p-CH3-C6H4
DFMO
CH3
H
-CH=CH2
C6H5
p-CH3-C6H4
DHNF
CH3
H
C6H5
Denumire chimica
2,2,5,5-tetrametil-3,4-difenil-1-oxa-2,5disilaciclopentan
2,5-dimetil-2,5-dihidro-3,4-difenil-1-oxa-2,5disilaciclopentan
2,5-dimetil-2,5-divinil-3,4-difenil-1-oxa-2,5disilaciclopentan
2,5-dimetil-2,3,4,5-tetrafenil-1-oxa-2,5disilaciclopentan
2,5-dimetil-2,5-di(p-tolil)-3,4-difenil-1-oxa-2,5disilaciclopentan
2,2,7,7-tetrametil-3,3,6,6-tetrafenil-1-oxa-2,7disilacicloheptan
2,7-dimetil-2,7-dihidro-3,3,6,6-tetrafenil-1-oxa-2,7disilacicloheptan
2,7-dimetil-2,7-divinil-3,3,6,6-tetrafenil-1-oxa-2,7disilacicloheptan
2,7-dimetil-2,7,3,3,6,6-hexafenil-1-oxa-2,7disilacicloheptan
2,7-dimetil-2,7-di(p-tolil)-3,3,6,6-tetrafenil-1-oxa-2,7disilacicloheptan
2,2,5,5-tetrametil-3,3-difenil-1,4-dioxa-2,5disilaciclopentan
2,5-dimetil-2,5-dihidro-3,3-difenil-1,4-dioxa-2,5disilaciclopentan
2,5-dimetil-2,5-divinil-3,3-difenil-1,4-dioxa-2,5disilaciclopentan
2,5-dimetil-2,3,3,5-tetrafenil-1,4-dioxa-2,5disilaciclopentan
2,5-dimetil-2,5-di(p-tolil)-3,3-difenil-1,4-dioxa-2,5disilaciclopentan
Bis-[1,4-bis-(dimetilsiloxanil)-dihidronaftalen]
Bis-[1,4-bis-(metilhidrosiloxanil)-dihidronaftalen]
Bis-[1,4-bis-(metilfenilsiloxanil)-dihidronaftalen]
Cod
DMCDFE
MHCDFE
MVCDFE
MFCDFE
MTCDFE
DMCTFB
MHCTFB
MVCTFB
MFCTFB
MTCTFB
DMCDFMO
MHCDFMO
MVCDFMO
MFCDFMO
MTCDFMO
DMCDHNF
MHCDHNF
MFCDHNF
III.3.
III.3. Polimerizare cu deschiderea ciclului carbosiloxanic
Deoarece structurile ciclocarbosiloxanilor sintetiza]i cuprind leg\turi polare de tipul
Si-O-Si, stabilitatea compusului depinde `n final de capacitatea agentului nucleofil sau
electrofil de a ataca aceste leg\turi.
~n seria DFMO, al\turi de leg\turile siloxanice sunt [i leg\turi Si-O-C motiv pentru
care este important s\ se [tie care dintre acestea este atacat\ mai `nt=i. Atomul de Si, prin
efectul s\u +I, sugereaz\ pentru atomul de oxigen (centrul atacului agentului electrofil),
urm\toarea serie de bazicitate: C-O-C< Si-O-C< Si-O-Si, confirmat\ de altfel [i prin
72
calculul cuantic al distribu]iei sarcinii nete pe atomi [92]. Aceste calcule rezolv\ ecua]ia
lui Schrdinger utiliz=nd o serie de aproxima]ii (calculele se fac numai pentru electronii
de valen]\, integralele pentru o serie de interac]iuni sunt neglijate, setul func]iilor de baz\
ale orbitalelor electronice nu este optimizat, se folosesc parametrii deriva]i din
experimente) [i descriu propriet\]ile electronice ale moleculelor (Schema 25).
CH3
-0.53
R1
0.59
CH3
Si
C
0.07
0.78
Si
R1
-0.4
Schema 25.
25. Distribu]ia sarcinii atomice nete pentru compu[ii din seria DFMO
73
III.3.1
III.3.1.
3.1. Polimerizarea anionic\
anionic\ a ciclocarbosiloxanilor
Se pot ob]ine compu[i policarbosiloxanici liniari prin deschiderea ciclului
policarbosiloxanic `n prezen]\ de catalizator bazic.
Acest proces are o serie de caracteristici:
+ K
Si O
Si OK
Schema 26
R1
SiO K
Ph Ph
Si
R1
SiO
Si
Me R1
R1
SiO
Ph
R1
Ph
Si - Ph
Me
R1
Me
Si O
Ph
Ph
O-
Si
Ph
Ph
Ph
Me
R1
Ph
Ph
Si
O-
Si
Ph
Ph
Ph
Ph
Ph
Si
Si
Me
Si O
Si
Me R
1
Ph
Me
R1
Me
Ph
Si - Ph
Me
+
+
Me
Ph
Ph
Si
Si O
O- K
Si
Ph
Ph
R1
R1
Me
R1
Schema 27
75
- +
O M
+ M O
- +
O M
+ M O
A
~n cazul ciclului carbosiloxanic, acest lucru are loc `n prima faz\ de desf\[urare a
reac]iei de polimerizare c=nd lan]ul oligomer are dimensiuni reduse. Pe m\sur\ ce
dimensiunea sa cre[te, deoarece segmentul parafinic induce o anumit\ rigiditate a catenei
reduc=nd flexibilitatea, devine mai pu]in probabil\ apropierea capetelor reactive,
agregarea se produce preponderent intermolecular (B
B), viteza procesului mic[or=ndu-se.
Agregatele pot fi de tip ideal ( c=nd se realizeaz\ `ntre centrele de propagare ) sau
de tip mixt ( c=nd agregarea se realizeaz\ `ntre ini]iator [i centru de propagare ) [100].
Modul de desf\[urare a reac]iei de polimerizare anionic\ a ciclocarbosiloxanilor
sugereaz\ pentru prima faz\, c=nd polimerizarea se desf\[oar\ cu viteze mari, implicarea
`n proces cu pondere mai mare a agregatelor ideale, iar pentru cea de-a doua faz\
implicarea cu pondere mai mare a agregatelor mixte mai rezistente. Aceasta poate fi [i o
explica]ie a masei moleculare reduse a produsului final.
Cele prezentate se aplic\ identic pentru toate seriile cu excep]ia seriei DFMO. ~n
acest caz agentul nucleofil (anionul siloxanolat) poate ataca, `n principiu oricare din cei
doi atomi de siliciu electropozitivi. Conform celor prezentate `ns\ cel pu]in `ntr-o prim\
etap\ ini]ierea reac]iei de polimerizare se face prin desfacerea heterolitic\ a leg\turii SiO-C, [i apoi a leg\turii Si-O-Si (Schema 28) :
76
R1
R1
Ph Ph
O
R1
Si
R1
Si
Si O
Si
Ph
C
Si
Me
Me
Me
Ph
Me
SiO
Schema 28
Ph
R1
Si
Ph
Me
R1
Ph
O
R1
Si
Me
R1
Si
O
- OSO H
3
HO3SO
Si
OH
Me
Me
HO3SO
Ph
R1
Si
Ph
Me
+
R1
Ph
Si
Me
Ph
OSO3H
Schema 29
Aceasta presupune c\, utiliz=nd cataliza acid\, ciclocarbosiloxanii din aceast\ serie
nu ar putea forma compu[i liniari carbosiloxanici mai mari datorit\ apari]iei grupelor C-
77
Ph
+ H OSO3H
Me
Me
+
Si
R
OSO3H
Me
Me
Si
O
Ph
Ph
Si + Si
O
H
R
Y
Schema 30
78
OSO3H
Me
Me
R
Me
Ph
Ph
Si + Si
O
Me
Si
HO
OSO3H
Ph
Si
OSO3H
Ph
H
Schema 31
Cre[terea lan]ului se face prin atacul speciei reactive asupra oxigenului unei noi
molecule ciclice (propagare) (Schema 32):
Me
Ph
Si
HO
Me
Si
Me
Me
Si
Ph
Si
R
R
Me
Me
O
Si
HO
O
R
Ph
Ph
Me
Si
Si
Ph
Ph
Ph
Me
Si
Ph
propagare
Me
R
Ph
Si
+
Si
Si
R
Me
Me
Si
HO
Ph
Me
Ph
Ph
Ph
Me
Ph
Si
Si
Si
Si
Me
R
R
Me
Me
Ph
Ph
depropagare
Schema 32
79
Me
HO
Ph
Ph
Si
R
Me
Ph
Si
Me
Ph
Ph
Ph
Si
R
Si
R
Ph
Ph
Me
Schema 33
Literatura
[102]
men]ioneaz\
posibilitatea
form\rii
de
cicluri
Si
Si
Si
Si
Si
Si
O
Si
Si
Schema 34.
34. Ciclu carbosiloxanic din seria DHNF cu 4 unit\
unit\]i siloxanice `n molecul\
molecul\.
III.
III.3.3.
3.3. Calculul
Calculul cuantic al c\
c\ldurilor semiempirice de formare a ciclului
carbosiloxanic
Comportarea ciclurilor carbosiloxanice la polimerizarea cationic\ este confirmat\ [i
de rezultatele ob]inute din calculul c\ldurilor de reac]ie semiempirice la 298.15o K (Hro).
Pentru aceasta se scrie reac]ia de formare a ciclului (siloxanic sau carbosiloxanic)
80
Si
OH
OH
Si
Si
(1)
(2)
H2O
(3)
Schema 35
Seria
PDMS1
PDMS2
DFE
TFB
DHNF1
DHNF2
Hof ( 1 )
kcal / mol
-150.90
422.30
386.80
-179.10
275.00
111.0
166.3
Hof ( 2 )
kcal / mol
-95.90
479.00
449.60
-51.40
439.70
439.70
Hro
kcal / mol
-0.50
1.20
7.30
72.20
15.00
106.70
HO
CH3
Ph
Si
R1
Ph
CH3
O
Si
R1
n
Poli( organometilsilil-difenilcarboxi-siloxan)
82
Seria TFB
CH3 Ph
HO
(CH2)2
Si
R1
Ph
Ph
CH3
Si
Ph
R1
n
Poli( organometilsilil-tetrafenilbutilen-siloxan)
Seria DFE
CH3
HO
CH3
HC
Si
R1
Ph
CH
Si
Ph
R1
n
Poli( organometilsilil-difeniletilen-siloxan)
Seria DHNF
CH3
CH3
Si
Si
R1
R1
OH
n
Poli( organometilsilil-dihidronaftalen-siloxan)
83
III.4
prin hidrosililarea ciclocarbosiloxanilor
III.4. Copolimeri siloxanici obinui
ob
O aplicaie important a ciclocarbosiloxanilor vizeaz obinerea unor arhitecturi
polimerice neconvenionale ca nu pot fi realizate prin metode curente.
n acest scop se folosesc ciclocarbosiloxani cu grupe func]ionale Si-H, Si-CH=CH2
[i oligomeri siloxanici liniari cu grupe func]ionale similare, terminale sau pe lan], prin
intermediul reac]iei de hidrosililare, `n prezen]\ de catalizator acid hexacloroplatinic.
Reac]ia de hidrosililare presupune adi]ia unei grup\ri Si-H la leg\tura dubl\ `n prezen]a
unui catalizator specific. Unul din catalizatorii cei mai des folosi]i este acidul
hexacloroplatinic.
S-a ar\tat ca exist\ posibilitatea ob]inerii de cicluri carbosiloxanice care s\ con]in\,
substituen]i la atomul de siliciu, grupe Si-H sau grupe Si-CH=CH2. Aceste func]iuni pot
fi utilizate pentru prepararea unor copolimeri cu structuri cicloliniare sau policiclice. ~n
cazul `n care partenerii `n reac]ia de hidrosililare sunt ciclocarbosiloxani cu grupe Si-H [i
Si-CH=CH2 complementare, se ob]in structuri policiclice (Schema 40), iar dac\ partenerii
sunt ciclocarbosiloxani cu func]iuni Si-H sau Si-CH=CH2 pe de-o parte [i un compus cu
grup\ri func]ionale corespondente cu structur\ liniar\ pe de alta, se ob]in structuri
cicloliniare (Schema 41). Un grup aparte `l constituie re]elele tridimensionale. Acestea
apar atunci c=nd partenerul liniar con]ine func]iuni pendante (Schema 42) .
O
Si
Si
R
n R
O
CH2=CH
Si
+
n R
Si
CH=CH2
HCPA
Si
O
Si
Si
O
Si
( II )
(I)
2n
(31)
Schema 40
Cei doi ciclocarbosiloxani pot fi din aceea[i serie sau din serii diferite (Schema 41).
H
Si
n R
Si
Si
R
R1
HCPA
Si
R
Si
R2 R1 R2
R
O
R1 R2 R2
Si
Si
R1
Si
O
2n
(32)
Schema 41
84
CH3
CH3
Si
CH3
R1
CH3 CH3
Si
Si
CH3
Si
CH3
Si
R
R
n
Si CH3 +
HCPA
(33)
R1
CH3
Si
CH3
CH3
Si
CH3
Si CH3
CH3 CH3
Si
CH3
Si
O
Si
CH3
CH3
Si
CH3
Si
R1
CH3 CH3
CH3
Si
Si CH3
O
n
CH3
Schema 42
III.
III.4.1.
4.1. Copolimeri
Copolimeri siloxanici cu structuri cicloliniare
Axcetia sunt oligomeri siloxanici cu cicluri carbosiloxanice incluse `n lan]ul
principal i se obin prin reac]ia de hidrosililare dintre un ciclocarbosiloxan cu grupe
func]ionale Si-H sau Si-CH=CH2 cu organometildisiloxani cu grupe reactive
complementare, divers substitui]i, `n prezen]\ de catalizator acid hexacloroplatinic.
85
III.
III.4.1.1 Oligosiloxani ,diciclocarbosiloxanici
,diciclocarbosiloxanici
Oligosiloxanii
se
,diciclocarbosiloxanici
formeaz\
`n
cazul
`n
care
Me
Ph O
Si
2
Ph
Si
Me
Me R Me
+
Si
H
HCPA
Ph Ph
O
Si
Me R Me
Si
O Me
Si
Si
Me
R
Si
Si
Si
Me
Me
Compus ( I ), R = butil
( II ), R = fenil
( III ), R = p-tolil
Ph Ph
(34)
Schema
Schema 43
Analiza
elementar\,
determin\rile
de
mas\
molecular\
[i
investiga]iile
III.
III.4.1.2.
4.1.2. Oligosiloxani cu incluziuni ciclocarbosiloxanice
~n cazul `n care grupele reactive din ciclul carbosiloxanic au o alt\ pozi]ie dec=t 1,3
el se poate manifesta ca reactant difunc]ional conduc=nd, `n prezen]a unui partener
corespunz\tor, la reac]ii de polihidrosililare.
Av=nd `n vedere structura reactan]ilor [i condi]iile de lucru s-a propus schema de
reac]ie (Schema 44):
86
R O R
Si
H Si
1'
4'
Me
Me
Si
Si
Me
Si H
O
R
R
H Si
Me
HCPA
t
H
Me
Si
Si
O
4'
R Si
O
4
Si
R
Me
1'
H
Si
O
Si
R
n
Schema 44
Conform acesteia reac]ia de adi]ie se poate face fie prin intermediul grup\rilor
reactive Si-H din pozi]iile 1,4 fie cu cele din pozi]iile 1,4. Cei doi eventuali compu[i nu
au putut fi decela]i prin mijloacele de investigare curente.
III.
III.4.2. Policarbosiloxani policiclici
Utiliz=nd reac]ia de hidrosililare `n prezen]\ de catalizator acid hexacloroplatinic a
unor ciclocarbosiloxani cu grup\ri Si-CH=CH2 respectiv Si-H, s-a realizat ob]inerea de
compu[i cu structur\ policiclic\ (Schema 45).
H
O
Si
Si
R
n R
CH2=CH
O
Si
+
n R
Si
CH=CH2
HCPA
R
Si
Si
O
Si
Si
R
( II )
(I)
2n
(III)
(III):
(36)
R = CH3
1. (I) - MHCDFMO, (II)- MVCDFMO
2 . (I) - MHCDFMO, (II)- MVCDFE
3 . (I) - MHCDFE, (II)- MVCDFMO
4. (I)- MHCDFE, (II)-MVCDFE
Schema 45
oligomer ce con]ine un num\r variabil de unit\]i ciclice; prin metoda prezentat\ nu se pot
87
ob]ine dec=t oligomeri cu mase moleculare mici; structurile policiclice ob]inute constituie
o premier\ `n domeniu.
III.
III.5. Re]ele carbosiloxanice
Se pot obine structuri tridimensionale (re]ele) utiliz=nd ciclocarbosiloxani cu grupe
Si-H reactive [i oligomeri siloxanici cu grupe vinilice pe lan].
Constituie un domeniu nou dat fiind c\ p=n\ `n prezent literatura semnaleaz\ numai
re]ele tridimensionale silsesquioxanice.
Dup\ cum s-a ar\tat anterior grupele reactive din structura ciclocarbosiloxanului
reac]ioneaz\ diferen]iat func]ie de temperatura de lucru. Aceasta sugereaz\ posibilitatea
exercit\rii unui control termic asupra reac]iei de hidrosililare cu scopul final de a ob]ine
un material polimer cu un anumit grad de reticulare. Necesitatea ob]inerii unor informa]ii
privind structura materialului au f\cut ca sintezele s\ se conduc\ la grade mici de
reticulare cu ob]inere de produ[i solubili `n solven]i uzuali.
III.
III.5.1.
5.1. Re]ele carbosiloxanice din seria DHNF
n cazul acestor compui exist dou\ c\i posibile ale reac]iei:
(aa) adi]ia celei de-a doua grupe Si-H se realizeaz\ la gruparea vinil apar]in=nd unei
alte molecule oligomere (reac]ie intermolecular\).
(b
b) adi]ia se realizeaz\ la o grupare vinil vecin\, apar]in=nd aceleia[i catene
oligomere (reac]ie intramolecular\) (Schema 46).
(37)
H
Si
H
Si
+
H
Si
O
Si
O Si H
Si
Si
x
88
Si
y
Si
Si
a ) HCPA, t
H Si
Si
Si
Si
Si
O
Si
Si
x
y-z
Si
Si
Si
O
z
O
Si
Si
z
Si H
y-z
Si
Si
b) HCPA, t
Si
Si
z
Si
Si
Si
y-z
Si
O
Si
Schema 46
Pentru simplitate nu s-au mai `nscris grupele metil substituente la atomii de siliciu.
Interpretarea rezultatelor ob]inute din determin\rile de mas\ molecular\ face
posibil\ identificarea c\ii de reac]ie celei mai probabile.
Astfel:
~n prima etap\ a reac]iei au participat maxim 2 din cele 4 grupe Si-H din compusul
ciclic (pozi]iile 1,4). Unitatea structural\ este, cel mai probabil, format\ dintr-o molecul\ de
compus ciclic care leag\ dou\ lan]uri oligomere siloxanice (calea a). Valoarea masei
moleculare determinate indic\ faptul c\ numai o parte din grupele reactive au intrat `n
reac]ie. Amestecul rezultat este format din lan]uri pe care exist\ unit\]i dihidronaftalenice
fixate printr-o singur\ punte etilenic\ (rezultat al reac]iei unei singure grupe Si-H) [i lan]uri
macromoleculare par]ial reticulate (rezultat al reac]iei celor 2 grupe Si-H din pozi]ii
favorabile).
~n etapa a II-a, existen]a celorlalte dou\ grupe Si-H, precum [i a unui num\r de grupe
vinil, posibil vecine, au dus la continuarea reac]iei de hidrosililare, prin `nc\lzire. Din
89
rezultatele ob]inute pentru valorile maselor moleculare se poate trage concluzia c\ reac]ia de
hidrosililare s-a desf\[urat pe de-o parte `n sensul reticul\rii celei de-a doua grupe Si-H din
pozi]iile favorabile 1,4 sau 1,4 iar pe de alta, apar pun]i etilenice noi rezultate din
participarea la reac]ie a grupelor Si-H din pozi]iile defavorabile 1,1 sau 4,4. Acest fapt este
sus]inut [i de cre[terea semnificativ\ a v=scozit\]ii pe calea (a) de reac]ie.
Investiga]iile [i interpretarea rezultatelor experimentale conduc la ideea form\rii unor
structuri tridimensionale de tipul (Fig.
Fig. 31)
31 :
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
III.5.2.
III.5.2. Re]ele carbosiloxanice din seria DFMO
Pentru calea de formare a re]elei s-a propus schema de reac]ie (Schema 47) (38).
Confirmarea structurii re]elei carbosiloxanice s-a realizat prin analize spectrale,
m\sur\tori v=scozimetrice [i determin\ri de mas\ molecular\.
90
(38)
Ph
Ph
H
O
Si
Si
Si
H
Si
HCPA
Si
Si
O
m
Si
Si
O
o
100 C
Si
O
n-x
x
O
Si
Si
Si
O
Ph
Si
Ph
Si
Si
O
O
n-x
x
O
o
150 C
O
Si
O
Si
Si
Ph
Ph
Si
Si
Si
Si
Si
n-x
O
Si
Si
Schema 47
S-a observat c:
92
polimeri organici, care conin n catena principal numai atomi de carbon, sau
atomi de carbon i oxigen, azot, sulf, sau fosfor; de exemplu, polietilenglicolul.
-polimerii anorganici, ce nu conin carbon n catena macromolecular (principal).
Dup modul de comportare la temperaturi nalte i fa de solveni, polimerii se
grupeaz, de asemenea, n dou clase:
-polimeri termoplastici ,care se nmoaie la temperatur nalt (devin plastici) i
apoi se topesc, iar n contact cu unele lichide se dizolv;
-polimeri termorigizi (termoreactivi), care nu devin plastici i nu se topesc la
temperaturi nalte i nu se dizolv n nici un lichid.
Dintre compuii macromoleculari uzuali, polietilena, policlorura de vinil etc., sunt
termoplastice, iar fenoplastele, gliftalii etc, sunt produse termorigide.
Pentru desemnarea polimerilor termorigizi se utilizeaz termenul de rini. De
93
BuLi
O
O
Br
CH3
CH3
CH3O
Si
CH3
CH3
CH3O
Si
(CH3)SiCl2
O
O
Br
O
O Si
Br
Si
O
O
O
O
OCH3
CH3
CH3
O
O
Si O
CH3
CH3
Schema 47
94
O
Si O
O Si(CH3)3
CH3OH
OH
O
O Si
+ X
Cl
O
O Si
coroana
CH2
Z-CH2-coroana
O
X = -OH; HN(C3H7) coroana = benzo-15-C-5: benzo-18-C-6
Z = -O-:-N(C3H7)-
Schema 48
CH3
CH3
CO
CO
O
O
O
O
Schema 49
95
CONH
O
O
O
O
O
O
O Si
O
O
O Si
O
CH2Cl
AlCl3
CS2
+
O
O
CH2
O
O
O
O
Schema 50
~n toate metodele enumerate eterul coroan\ s-a ata[at la suprafa]a polimerului prin
metode polimer-analoage. ~n general exist\ limite ale acestor metode `n func]ie de
cantitatea de eter coroan\ ata[at. Datorit\ reproductibilit\]ii sc\zute aceste metode au fost
mai pu]in utilizate `n ultimul timp.
d) A patra metod\ apar]ine lui Chen [i You [119]. Ei au transformat eterul coroan\
`ntr-un monomer silanic prin hidrosililarea triclorsilanului cu 4-alilbenzo15-coroan\-5
(Schema 51).
H2PtCl6
Cl3Si(CH2)3 -
O
O
O
O
O
SiO2(vap.)
O
O
Si(CH2)3 -
O
O
H2O
Si(CH2)3 -
O
O
Schema 51
Acest monomer a fost hidrolizat sau i s-a ad\ugat bioxid de siliciu prin metoda `n
faz\ de vapori. Metoda este similar\ cu cea a lui Cram dar are mai multe aplica]ii [i o
reproductibilitate mai bun\. Dup\ anii 1990 nu s-au mai semnalat `mbun\t\]iri ale
metodei de sintez\ cercet\rile concentr=ndu-se asupra func]ionaliz\rii [i aplica]iilor
polisiloxanilor cu liganzi macrociclici ce con]in [i al]i atomi donori cum ar fi sulful [i
96
azotul. ~n tabelul de mai jos sunt prezentate suporturile de tip silicagel func]ionalizate cu
eter coroan\: (Schema 52).
114a
O
O
O
(CH2)3 - N
Si
O
NH
HN
114b
O
O
(CH2) - OC6H4OCO n
Si
O
O
O
n= 3,4
114c,d,e
O
O
(CH2) - OCH2 - MC
n
Si
MC = 18-C-6, 21-C7
15-C-6
CH3
(
114f
O
O
(CH2) - N
Si
O
O
O
n = 1, 2
x = 2, 11
114i
O
O
Si
O
(CH2) - O - CH2 x
O
O
(
)
m
x = 3, 11
m = 1, 2
114j
O
O
Si
(CH2) - O - CH2 -
O
S
O
S
x = 3, 11
m = 0, 1
97
114g,h
O
O Si
(CH2)3 - O - CH2 - MC
NR
O
CH3
CH3
MC = N R
MC =
)
n
R = C6H5-CH2m = 0, 1
n = 1, 2
O
)
N
O
O
O
O
C2H5
O
MC = C6H5CH2
O
O
N
C2H5
Schema 52
IV.3.2.
IV.3.2. Polisiloxani liniari ce con]in eteri coroan\
coroan\
Sintezele sunt destul de numeroase.
A. Prima semnalare a sintezei unui lan] siloxanic la care este ata[at un eter coroan\
[119]
a fost
f\cut\
de Chen.
El
a realizat
sinteza intermediarului
4-(3-
CH3
H2PtCl6
O
Cl2CH3Si
H2O
- (Si - O) n
(CH2)3
(CH2)3
O
O
O
O
O
Schema 53
Utiliz=nd aceast\ metod\ Nolte a construit [120] o serie de compu[i unici din punct
de vedere al structurii [i al aplica]iilor. Din 4,5-dicianobenzoeteri coroan\ a sintetizat
98
Schema 54
B.
Mai t=rziu Brisdon [121, 122] [i Bradshaw [123, 124] au realizat sinteza
CH3
+ CH2 = CH - (CH2)4 -
H
CH3
CH3
(CH2)6 -
99
H2PtCl6
toluen
[118,119]
CH3
H2C = CH - CH2OCH2 -
H2PtCl6
THF - EtOH
O
CH3
O
O
O
O
O
O
Schema 55
O
O
H2PtCl6
CH3
(CH3)SiO - (Si - O) - Si(CH3)3
x
(CH2) - O n+2
OCO -
O
O
Schema 56
100
care au fost hidrosilila]i la deriva]i -alchenil ai receptorilor benzo15-coroan\-5 [i calix4-aren\ [127] (Schema 57).
CH3
CH3
CH3
H2PtCl6
O
toluen
CH3
(CH2)6 O
O
O
Schema 57
H2PtCl6
O
Cl2(CH3)Si(CH2)3 -
HO - (Si(CH3)2O)H
n
O
(CH3)3SiCl
CH3
(CH3)3Si - [(OSi(CH3)2) -O - Si - ] O - Si - (OSi(CH3)2) - OSi(CH3)3
n
n
m
(CH2)3 -
O
O
Schema 58
101
studia]i din punct de vedere al propriet\]ilor de transport ionic prin membrane [130-132]
(Schema 59).
Me
Me
Me
Me
Me
coroana
n = 8 - 10
coroana = 4' -DB- 18-C-6; 15-C-5; 18-C-6
Schema 59
D. A patra metod\ cuprinde sinteze mai pu]in tipizate, care utilizeaz\ diverse strategii
pentru a ata[a eterul coroan\ la lan]ul siloxanic. O serie de eteri coroan\ cu grupe laterale
hidroximetil au fost lega]i covalent prin metoda Williamson la un polisiloxan cu grupe
pendante brombutil (Schema 60).
Me
Me
Me
Me Si - O - (Si-O) - SiMe
p+1
Me
Me
Me
Me Si - O - (Si-O) - SiMe
p+1
(CH2)4 Me
(CH2)4
Br
Br
(
+
)q
O
O
(CH2)4 Me
NaH
THF
(
O
OH
)
q
O
O
(CH2)4
O
)
q
O
O
O
p = 5, 12
q = 0,2
Schema 60
IV.3.3.
IV.3.3. Copolimeri
Copolimeri siloxansiloxan-eter coroan\
coroan\
Suporturile polimere func]ionalizate cu eteri coroan\ a cunoscut o evolu]ie
ascendent\ `n ultimele dou\ decenii [i marcheaz\ leg\tura dintre domeniul combina]iilor
102
103
~n cazul poliamidelor siloxan-eter coroan\ componenta bis(4-amino)dibenzo-18coroan\-6 este solubil\ numai `n solven]i puternic polari de tipul DMF, NMP, DMAC,
etc. Acest lucru complic\ foarte mult posibilitatea realiz\rii unor sisteme omogene de
reac]ie. Folosirea unui amestec de solven]i polari [i nepolari nu a dat rezultate. ~n
literatur\ se men]ioneaz\ utilizarea `n cazul sintezei poliamidelor a solven]ilor eteri ciclici
sau liniari de tipul THF sau EEE. ~n unele cazuri THF-ul este un solvent mai bun dec=t
EEE [i nu exist\ o explica]ie clar\ a acestui comportament pentru c\ ambii solven]i au
caracteristici apropiate [135].
Varianta adoptat\ a fost utilizarea ca solvent a THF-ului anhidru [i suplimentarea
cantit\]ii de TEA astfel `nc=t aceasta s\ asigure cre[terea solubilit\]ii diaminei pentru
ob]inerea unei viteze de reac]ie corespunz\toare.
Substan]ele care func]ioneaz\ ca acceptori de acizi trebuie s\ `ndeplineasc\ o serie
de cerin]e cum sunt: bazicitatea, cre[terea solubilit\]ii reactan]ilor [i participare sc\zut\ la
reac]ii secundare.
~n cazul poliamidelor siloxan-eteri coroan\ este valabil\ regula conform c\reia
viteza reac]iei de acilare a diaminei trebuie s\ domine asupra celorlalte procese [i `n
special asupra vitezei de descompunere a complexului format dintre amina ter]iar\ [i
clorura acid\. Nu exist\ o corela]ie clar\ `ntre structura polimerului [i tipul acceptorului
de acid dar s-a raporat c\ formarea poliamidelor estre accelerat\ de prezen]a unor baze
puternice cum ar fi TEA [i NaOH `n timp ce formarea poliesterilor este favorizat\ de
prezen]a bazelor slabe (Py, Ba(OH)2 ) [210].
~n general policondens\rile `n solu]ie sunt procese rapide `n care reac]iile
secundare nu exercit\ o influen]\ semnificativ\. ~n mod frecvent clorurile acide intr\ `n
reac]ie
cu
amina
ter]iar\.
Astfel
`n
cazul
oligomerului
,-bis(3-
2R
CH2
CH
COCl
R'3N
R CH
RCH C
Schema 61
104
CH
O +
R3NHCl
Reac]iile secundare la care particip\ solven]ii de tip amid\ sunt evitate prin
utilizarea solven]ilor de tip eteric, specifici copolimerilor siloxanici (THF).
IV.3.4.
IV.3.4. Poliesteri siloxansiloxan-eter coroan\
coroan\
Cercet\rile noastre au avut ca scop sinteza unor poliesteri siloxanici cu unit\]i de
dibenzo-18-coroan\-6 intercalate pe lan]. ~n literatura de specialitate nu s-a semnalat
sinteza unor poliesteri de tip siloxan-eter coroan\ ob]inu]i prin policondensare liniar\.
Scopul sintezei acestor compu[i a fost ob]inerea de liganzi polimerici macrociclici care s\
p\streze capacitatea de complexare a polieterilor ciclici [i `n acela[i timp s\ posede o
solubilitate mai bun\ `n solven]i nepolari [i o stabilitate termic\ mai ridicat\. Sinteza s-a
realizat prin policondensarea `n solu]ie a bis(4-cloroformil)dibenzo-18-coroan\-6 cu
oligomeri ,-bis(3-hidroxipropil)polidi-metilsiloxanici cu mase moleculare de 250,
1000 [i 3000, `n prezen]a piridinei drept acceptor de acid. Raportul molar oligomer
siloxanic/ diclorur\ acid\ a fost de 1:1. ~n calitate de solvent s-a ales clorura de metilen
deoarece ofer\ o bun\ solubilitate at=t oligomerului siloxanic, c=t [i mai ales clorurii
acide. Pentru a evita hidroliza clorurii solventul s-a uscat pe CaCl2 [i site moleculare [i sa distilat de pe pentaoxid de fosfor.
Ad\ugarea solu]iei de clorur\ acid\ s-a realizat la temperatura camerei [i sub
protec]ie de azot. Spre sf=r[itul perioadei de perfectare a reac]iei de policondensare masa
de reac]ie s-a refluxat. ~ndep\rtarea clorhidratului de piridin\ s-a f\cut prin filtrare sub
protec]ie de azot iar separarea produselor s-a realizat prin `ndep\rtarea solventului la vid.
Produsele se prezint\ sub form\ de pulberi sau lichide v=scoase [i sunt solubile `n
cloroform, clorur\ de metilen, THF [i insolubile `n DMF, DMSO, etc (Schema 62).
105
CH3
HO
(CH2) 3
Si
CH3
Si
CH3
CH3
CH3
Si
n
ClCO
(CH2) 3 OH
COCl
CH3
O
O
CH3
Piridina
O (CH2) 3
Si
CH3
i
CH3
CH3
O
Si
CH3
Si
n
a
b
c
f,g,h
(CH2) 3 O OC
CH3
CO
d
e
Schema
Schema 62
H-
106
T
PSEC3
PSEC2
PSEC1
Fig. 32.
32. Spectrele de absorb]ie `n IR ale poliesterilor PSEC
Sunt prezente benzile specifice vibra]iei simetrice a grupei Si-CH3 de la 805 cm-1 [i
1265 cm-1 precum [i banda de absorb]ie a grupei Si-O-Si de la 1050 cm-1. De asemenea
sunt prezente benzile vibra]iilor de valen]\ ale atomilor de carbon din inelul aromatic de
la 1458, 1513 [i 1600 cm-1, benzile vibra]iei de valen]\ a leg\turii C-O-C de la 935 [i
1130 cm-1 din inelul polieteric. Vibra]iile leg\turii C-H dau acelea[i benzi de absorb]ie `n
intervalul 2910-2970 cm-1 ca [i `n monomerul eter coroan\. Banda de absorb]ie a CO se
afl\ la 1715cm-1 ceea ce arat\ c\ grupa carbonil este apar]in\toare unei leg\turi esterice [i
nu unei cloruri acide.
Spectrul de 1H-RMN (CDCl3; , ppm) (Fig.33).
~n compara]ie cu spectrele diacidului [i ale oligomerilor, cel al copolimerilor nu
prezint\ deplas\ri semnificative ale semnalelor protonilor ci numai o completare cu
semnalele protonilor din structura siloxanic\. Protonii aromatici Hc,d,e din nucleele ata[ate
ciclului polieteric dau un semnal multiplet la 6.88 - 7.65 ppm cu o integral\ echivalent\ a
107
[ase protoni. Cei ai ciclului eteric Ha,b prezint\ un semnal multiplet la aproximativ 4 ppm.
care se suprapune peste semnalul protonilor metilenici Hf din radicalul propil [i au o
integral\ total\ de dou\zeci de protoni. La 1.65 ppm [i 0.5 ppm se afl\ semnalele produse
de ceilal]i opt protoni, Hg,h, ai radicalului propil iar la 0.15 ppm se g\se[te semnalul
produs de protonii Hi ai grupelor metilice ata[ate la atomii de siliciu.
Exploatarea judicioas\ a datelor permite aflarea raportului de combinare a celor doi
parteneri care formeaz\ unitatea structural\. Protonii din ciclul eteric sunt o specie
distinct\ c\reia `i corespunde un semnal constant deoarece ei nu particip\ la reac]ie.
Acela[i lucru se poate spune [i despre protonii apar]in=nd grupelor metilice legate
de atomii de siliciu. Fiind stabili chimic ei pot constitui un standard cantitativ al
num\rului atomilor de siliciu din lan]ul siloxanic.
Deci integrala echivalent\ a celor 16 protoni eterici ofer\ o valoare a m\rimii
semnalului cu care se poate opera. ~mp\r]ind valoarea integralei protonilor metilici din
siloxan de la 0.15 ppm la aceast\ valoare se ob]ine num\rul de atomi de siliciu din
unitatea structural\. ~n tabelul 18 se prezint\ num\rul protonilor metilici determina]i din
spectrele 1H-RMN precum [i num\rul de atomi de siliciu [i estimarea maselor moleculare
a oligomerilor siloxanici.
Fig.33.
Fig.33. Spectrele 1H-RMN ale poliesterilor PSEC
108
Tabel 10.
10. Evaluarea spectrelor de 1H-RMN
Copolimer
Mn
PSEC1
12
250
PSEC2
78
13
962
PSEC3
240
40
2960
Copolimeri
PSEC1
PSEC2
PSEC3
Absorban]a, %
, m
292.5
0.29
0.14
0.04
259
0.55
0.22
0.09
c\ acest copolimer este stabil termic p=n\ la 250 oC, dup\ care urmeaz\ distruc]ia
scheletului organic, ce are loc cu vitez\ maxim\ `n jurul temperaturii de 330 oC. Dup\ o
pierdere de mas\ de aproximativ 50 % urmeaz\ a doua treapt\ de descompunere, a
scheletului siloxanic, `n jurul temperaturii de 470-490 oC. Cele dou\ trepte nu sunt
distincte ele suprapun=ndu-se `ntr-un interval de aproximativ 100 oC. Peste 600 oC s-a
ob]inut un reziduu de descompunere de aproximativ 23 %.
109
timpii
de
curgere
printr-o
capilar\
Cannon-Uhbelode.
Valorile
Copolimer
C,%
H,%
Si,%
calc.
exp.
calc.
exp.
calc.
exp.
PSEC1
57.96
58.01
6.94
6.89
8.45
8.51
PSEC2
45.91
45.86
7.49
7.41
22.32
22.60
PSEC3
37.40
37.48
7.88
7.93
32.11
32.31
110
IV.3.5.
IV.3.5. Poliesteri siloxansiloxan-eter coroan\
coroan\ fotosensibili.
Acest tip de poliesteri s-a ob]inut prin policondensarea `n solu]ie a oligomerului
,bis(3-cloroformilpropil)polidimetilsiloxanic cu azo-difenolii deriva]i ai polieterului
dibenzo-18-coroan\-6, EC7 [i EC8. Se [tie c\ la baza esterific\rii st\ un mecanism de
substitu]ie nucleofil\ prin adi]ie - eliminare. Bisfenolii azo utiliza]i `n calitate de
component\ nucleofil\ sunt mai reactivi dec=t glicolii alifatici datorit\ cre[terii acidit\]ii
protonului fenolic. Schema de reac]ie dup\ care s-au sintetizat ace[ti poliesteri este
prezentat\ mai jos (Schema 63):
CH 3
ClOC
(CH 2)3 Si
CH 3
CH 3
O
Si
CH 3
CH 3
Si
n
HO
(CH 2)3
COCl
CH 3
CH 3
OC
Az
(CH 2)3 Si
CH 3
Si
O
O
Az
OH
TEA
CH 3
CH 3
O
CH 3
Si
n
(CH 2)3
CO
CH 3
Az
O
O
O
O
Az
Az = N
; N
Schema 63
111
DMF [i THF . ~n calitate de acceptor de acid s-a utilizat trietilamin\ conform unei metode
prezentat\ `n literatur\.
Policondensarea a avut loc la temperatura camerei, iar separarea produselor s-a
realizat prin dilu]ia masei de reac]ie cu ap\ distilat\. Precipitatele rezultate au fost filtrate,
sp\late cu metanol [i uscate `n etuv\ la vid. Ele se prezint\ sub form\ de pulbere galben\
(PSAz-1) [i pulbere vi[inie (PSAz-2).
Polimerii au fost caracteriza]i prin analiz\ elementar\, spectrometric\ (IR, 1H-RMN,
UV) [i estimarea maselor moleculare.
Spectrele de absorb]ie `n IR (Fig. 35-36)
Copolimerii PsAz-1 PSAz-2 au segmente cu structuri chimice diferite care prezint\
absorb]ii `n infraro[u `n domenii caracteristice. Pentru segmentul siloxanic la 805 cm-1 [i
1265 cm-1 sunt prezente benzile de absorb]ie Si-CH3 precum [i banda de absorb]ie de la
1070 cm-1 datorat\ Si-O-Si. Existen]a structurii esterice este probat\ de banda de
absorb]ie CO de la 1720 cm-1. ~n domeniul 1400-1600 cm-1 specific structurii aromatice
din azoderiva]i sunt prezente benzile de la 1458 cm-1,1513 cm-1 [i 1600 cm-1. Benzile de
absorb]ie datorate ciclului polieteric (1130 cm-1, 1260 cm-1) se suprapun cu cele ale
structurii siloxanice.
112
Fig. 36 Spectrul
Spectrul IR al copolimerului PSAzPSAz-2
113
114
, nm
, nm
Fig. 40.
40. Spectrul UV al copolimerului
PSAzPSAz-1
PSAzPSAz-2
timpii
de
curgere
printr-o
capilar\
Cannon-Uhbelode.
Valorile
Copolimer
C, %
H, %
Si, %
calc.
exp.
calc.
exp.
calc.
exp.
PSAz-1
41.9
41.3
7.00
7.12
23.4
24.1
PSAz-2
44.24
44.52
6.88
7.01
22.4
23.4
115
IV.3.6.
IV.3.6. Poliamide
Poliamide siloxansiloxan-eter coroan\
coroan\
Aceast\ sec]iune prezint\ un alt tip de copolimer siloxanic care con]ine intercalate
pe caten\ unit\]i dibenzo-18-coroan\-6 [i apar]ine clasei poliamidelor (PSAC). Este
primul exemplu de poliamid\ siloxan-eter coroan\ ob]inut prin policondensare liniar\ a
doi monomeri difunc]ionali [136]. ~n literatura de specialitate sunt men]ionate doar c=teva
procedee de ata[are a eterilor coroan\ la suporturi tip silicagel prin lan]uri laterale ce
con]in grupe amidice [137-139]. Ca [i `n cazul poliesterilor scopul sintezei acestor
copolimeri este acela de a ob]ine liganzi polimerici cu propriet\]i noi sau `mbun\t\]ite fa]\
de eterii coroan\: solubilitate ridicat\, stabilitate termic\ [i eventual propriet\]i mecanice
sau de suprafa]\, superioare.
Sinteza s-a realizat prin policondensarea `n solu]ie de THF uscat a diaminei bis(4-amino)-dibenzo-18-coroan\-6
cu
diclorura
acid\
bis-(3-cloroformilpropil)-
O
CH3
ClOC
(CH2)3
Si
CH3
CH3
CH3
O
Si
CH3
Si
n
H2N
(CH2)3
COCl
NH2
CH3
TEA
CH3
OC
(CH2)3
Si
CH3
CH3
CH3
O
Si
CH3
Si
n
O
(CH2)3
CO
NH
CH3
NH
Schema 64
solubilitate convenabil\ a diaminei. Diclorura acid\ este aceea[i care s-a utilizat [i `n
sinteza poliesterilor fotosensibili.
Interac]iunea dintre diclorurile acizilor carboxilici [i diamine decurge dup\ un
mecanism de substitu]ie bimolecular\ SN2 cu formarea intermediar\ a unei amide
protonate de la care protonul este `ndep\rtat de acceptor.
Produsul de policondensare dup\ filtrare, sp\lare [i uscare se prezint\ sub form\ de
pulbere amorf\ de culoare galben-maronie. Polimerul este solubil `n majoritatea
solven]ilor polari [i nepolari [i prezint\, `n solu]ie, o u[oar\ opalescen]\ caracteristic\
sistemelor bifazice.
Produsul a fost caracterizat prin analiz\ elemental\, analize spectroscopice [i
determin\ri v=scozimetrice.
Spectrul de absorb]ie `n IR (Fig. 42)
~n grupa amidic\ exist\ o puternic\ conjugare p- conform structurilor (Schema
65).
.. :
O
..
..
O:
R
C
a
..
NH
+
NH
O
R
+
NH
Schema 65
117
118
119
Fig. 46.
46. Diagrama ATG a poliamidei PSAC
Analiza elementar\.
Poliamida a fost caracterizat\ prin determinarea con]inutului procentual de C, H [i
Si. Tabelul 14 prezint\ valorile ob]inute.
Tabel 14.
14. Analiza elementar\
elementar\ a poliamidei PSAC
Copolimer
C,%
H,%
Si,%
calc.
exp.
calc.
exp.
calc.
exp.
41.29
41.02
7.82
7.75
27.73
27.43
IV.4.
V.4. Mecanisme ale fenomenului de memoria formei la polimeri
Anumii monomeri prezint fenomenul de memoria formei. Mecanismul este
complet diferit fa de cel al aliajelor metalice .
Un polimer tipic cu memoria formei este cauciucul, el se alungete de mai multe
ori sub tensiuni i revine imediat la forma iniial la ndeprtarea acestora.
Cauciucul este elastic la temperatura camerei, la temperaturi sczute (-196OC )
elasticitatea este pierdut. Dac cauciucul alungit este rcit la 196OC forma alungit este
fixat i niciodat nu mai revine la forma iniial, dac temperatura nu depete Tv
(temperatura tranziiei vitroase = de vitrifiere)
TV = definit ca fiind temperatura deasupra creia elasticitatea unui polimer rigid
120
Proprietatea fizic
Polimeri
Aliaje metalice
Densitate
0,9-1,1
6-8
Deformaie
250-800
6-7
Temp. de recuperare
25-90
-10-100
10-30
500-2000
10-30
1500-3000
deformaie
Tensiune
de
recuperare
Mecanismele efectului de memoria formei(E.M.F.)ale polimerilor sunt clasificate
astfel:
Cazul I
Forma iniial se obine din pulbere polimeric sau palete prin turnare n form
,dac este necesar efectueaz consolidarea prin adugare de ageni de consolidare sau
121
prin radiaie ,apoi forma este deformat sub tensiune la o temperatur sitat n vecintatea
sau deasupra lui Tv sau a temperaturii de nmuiere.
Tv= temperatur de vitrifiere
Tm = temperatur de nmuiere
Cazul II
Forma polimerului este controlat n mod reversibil prin reacii foto sau
electrochimice ale polimerului .Forma iniial este obinut prin consolidarea lanurilor
de polimer ca n cazul I .
Cazul III
Forma polimerului este controlat reversibil de reaciile chimice ale acestuia.
IV.5.
LUMINOASE
Unele molecule sunt transformate sub iradiere n ali izomeri care revin la starea
iniial la activare ulterioar termic sau fotochimic. Reacia corespunztoare se
numete fotocromic.
h ,
Scema de mai jos arta cteva reacii fotochimice, cromice n care sunt incluse:
a)
b)
c)
disociere ionic
d)
122
Schema 66
123
Cnd legturile duble de azot au fost transformate din forma trans n forma cis prin
iradiere cu ultraviolete 1 = 365nm filmul polimeric s-a contractat cu pn 0,26%,n timp
ce el s-a alungit pn atinge o contracie de 0,16%prin iradiere cu lumin din spectrul
vizibil 2 = 436nm ,care izomerizeaz legtura dubl de azot din forma cis n forma
trans. n ntuneric filmul a revenit la forma iniial cum arat Fig. 49.
124
IV.5.1.
reversibile
Comportarea la iradiere `n UV a
fotosensibil
Azobenzenul [i deriva]ii s\i prezint\ dou\ tipuri de izomeri geometrici [i anume
izomerul trans [i cis. Forma trans este `n general mult mai stabil\ dec=t forma cis. Prin
expunere la radia]ii din domeniul vizibil sau ultraviolet, forma stabil\ trans trece prin
fotoizomerizare `n forma cis. Izomerizarea cis-trans (revenirea) poate avea loc termic sau
fotochimic. Compozi]ia st\rii fotosta]ionare depinde de lungimea de und\ a radia]iei, de
temperatur\ [i de solventul utilizat (Schema 66) .
125
N
N
h
9.0
h; t
5.5
R
R
trans; = 0
cis; = 3.0
Schema 66
126
Fig 50.
50. Modific\
Modific\ri `n spectrul de absorb]ie a poliesterului PSAzPSAz-1 `n func]ie de durata iradierii (0, 5,
15, 25, 60, 90, 180, 240, 300 sec.)
~n acela[i timp are loc o deplasare hipsocrom\ a maximului benzii de absorb]ie p=n\
ce se atinge `n sistem starea fotosta]ionar\ (dup\ aproximativ cinci min.) Banda de
absorb]ie corespunz\toare tranzi]iei n-* cre[te `n intensitate `n decursul iradierii [i
devine mai bine rezolvat\. Existen]a punctelor isosbestice de la 293 nm [i 446 nm indic\
faptul c\ `n sistem exist\ numai dou\ specii care absorb (izomerii trans [i cis) [i nu au loc
reac]ii secundare. Revenirea termic\ la 70 oC a formei cis la forma ini]ial\ trans are loc cu
refacerea benzii de absorb]ie de la 374 nm ceea ce arat\ c\ proba PSAz-1 prezint\
propriet\]i fotocrome reversibile (Fig.
Fig. 51).
51
A
ln
A0 A
= kt
At A
127
ln
A0 A
At A
2
1
Fig. 51.
51. Cinetica fotoizomeriz\
fotoizomeriz\rii transtrans-cis a poliesterului PSAzPSAz-1
`n absen]a [i `n prezen]a agentului de complexare
(1:PSAz1; 2:PSAz12:PSAz1-KSCN=1:1;
KSCN 1:1; 3: PSAz1PSAz1-KSCN=1:2).
KSCN 1:2).
ln
A A0
`n func]ie de timp similar comport\rii altor cromofori azobenzenici [142,
A At
143] (Fig.
Fig. 52).
52
ln
A A0
A At
3
2
Fig. 52.
52. Cinetica izomeriz\
izomeriz\rii termice ciscis-trans a poliesterului
poliesterului PSAzPSAz-1[i a complexului cu KSCN
(1:PSAz1; 2:PSAz12:PSAz1-KSCN=1:2;
KSCN 1:2; 3: PSAz1PSAz1-KSCN=1:1).
KSCN 1:1).
128
Revenirea termic\ are loc `ntr-un interval mai mare de timp, aproximativ o sut\
min. ~ntruc=t cinetica fotoizomeriz\rii este descris\ de o dreapt\, aceasta `nseamn\ c\
grupele azobenzenice izomerizeaz\ liber, ceea ce presupune un timp de revenire mai
mare. Din fotoizomerizarea trans-cis [i revenirea termic\ cis-trans a complec[ilor PSAz1KSCN = 1:1 [i PSAz1-KSCN = 1:2 s-a constatat c\ viteza de fotoizomerizare este mult
mai mare fa]\ de cea a poliesterului PSAz1 necomplexat. Aceasta se datoreaz\
reorganiz\rii conforma]ionale a ciclului polieteric [i cre[terii lipofiliei prin participarea
heteroatomilor la formarea complec[ilor. Se poate spune c\ fenomenul de complexare a
copolimerului permite o mobilitate mai mare a secven]elor siloxanice din lan].
De asemenea au fost supuse iradierii UV probele EC7 (max= 375 nm) [i EC7KSCN (max= 375 nm) `n solu]ie de DMSO. La aceste probe nu s-a observat o varia]ie
semnificativ\ a absorban]ei `n maximul benzii de absorb]ie. Astfel, pentru proba EC7KSCN cu A0= 0.955, dup\ 65 min iradiere, absorban]a devine 0.945. Aceasta poate fi
atribuit faptului c\ `n aceste probe procesul de revenire cis-trans are loc practic
instantaneu la temperatura camerei [i nu se pot observa varia]ii `n intensitatea benzii de
absorb]ie.
IV.6 EFECTUL DE MEMORIA FORMEI ACTIVAT CHIMIC
IV.6.1.
IV.6.1. Complexarea gazd\
gazd\-oaspete ale eterilor coroan\
coroan\
Primele studii privind capacitatea de complexare a eterilor coroan\ precum [i
analiza structural\ a acestor complec[i au fost f\cute de Pedersen [144, 145]. Discu]ii
detaliate asupra propriet\]ilor [i caracteristicilor structurale ale eterilor coroan\ c=t [i ale
complec[ilor forma]i, au fost publicate `ntr-un mare num\r de recenzii [146-148].
Structura cristalin\ a polieterului 18-coroan\-6 a fost analizat\ at=t la temperatura camerei
c=t [i la 100 K [149]. S-a dovedit c\ molecula are o form\ eliptic\ [i o conforma]ie centrosimetric\, cu dou\ grupe metilen transinelare rotite `n interior. Structura este stabilizat\
prin leg\turi de hidrogen [i este departe de a avea o conforma]ie coroan\ (Schema 66).
129
H
C
C
O
C
H
O
C
O
C
C
C
Schema 66
R + S
L + C
RS
n+
130
LC
n+
[ LC n + ]
Ks =
[ L][C n + ]
Stabilitatea unei supermolecule este determinat\ de m\sura `n care receptorul
molecular [i substratul respect\ complementaritatea structural-func]ional\ necesar\
form\rii ansamblului. Valoarea constantei de stabilitate este influen]at\ `n mod apreciabil
de natura solventului [152].
~n cazul `n care, coresponden]a unui element din acest ansamblu structuralfunc]ional lipse[te, stabilitatea moleculei se mic[oreaz\, situa]ie desemnat\ prin termenul
discordan]\.
Antagonismul
desemneaz\
lipsa
coresponden]ei
`ntre
elementele
131
deschis\ cu to]i atomii de oxigen roti]i `n interior convergen]i c\tre oaspetele cu care
interac]ioneaz\ (Schema 67)
O
O
O
O
O
O
O
O
Schema 67
Diametrul
12-coroan\-4
15-coroan\-5
18-coroan\-6
eter coroan\,
1.3
2.0
2.9
Diametrul
Li (+)
Na(+)
K(+)
cationului,
1.2
1.9
2.66
IV.7.
IV.7. Complexarea cu cationi metalici
Liganzii macrociclici formeaz\ cu cationii metalelor alcaline complec[i de tip
gazd\-oaspete (LCn+) la raportul molar de 1:1. ~n prezen]a unui mare exces de gazd\, unii
cationi pot forma complec[i de tip sandwich (L2Cn+) [i respectiv club sandwich
(L3C2n+) a[a cum se prezint\ `n Schema 68.
132
Schema 68
Complex LCn+
Eter
Complex L2Cn+
Li(+)
Na(+)
K(+)
Cs(+)
K(+)
18-C-6
0.7*
4.1; 0.3*
6.1; 1.9*
4.6; 0.8*
1.3
DB18-C-6
4.4
5.0
3.5
2.9
coroan\
Cs(+)
* - solvent apa
Studiind structura complec[ilor eterului 18-coroan\-6 cu sulfocianuri alcaline [72],
s-a g\sit c\ ionul K(+), care corespunde cel mai bine `n diametru, este `ncapsulat `n centrul
cavit\]ii moleculare (aranjament nesting). ~ncapsularea cationilor mai mici se realizeaz\
prin interac]iuni optime dipol-dipol. Cationii mai mari (Rb(+), Cs(+)) adopt\ un aranjament
perching adic\ sunt distan]a]i cu 1.19 [i 1.44 de la planul mediu al atomilor de
oxigen din macrociclu. Sfera de coordinare exterioar\ este completat\ de anionii SCN(-).
IV.7.1.
IV.7.1. Complexarea cu cationi amoniu
Raportul stoechiometric al complec[ilor este `n general de 1:1. ~n majoritatea
compu[ilor grupa -NH3(+) adopt\ o pozi]ie perching `n raport cu ciclul coroan\.
Complec[ii sunt stabiliza]i prin leg\turi de hidrogen. Complexul eterului 18-coroan\-6 cu
rodanur\ de amoniu prezint\ o penetrare mai important\ a grupei -NH4(+) `n ciclul
133
coroan\, distan]a fa]\ de atomii de oxigen fiind mai mic\. S-a tras concluzia c\ factorul
principal care guverneaz\ geometria interac]iei `n acest tip de complec[i gazd\-oaspete,
este ad=ncimea de p\trundere a grupei amoniu `n cavitatea ciclului coroan\.
IV.7.1.1
IV.7.1.1.
.1. Determinarea constantelor de stabilitate
S-a ar\tat c\ liganzii macrociclici formeaz\ cu cationii metalelor sau cu moleculele
neutre complec[i macrociclici de tip oaspete-gazd\:
L + C
n+
LC
n+
Din acest punct de vedere polieterul dibenzo18-coroan\-6 ocup\ un loc aparte. Este
poate cea mai utilizat\ gazd\ `n sinteza [i studiul complec[ilor cu diferite specii chimice.
De asemenea este cel mai utilizat ligand la func]ionalizarea structurilor polimere datorit\
posibilit\]ilor de substitu]ie pe care le ofer\. Echilibrul de formare a complec[ilor este
caracterizat de constanta de stabilitate Ks exprimat\ prin rela]ia :
[ L. C n + ]
Ks =
[ L][C n + ]
[Cn+] - concentra]ia s\rii metalului, mol/l
[ L ] - concentra]ia ligandului macrociclic, mol/l
[Lcn+]- concentra]ia complexului, mol/l
Experimetal valoarea constantei de stabilitate se poate determina prin titrare
conductometric\,poten]iometric\, polarografic\, etc. sau analiz\ spectrometric\ (UV, 1HRMN). Valoarea acestei constante este influen]at\ `n mod apreciabil de natura
solventului. Pentru studiul influen]ei substituentului ata[at eterului macrociclic [i
determinarea constantelor de stabilitate s-a ales metoda spectroscopiei de absorb]ie `n
ultraviolet [i vizibil. S-au preparat solu]ii de concentra]ie 1.10-4 mol/ l `n DMSO sau
cloroform cu liganzii selecta]i
[ L]. l
1
1
1
=
+
A
Ks. . k [ M ] . k
`n care:
134
Fig. 54 Modific\
Modific\ri `n spectrele
electronice de absorb]ie
electronice de absorb]ie
135
Fig. 55 Modific\
Modific\ri `n spectrele electronice
Fig. 56 Modific\
Modific\ri `n spectrele electronice
[ L]
1
= f(
)
A
[ M]
pentru fiecare ligand [i fiecare agent de complexare [i care se prezint\ sub forma unor
drepte ( Fig. 57).
57
n=
136
1
Ks. k
m=
Ligand
EC4
EC6
PSEC2
PSAC
Cation
logKs
logKs
logKs
logKs
KSCN
2427
1.09
2222
3.17
1246
0.857
7692
3.75
NH4SCN
1785
0.885
1667
1.518
1078
0.533
569
0.081
S-a ar\tat c\, potrivirea dimensional\ `ntre diametrul cationului metalic [i diametrul
cavit\]ii ligandului guverneaz\ complexarea cu cationi metalici, iar ad=ncimea de
p\trundere a grupei amoniu `n cavitatea ciclului coroan\ guverneaz\ complexarea cu
cationi amoniu.
Introducerea substituen]ilor carboxi [i amino `n nucleul aromatic a produs
modific\ri `n spectrele electronice de absorb]ie ale liganzilor .EC4 [i EC6. S-au observat
deplas\ri ale benzilor de absorb]ie a sistemului a ciclului aromatic `n spectrele
liganzilor EC4 [i EC6 comparativ cu spectrul ligandului EC1. Ad\ugarea solu]iilor
rodanurilor de potasiu [i amoniu a influen]at `n principal intensitatea benzii de absorb]ie a
ligandului [i mai pu]in pozi]ia. Complexarea liganzilor cu cationi depinde de natura
cationului, de temperatur\ [i `n cea mai mare m\sur\ de solvent.
Modific\ri mai importante s-au observat la ad\ugarea rodanurii de potasiu (F
Fig.53
ig.535357).
57 Dup\ cum se observ\ din tabelul 18 constantele de stabilitate ale complec[ilor
forma]i de liganzii EC4,EC6,PSEC2 [i PSAC cu cationul K+ sunt mai mari dec=t cele ale
complec[ilor forma]i cu cationul amoniu. Deasemenea constantele de stabilitate ale
complec[ilor forma]i de liganzii EC6 [i PSAC sunt mai mari dec=t cele ale complec[ilor
forma]i de liganzii EC4 [i PSEC2.
137
138
140
V.1. Polisiloxanimide
n ultimii 20-25 ani, odat cu o mai bun inelegere a relaiilor structurproprieti ale copolimerilor multifazici, s-a concluzionat c o metod foarte eficient de
mbuntire a rezistenei mecanice a polisiloxanilor o reprezint sinteza controlat a unor
copolimeri segmentai, bloc sau grefai. n aceste sisteme, componenta siloxanic este
legat chimic de un segment cristalin. Prin aceast metod se creaz posibilitatea
combinrii proprietilor dorite ale segmentului soft cu rezistena mecanic a
141
segmentelor hard , obinndu-se materiale noi care pot fi prelucrate utiliznd tehnici n
soluie sau topitur. Utiliznd aceast idee i proprietile unice ale siloxanilor, s-au
sintetizat i caracterizat o serie de copolimeri bloc i segmentai coninnd
polidimetilsiloxan, primele studii fiind n principal dedicate investigrii chimiei
polimerizrii i nelegerii relaiilor structur-proprieti ale acestor sisteme.
Aceste prime cercetri n domeniul copolimerilor siloxanici au fost raportate de
ctre Plumb i Atherton [154], Juliano [155] i Noshay i McGrath [156]. Descoperirile
recente n domeniul tehnologiei materialelor i nelegerea rolului i importanei
proprietilor de suprafa ale materialelor polimere n aplicaii speciale (biomateriale,
sisteme de implant, lentile de contact, acoperiri de protecie) au concentrat atenia asupra
polimerilor multifazici coninnd siloxani. n plus, datorit interesantei lor morfologii,
aceti copolimeri au atras interesul ca sisteme model pentru investigaii fundamentale
asupra morfologiei i relaiilor structur proprieti ale copolimerilor. Ca rezultat, n
ultima decad s-au sintetizat i caracterizat numeroase sisteme copolimere siloxanice att
n laboratoarele academice ct i industriale i interesul n acest domeniu este n continu
cretere [157]. n afara combinaiei unice de proprieti, un alt factor important care face
organosiloxanii att de atractivi pentru sinteza copolimerilor l reprezint uurina
preparrii intermediarilor siloxanici reactivi cu o mare varietate de grupe finale. Este bine
stabilit metoda de sintez a oligomerilor siloxanici reactivi o rganofuncionali prin
reacii de echilibrare catalizate acid sau bazic a monomerilor siloxanici ciclici cu siloxani
difuncionali cu rol de capete. Flexibilitatea chimiei polimerizrii i disponibilitatea
unui numr mare de monomeri siloxanici ciclici permit, de asemenea, modificarea cu
uurin a compoziiei lanului oligomerilor reactivi. Mai mult, s-a artat c prin tehnici
speciale de fracionare este posibil obinerea unor fraciuni foarte nguste ale acestor
oligomeri [158], ceea ce permite sinteza unor copolimeri cu structuri foarte bine
controlate. Aceti oligomeri siloxanici organofuncionali constituie o important punte de
legtur ntre chimia polimerilor organici i chimia siloxanic organic-anorganic. Prin
alegerea corespunztoare a segmentelor respective, este posibil s se obin copolimeri
siloxanici pentru aplicaii speciale.
Inc din 1966, o serie de cercetri au fost efectuate n domeniul sintezei
poliimidelor siloxanice, n special n laboratoarele industriale. Ca urmare, cea mai mare
142
parte a informaiilor este inclus n brevete i, din pcate, descrierea actual a chimiei
polimerizrii este foarte vag. Marea majoritate a acestor aplicaii utilizeaz disiloxani n
scopul obinerii unor polimeri solubili. Mai recent, n sinteza copolimerilor siloxanimidici au nceput s fie utilizai oligomerii siloxanici funcionali, obinndu-se
copolimeri multifazici cu proprieti foarte variate, n funcie de compoziia lanului
[159]. Dei cercetrile n acest domeniu evolueaz rapid, aceti copolimeri siloxanici sunt
nc departe de a fi la fel de cunoscui ca cei convenionali. Ca urmare, tot mai multe
laboratoare academice i industriale efectueaz studii detaliate asupra chimiei proceselor
de sintez a poliimidelor siloxanice.
Principalele aplicaii ale acestor polimeri sunt legate de caracateristicile fizicochimice:
V.1.1. Masa molecular i distribuia masei moleculare
OC
CO
OC
CO
CH3
CH3
N-R-Si-(O-Si)-R
n
CH3
CH3
Schema 69
Temp. nmuiere
Temp. descomp.
(CH2)3
230-240
350
C6H 4-(CH2)3
320-350
390
C6H4
500
C6H4
340-360
500
143
cunoscute: osmometrie, difuzia luminii, cromatografie pe gel permeabil etc. Cel mai
adesea se recurge ns la msurtori de viscozitate intrinsec, ca metod empiric de
estimare a maselor moleculare. Studiile GPC efectuate de ctre Szesztay i Ghadir [160,
161] folosind calibrarea clasic cu polistiren au condus la concluzia c aceast tehnic
ofer o bun aproximare doar pentru mase moleculare mai mari de 1000 g/mol. Arnold i
colaboratorii au stabilit i ei anumite corelaii ntre viscozitatea intrinsec i curba de
eluie [161-166]. Mai recent, Konas .a.[167, 168] au subliniat necesitatea folosirii unor
aditivi ca LiBr sau P2O5 n scopul eliminrii efectelor de absorpie aparent ale soluiilor
poliimidice, astfel nct tehnica GPC s ofere o bun estimare a maselor moleculare ale
poliimidelor siloxanice.
V.1.2. Solubilitatea
S-a studiat comportarea unei serii de copolimeri siloxan-imidici n diferii solveni
cu parametri de solubilitate cunoscui. Structura copolimerilor luai n studiu poate fi
redat cu formula general (Schema 70):
CO
(CH2)3-N
N-(CH2)3-Si-O-Si
R
CO
CH3 CH3
CO
CO
CH3 CH3
n care:
CO
R=
pentru II si IV
pentru I si III;
144
Solvent
II
III
IV
DMF
++
Metanol
--
--
--
--
Etanol
--
--
--
--
CHCl3
++
++
++
++
CH2Cl2
++
++
++
++
Toluen
++
++
++
CCl4
++
++
Ciclohexan
--
--
++
++
145
146
Pierderi n greutate
% gravim.
(%)
Poliimida de control
3,0
910
30
0,9
910
50
<0,05
147
cristalinitatea segmentelor.
n cazul poliimidelor siloxanice, segmentul soft este aproape ntotdeauna
148
Fig. 62 Curbele DSC pentru un film de poliimid siloxanic, la diferite viteze de nclzire.
Studii mai detaliate asupra aspectelor morfologice au fost realizate de ctre L.T.
Shi cu ajutorul analizelor termomecanice [180] efectuate pe probe de poliimide
siloxanice, la diferite viteze de nclzire (Fig. 63). El constat prezena a dou puncte de
tranziie : primul la 125 0C, independent de viteza de nclzire i o a doua tranziie,
dependent de viteza de nclzire i situat n domeniul 172-192 0C.
149
Tabel 22. Distanele medii interdomenii i mrimile medii ale domeniilor siloxanice i imidice
Compoziie
Mn PS
d (nm)
<r02>1/2 (nm)
Imida (nm)
PS
50% PS
800
10
1,7
8,3
40% PS
2614
23
3,4
20
50% PS
2614
17
3,4
13
60% PS
2614
14
3,4
11
150
Datele din tabel au fost calculate pentru un copolimer segmentat obinut printr-o
reacie clasic n dou etape ntre o dianhidrid organic i un oligomer siloxanic cu
capete aminopropil, alturi de care s-a utilizat i o diamin aromatic. Distanele
interdomenii s-au calculat pe baza legii Braggs : n = 2dsin, n care = unghiul de
difracie, iar mrimea medie a domeniului siloxanic pe baza relaiei lui Flory [184] :
<r02> = 6,3 nl2, n care : l = 0,164 nm pentru o legtur siloxanic iar n = 67 i 18 pentru
mase moleculare ale oligomerului de 2614, respectiv 800 g/mol. Domeniul imidic s-a
considerat a fi dat de diferena dintre distana interdomenii i mrimea domeniului
siloxanic.
Date mai exacte asupra morfologiei acestor copolimeri au putut fi obinute prin
utilizarea tehnicii moderne: microscopie electronic (TEM) [185, 186], spectroscopie
fotoelectronic de raze X (XPS) [187], spectroscopie n infrarou (ATR-FTIR) [188],
spectrometrie de mas (SIMS) [189], microscopie atomic [190], microscopie laser
[191]. Studiile efectuate cu ajutorul acestor tehnici au artat c un coninut siloxanic de
aproximativ 20% ntr-un copolimer pe baz de polidimetilsiloxan cu mas molecular de
1000 g/mol, va determina o foarte fin separare microfazic. Odat cu creterea
concentraiei i masei moleculare a siloxanului la aproximativ 50%, respectiv 4500
g/mol, se constat apariia unei morfologii bifazice foarte bine definite [192-194].
O rezultant a morfologiei copolimerilor siloxanici o reprezint proprietile de
suprafa ale acestora. Datorit volumelor molare mari, combinate cu energiile de
coeziune sczute i flexibilitatea nalt, polidimetilsiloxanii au energii superficiale extrem
de joase. Ca urmare, copolimerii coninnd siloxani ca i amestecurile lor cu ali polimeri
vor fi afectai de acest fapt. Proprietile de suprafa sunt studiate de obicei prin
msurtori ale unghiului de contact cu apa [195]. Astfel de studii efectuate asupra unor
poliimide siloxanice au artat c ncorporarea siloxanilor n poliimide determin o
mbuntire a hidrofobicitii copolimerului rezultat (Tabelul 23 ).
151
Tabel 23. Rezultatele msurtorilor unghiurilor de contact i absorbiei apei la suprafaa unui
copolimer siloxan-imidic
PS
Mn (g/mol)
0
%
0
Unghi de contact
()
72
Ap absorbit
(%)
2,70
910
10
98
910
30
97
0,70
910
50
104
0,30
Dup cum se vede din tabelul 23, un alt efect al ncorporrii siloxanilor n
poliimide este reducerea cantitii de ap absorbit de ctre copolimerul rezultat. Acest
lucru este foarte important avnd n vedere c poliimidele sunt plastifiate prin absobie de
ap, fapt care influeneaz negativ performanele acestora.
Con. siloxanic
% gravim.
0
15,2
15,2
15,2
26,5
26,5
26,5
35,4
35,4
35,4
53,0
53,0
53,0
Nr. uniti
siloxanice
0
10
21
40
10
21
40
10
21
40
10
21
40
Rezist. la rupere
MPa
100,1
63,7
65,1
68,4
48,6
57,8
61,3
31,3
44,9
52,0
12,0
21,2
21,9
152
Alung. La rupere
%
12,1
34,3
29,0
17,2
54,3
40,0
33,3
73,8
61,6
40,5
109,9
66,0
51,8
153
Mn segm. siloxanic
g/mol
Homopoliimida
P(O2)
P(N2)
P(CH4)
P(CO2)
1,15
P(O2)/
P(N2)
2,86
P(CO2)/P
(CH4)
12,17
1,85
0,65
0,09
1000
9,3
3,2
4,5
34,1
2,9
7,5
2500
6,3
1,7
1,6
16,0
3,6
9,8
Sistemul poliimidic
Constanta dielectric
BTDA-DDS
3,17
BTDA-DDS-PS
3,09
6F-BIS P
2,62
6F-BIS P-PS
2,54
155
CF3
CO
CO
O
S
CO
6F
BTDA
H2N
CF3
CO
CO
CO
CO
CO
CO
NH2
H2N
DDS
CH3
CH3
CH3
CH3
NH2
BIS P
156
nclzire
scindarea lantului
Scindare avansat cu
formare de produse mici moleculare
Fig. 66 Mecanismul de formare a cenusii
157
reticulare avansat
cu formare de
cenus
biacrilamid
(CH2=CH-CONH-CH2-NHCO-CH=CH2),
se
obine
158
Dac hidrogelul este nclzit peste 350C, legturile de hidrogen se rup i structura
devine dezordonat, ca n Fig. 68 (b). Variaiile volumului relativ al hidrogelului, odat
cu temperatura, sunt ilustrate n Fig. 69.
Fig. 69(a) ilustreaz umflarea rapid a hidrogelului la 350C. Se observ c
creterea de volum este de cca. 13 ori. n plus, variaia este reversibil, hidrogelul
strngndu-se la loc, odat cu rcirea sub 350C. Comportamentul reversibil de umflarestrngere este ilustrat n Fig. 68(b), n cazul unei soluii de 10 % mol. n ap distilat.
Temperatura a fost variat n trepte, ntre 35 i 400C. Variaia n timp, a creterii relative
de volum, a soluiei de hidrogel, este ntr-o bun concordan cu variaia temperaturii:
umflare la nclzire i strngere la rcire. n plus, se constat c meninerea constant a
temperaturii nu a produs variaii semnificative ale volumului. Prin imersarea hidrogelului
ntr-o soluie de ketoprofen dizolvat n metanol, s-a reuit ncrcarea medicamentului n
polimerul aflat n stare compact. Temperatura de rupere a legturilor de hidrogen (deci
de umflare) poate fi controlat prin intermediul unei soluii-tampon de fosfat.
159
160
particular, atunci cnd se introduc ioni metalici, se obin materiale compozite polimer
ionic-metal care sunt descrise pe scurt la sfritul seciunii urmtoare [219].
161
pstrarea att a formei ct i, mai important, a limii buclei de histerezis, ceea ce indic o
cretere clar a frecrii interne specifice, deoarece raportul dintre frecarea intern
(proporional cu suprafaa buclei de histerezis) i energia total consumat la ncrcare
(proporional cu suprafaa de sub curba de ncrcare) crete.
162
a
x
)
(1-cos
2
l
1 a
x
sin
1 2
l
F
2(1 )
163
Considernd c, atunci cnd sunt activate, srmele din AMF se comprim, ele vor
fi alungite de reaciunea matricei. Fora dezvoltat de srma din AMF, notat FAMF pe
figura 2.110, genereaz un moment reactiv, datorit excentricitii (e):
MAMF = FAMFe
La nivelul ntregului material compozit cu memoria formei, momentul de
ncovoiere rezultant este egal cu diferena dintre momentele definite anterior.
Mrez =
F
-FAMFe
2(1 )
0 =
a
a
2(1 ) 2
M AMFl 2
8EI
rez = 0-AMF =
a
M
l2
- AMF
8EI
2(1 )
164
165
secunde. Dac la proprietile de mai sus se adaug densitatea foarte redus, (12,5)103kg/m3 i reziliena ridicat, se obin calitile eseniale care recomand
materialele compozite polimer ionic-metal drept candidai ideali pentru fabricarea
muchilor artificiali. Deplasarea acestei categorii de muchi este dependent de
frecvena curentului aplicat i cantitatea de ap absorbit. Utiliznd filme subiri, obinute
din aceste materiale compozite, s-au conceput actuatori liniari (cu detecie cvasi-static)
sau de tip platform (cu detecie dinamic) utilizai ntr-o serie de ansambluri robotice
experimentale care se pot deplasa pe sol, n ap sau n aer sau pot vibra n stare staionar
[225].
166
167
Fig. 73.
Deformaiile de saturaie au fost calculate pentru intervalul de la 50 la -90C,
naintea producerii transformrii martensitice (Ms -100C). Se constat c n vecintatea
temperaturii Ms, viteza de scdere a deformaiei de saturaie atinge valoarea maxim
[229].
n ciuda rezultatelor promitoare, materialele magnetostrictive cu memoria
formei sunt deocamdat, doar la stadiul de laborator.
168
169
CH2Br
CH2F
KF-18-C-6
100%
Schema 72
72
KF
O2N
CH=CHBr
DCH-18-C-6
O2N
CH
Schema 73
F
NO2
O2N
+
K 18-C-6
CH3CN
NO2
NO2
O2N
-
NO2
Schema 74
170
CH2OCOCH3
CH3COOK
18-C-6
100 %
Schema 75
+
K DCH18-C-6
COCH2Br
+
(-)
O-CO-R
C
O
CH3CN
Br
CH2
O
C
Br
98 %
Schema 76
(CH3)3SiCl
Schema 77
18-C-6-t-BuOK
CH3
CH2
DMSO
Schema 78
171
O
COOH
Schema 79
CH2X
K2CrO4
- +
RCH2OCrO3 K
18-C-6
RCHO
80 %
HMFA, 100 C
Schema 80
172
VI.
VI.1.2.1.
1.2.1. Eteri
Eteri coroan\
coroan\ sensibili la pH
Acest tip de combina]ii macrociclice con]in una sau mai multe grupe func]ionale
carboxilice a[ezate la periferia ciclului eteric [257-259]. Ele `[i modific\ abilitatea de
legare `n func]ie de pH-ul mediului, mai exact, `n mediu acid abilitatea de legare este
redus\ iar `n mediu bazic este crescut\. Mai jos se prezint\ dou\ tipuri de astfel de
combina]ii (Schema 81):
O
O
O
COOH
CO-NH(CH2) CH3
n
O
n= 7, 13, 17
O
X= COOH
Y= CON(n-Pr)CH2CH2OCH2CH2N(n-Pr)COCH2C6H5
Schema 81
Un macrociclu asem\n\tor celui preparat de Lehn cu func]iune de acid dicarboxilicdicarboxamid\ [260] a demonstrat eviden]a regl\rii prin pH a selectivit\]ii transportului
ionic. Trasnsportul preferen]ial de potasiu trece la transport preferen]ial de calciu c=nd
pH-ul cre[te de la 2la 9 `n faza apoas\ ce con]ine cei doi ioni metalici.
VI.1.2.2.
VI.1.2.2. Eteri coroan\
coroan\ fotosensibili
Cu inten]ia de a folosi izomeria trans (E) - cis (Z) a unit\]ii azobenzenice, Shinkai
[261] a `ncorporat acest cromofor `ntr-o varietate de polieteri macrociclici pentru a realiza
eteri coroan\ fotosensibili . Moleculele acestor noi polieteri sufer\ interconversii
fotoinduse reversibile ale grupei azo `ntre formele trans (E) [i cis (Z) ceea ce duce la
modific\ri substan]iale ale conforma]iilor centrilor de leg\tur\ [i implicit la modific\ri ale
propriet\]ilor de complexare ale cationilor. De exemplu, fotoiradierea compusului azo
derivat de benzo15-coroan\-5 a dus la modific\ri remarcabile ale capacit\]ii de
complexare: forma trans (E) a extras Na+ de 5.6 ori mai eficient dec=t forma cis (Z), `n
timp ce aceasta din urm\ a extras K+ de 42.5 ori mai eficient dec=t trans (E) [262]
(Schema 82).
173
O
O
O
O
N
O
O
O
O
Trans (E)
Cis (Z)
Schema 82
CH
H2C
OH
CH H2C
H2C
Cl
SnCl4
+
OH
O
NaOH
OH
CH2Cl
Cl
CH2
CH
H32C
OH
O
O
O
Schema 83
174
O
O
VI.1.3.
VI.1.3. Separare
Separare cromatografic\
cromatografic\
Selectivitatea ridicat\ a liganzilor macrociclici confer\ avantaje mari `n procesul de
reparti]ie cu aplica]ii utile `n cromatografie, at=t ca specii active `n faza mobil\ c=t [i `n
faza sta]ionar\. Dac\ ligandul este imobilizat covalent pe faza sta]ionar\ el permite
repartizarea cationului M+ `nso]it de anionul A- `ntre cele dou\ faze ale sistemului
cromatografic.
Liganzii macrociclici cu unit\]i dinaftil au fost utiliza]i la separarea enantiomerilor
din amestecuri racemice de s\ruri ale aminelor secundare [i de esteri ai aminoacizilor
[264-266] (Schema 84).
O
O
O
O
M+
O
M
O
faza stationara
faza mobila
Schema 84
175
-benzo15-coroan\-5
-benzo18-coroan\-6
-dibenzo21-coroan\-7
Utiliz=nd tehnica HPLC s-au separat s\rurile metalelor alcaline [269-271] folosind
ca eluent amestecul 10% ap\/metanol, mai eficient dec=t apa. Din cauza faptului c\
utilizarea sub form\ de faz\ sta]ionar\ pe silicagel `n coloanele cromatografice necesit\
cantit\]i mari de ligand, a c\rei sintez\ este elaborioas\ [i neeconomic\, aceast\ aplica]ie
este actualmente limitat\. Al]i autori au utilizat `n cromatografia capilar\ polisiloxani
func]ionaliza]i, depu[i pe suport poros la temperatur\ de 230-250 oC [272, 273].
Eficacitatea, `n acest caz, este mai mare de 5000 talere teoretice/ m ceea ce asigur\ o bun\
separare a cationilor metalici. Necesarul de ligand pentru faza sta]ionar\ `n acest caz este
mic deoarece astfel de compu[i umplu eficient golurile mediului polar corespunz\tor al
fazei sta]ionare. Aceast\ aplica]ie a suscitat un mare interes. Lucr\ri similare au fost
dezvoltate [i ulterior de al]i autori [270,274,272, 275]. Este posibil ca aceast\ aplica]ie
important\ s\ fie folosit\ cu succes [i `n tehnica HPLC.
VI.1.4.
VI.1.4. Transport ionic prin membrane lichide
Membranele lichide sunt sisteme ce separ\ dou\ faze apoase [i con]in transportori
macrociclici, ce au rolul de a m\ri solubilitatea unei specii chimice `n faza membran\. ~n
acest fel, se asigur\ fluxul [i selectivitatea transportului speciei chimice, ca urmare a
interac]iunilor dintre transportor [i specia transportat\.
Faza apoas\ care con]ine specia ce urmeaz\ a fi transportat\, este numit\ faza surs\,
iar faza apoas\ care prime[te specia transportat\, poart\ denumirea de faz\ acceptoare.
Solventul organic lipofil, care con]ine transportorul, se nume[te faza membran\. Procesul
de transport prin membrane este controlat de difuzie [i caracterizat de un echilibru la
interfa]a faza surs\-membran\ exprimat prin rela]ia:
[M(+)]w + [L]m + [A(-)]W <------> [MLA]m
M(+) - cation transportat
L
- transportor macrociclic
176
faza
acceptoare
faza
sursa
faza
acceptoare
faza membrana
Exemplu de membrana lichida
Fig 74. Membrana lichida
178
Fig.76
Fig.76.
76. Influenta concentratiei picratului asupra vitezei de transport
(a) - t1; (b) - t2; ( c ) - t3
180
VI.1.5.
VI.1.5. Cristale lichide
lichide
Prezent=nd avantajul de a `mbina propriet\]ile caracteristice mesofazelor
(anisotropie optic\, dielectric\, magnetic\, etc.) cu cele ale materialelor macromoleculare
(rezisten]\ mecanic\, plasticitate [i elasticitate, capacitatea de a se trage `n folii, etc.)
polimerii cu structur\ cristalin\ au atras aten]ia multor cercet\tori. Destul de recent, o
serie de lucr\ri au prezentat sinteza [i caracterizarea polisiloxanilor ce con]in `n grupele
mesogene, eteri coroan\ [281, 282]. Polimerul prezentat mai jos, pentru care grupa de
distan]are flexibil\ are m= 8, prezint\ o mesofaz\ enantiotropic\ nematic\ [i una smectic\
(Schema 86)
Me
Me3SiO - (Si-O) - SiMe3
n
(CH2)
m
O
4
4'
O
CO
4'
O
O
Schema 86
181
O
a) m = 5 , R =
O
O
b) m = 11, R =
( Si
0.65
0.70
O ) ( Si
O
O)
0.35
(CH2) 0.30 n
m
R
OCO
c) m = 5, R =
O
O
O
O
OCO
d) m = 11, R =
e) m = 5, R =
OCO
f) m = 11, R =
OCO
Schema 87
Copolimerii (a), (b) `n care unitatea 1,3-dioxanic\ este prins\ direct de ligand, nu
manifest\ propriet\]i de cristal lichid. Introducerea unit\]ii suplimentare C6H4OCO- `ntre
ligand [i unitatea 1,3-dioxanic\ (c), (d), are ca rezultat o mesofaz\ nematic\ [i
cristalizarea lan]ului lateral la temperaturi joase. Structurile (e), (f), manifest\ mesofaze
pe domenii `nguste [i au temepratura de isotropizare cobor=t\. Un alt copolimer siloxanic
[122.123], a dovedit comportare de mesofaz\ enantiotropic\, lan]ul lateral av=nd
urm\toarea structur\ (Schema 88):
Si -(-CH2) - O - R - OCO m
a) m = 5, R = C6H4
O
O
b) m = 11, R = C6H4
O
c) m = 5, R =
a) m = 1, R =
Schema 88
182
VI.1
VI.1.6.Extrac]ia cu solven]i
Liganzii macrociclici cu diferi]i atomi donori, prezint\ o cavitate intramolecular\ cu
propriet\]i endopolarofile [i o structur\ exterioar\ cu caracter exolipofil. Specii ionice sau
moleculare pot fi legate electrostatic `n interiorul cavit\]ii iar complexul format, se poate
repartiza preferen]ial `n faza organic\ a unui sistem ap\-solvent organic [285]. Procesul
de extrac]ie este favorizat de stabilitatea complexului aceasta fiind controlat\ de
potrivirea dimensional\ dintre specia complexat\ [i cavitatea intramolecular\. Utilizarea
polimerilor care con]in eter coroan\ `n procesul de extrac]ie are drept scop m\rirea
eficien]ei extrac]iei [i evitarea pierderilor de ligand. Primul extractant lichid-selectiv
[286] a fost utilizat pentru separarea s\rurilor aminelor secundare din amestecuri de
amine secundare [i ter]iare protonate. Utilizat [i la un sistem biologic, extractantul a
separat norcodeina de codein\ dintr-un amestec echimolecular de fermenta]ie cu o
concentra]ie de 10-3-10-4 moli/l. Al]i polisiloxani func]ionaliza]i cu eteri coroan\ nu au
probat capacitate de extrac]ie [287] sau sunt abia `n stadiul de investiga]ie [288]. Se poate
conchide c\ `ncep s\ se contureze o serie de corela]ii `ntre structura liganzilor
macrociclici [i eficien]a lor `n procesele de extrac]ie. De asemenea `ncepe s\ fie
cunoscut\ influen]a altor parametri, dar p=n\ s\ se poat\ vorbi de o inginerie a conducerii
proceselor de extrac]ie selectiv\ cu liganzi macrociclici, mai sunt multe aspecte ce
trebuiesc temeinic studiate.
VI.1.7.
VI.1.7. Cataliz\
Cataliz\ prin transfer interfazic
Este o tehnic\ de lucru simpl\, care permite realizarea unor viteze de reac]ie [i
conversii mari, selectivit\]ile fiind mai ridicate dec=t `n cazul reac]iilor conduse `n
sisteme omogene. Reac]iile au loc `n sistem bifazic, una din faze fiind de natur\ organic\.
Reactan]ii de natur\ ionic\ sunt dizolva]i `n faza apoas\ iar substratul ce urmeaz\ a fi
transformat este dizolvat `ntr-un solvent aprotic. Transportul anionilor din faza apoas\ `n
cea organic\, unde are loc reac]ia chimic\, se realizeaz\ prin intermediul unor cantit\]i
catalitice de agen]i lipofili. Eterii coroan\ complexeaz\ reversibil cationul metalic,
anionul asociindu-se complexului. ~ntregul ansamblu, neutru din punct de vedere electric,
se deplaseaz\ `n faza organic\.
183
184
astfel de materiale pot rezista la temperaturi mari i pot fi prelucrate din soluii.
Pentru investigarea proprietilor piezoelectrice ale copolimerilor siloxan-imidici
185
na
Cod
siloxanic
(CH2)3
CX
ICX
- ,, -
1,5
COX3
ICOX3
- ,, -
2,0
COX4
ICOX4
- ,, -
8,3
COX2
ICOX2
(CH2)8COOCH2
SM
ISM
diferite mase moleculare s-au obinut prin echilibrarea cationic a octametilciclotetrasiloxanului cu 1,3-bis(carboxipropil)tetrametildisiloxan (CX), n diferite rapoarte molare.
Bis(sebacometil)-tetrametildisiloxanul, SM, s-a sintetizat conform cu datele din
literatur [304], cu deosebirea c s-a lucrat n soluie (DMF), la reflux. Reacia s-a
desfurat conform schemei (Schema 89):
186
Poli(ester-imide) siloxanice:
CH3
CH3
ClCH2
Si
Si
CH3
HOOC
(CH2)8
KOOC
(CH2)8
CH3
CH3
HOOC
(CH2)8
COOH
CH2Cl +
COO
CH2
COOK
CH3
Si
Si
CH2
OOC
(CH2)8
COOH
+2KCl
CH3
CH3
SM
Poli(amid-imide) siloxanice
Schema 89
Sunt
obinute
prin
policondensarea
unor
dicloruri
acide
imidice
cu
aminoalchilsiloxani.
Poliamidele sunt tipuri de materiale cu bun rezisten mecanic i un mare
domeniu de aplicabilitate. ncorporarea unitilor siloxanice n astfel de sisteme poate
determina apariia unor alte proprieti: rezisten la impact, stabilitate hidrolitic, bune
proprieti de suprafa. O serie de cercettori au studiat eficiena metodelor de sintez a
unor copolimeri siloxan-amide [305-310] plecnd de la ideea c, atunci cnd se combin
caracterul i stabilitatea termic a legturii amidice cu elasticitatea polisiloxanilor, este
posibil s se obin noi elastomeri cu foarte bune proprieti termice (Schema 90).
Copolimeri de tip II:
CH3
H2 N
(CH2)3
Si
CH3
CH3
CH3
Si
Si
CH3
O
q
(CH2)3
CO
CO
ClCO
NH2 +
CO
CO
CH3
(IM)
(I)
CO
CO
N
CO
CO
NH
(CH2)3
Si
CH3
CH3
CH3
OC
COCl
Si
Si
(CH2) 3
NH
N
CH3
CO
CH3
CH3
(II)
187
Tabel 28. Codurile acestor compui s-au nregistrat funcie de natura gruparii X, astfel:
Proba
%C
%H
%Si
[]
Calc.
Exp.
Calc.
Exp.
Calc.
Exp.
dl/g
II a1
CH2
64,9
63,8
5,54
5,51
7,38
7,42
0,34
II a2
SO2
59,4
58,5
4,95
4,88
6,93
7,00
0,29
II a3
63,1
62,9
5,26
5,22
7,36
7,38
0,31
II b1
10
CH2
49,7
48,6
6,74
6,70
21,6
21,8
0,21
II b2
10
SO2
47,2
47,1
6,37
6,31
20,8
20,9
0,23
II b3
10
48,8
47,9
6,59
6,42
21,5
21,9
0,21
II c1
35
CH2
39,9
39,1
7,51
7,12
30,7
30,9
0,18
II c2
35
SO2
38,9
37,8
7,34
6,98
30,2
30,6
0,16
II c3
35
39,5
40,1
7,45
7,32
30,7
31,1
0,16
CO
OC
H2N-Ar-NH2
CH3 CH3 CH
3
CO
N-(CH2)3-Si-O-Si-O-Si-(CH2)3-N
CO
CO-NH-Ar-NH
CO
(III)
Ar = C6H4-C6H4 ; C6H4-CH2-CH2-C6H4 ; C6H4-O-C6H4
q = 0; 4; 13.
Schema 91
188
Tabel 29. Codurile acestor compui s-au stabilit funcie de natura grupei Ar astfel:
Cod
Ar
%C
%H
%Si
Calc.
Exp.
Calc. E xp.
Calc.
[]* dl/g
Exp.
IIIa
Ph-Ph
64.5
62.9
5.1
5.9
7.5
7.7
0.41
0.68
IIIb
Ph-(CH2)2Ph
65.2
63.8
5.4
6.1
7.2
7.3
0.38
0.65
IIIc
Ph-O-Ph
63.1
61.7
5.0
5.8
7.3
7.5
0.38
0.70
IIId
Ph-Ph
55.3
54.1
5.9
6.2
16.1
16.5
0.34
0.60
IIIe
Ph-(CH2)2Ph
56.1
54.2
6.2
7.1
15.7
15.9
0.29
0.61
IIIf
Ph-O-Ph
54.5
52.9
5.8
6.2
15.9
16.2
0.31
0.58
IIIg
13
Ph-Ph
46.4
44.2
6.9
7.3
24.6
24.7
0.29
0.52
IIIh
13
Ph-(CH2)2Ph
47.0
46.1
7.0
7.5
24.2
24.2
0.23
0.60
IIIi
13
Ph-O-Ph
46.0
43.9
6.8
7.5
24.4
24.8
0.27
0.55
determinat n DMAc, la 25 0C
prezentul studiu, s-a utilizat pentru construirea modelului molecular, metoda AM1
(Austin Model 1) [314]. Aceasta elimin dezavantajul MNDO prin reconsiderarea
funciilor ce descriu interaciunile internucleare. Astfel, funcia de atracie a fost
proiectat s contracareze efectul de repulsie i a fost centrat pe zona n care acesta
prezint intensitatea cea mai mare. Funcia repulsiv a fost utilizat pentru rezolvarea
interaciunilor nucleare de intensitate mai mic. Avantajul utilizrii unui astfel de
program semi-empiric de calcul orbital se reflect n creterea vitezei de lucru deoarece
simplificrile aduse la nivelul integralelor modific numrul de funcii de baz de la N4 n
cazul metodelor ab initio la N3. Drept urmare, prin aceast metod se pot calcula
molecule relativ mari. Un alt avantaj important rezult din aceea c metodele semiempirice sunt parametrizate pe baze experimentale, fapt care implic includerea unor
efecte de interaciune electronic i n modelul final.
Pentru calculul modelelor moleculare s-au utilizat pachetele de programe
specializate: Hyperchem i Molecular Modelling Pro. Modelul molecular calculat pentru
segmentul imidic din copolimerii ICX, ICOX i ISM, notat dipol I, este prezentat n Fig.
78.
Fig 78. Modelul molecular pentru segmentul imidic din copolimerii ICX, ICOX i ISM
190
191
192
Copolimer
Moment
(debye)
0.886
1.106
1.983
3.407
0.460
11.146
2.271
1.981
0.269
193
194
195
Secvena 1
Secvena 2
Fig. 83 Studiul conformaional al copolimerilor ICOX
196
VI.2.2.
VI.2.2. Comportarea dielectric a copolimerului ICX polarizat
Pentru determinarea experimental a comportrii piezoelectrice, o prob de
polimer este adus la o temperatur superioar celei de tranziie pentru a se obine un
grad maxim de mobilitate a dipolilor. Ulterior asupra probei se aplic un cmp electric de
polarizare care are rolul de a orienta dipolii. Prin rcirea materialului n cmpul de
polarizare se obine o structur
197
Const. dielectrica
20
15
10
5
0
0
20
40
60
80
100
Temperatura, C
198
199
Progress
in
Shape
Memory
Alloys,
(Eucken,
S.,
editor),
200
DGM
11. Clugaru, G., Bujoreanu, L.G., Stanciu, S., Hopulele, I., Climan, R., Turcu, O.L. i
Apachiei, I. Memoria formei. Fenomene i aplicaii n tiina materialelor, Editura
Plumb, Bacu, 1995, ISBN 973-9150-50-0.
12. Bujoreanu, L.G., Dia, V. i Mrginean S. Tehnologie i utilaje de obinere a unor
aliaje cu memoria formei. Vol.I, Editura tiinific Fundaia Metalurgia Romn,
Bucureti, 1998, ISBN 973-98314-2-7
13. Schumann, H. Metalurgie fizic (traducere din limba german), Editura Tehnic,
Bucureti, 1962
14. Henderson, J.G. and Bates, J.M. Metallurgical Dictionary, Reinhold Publishing
Corporation, S.U.A., 1953
15. Gdea, Suzana i Petrescu, Maria, - 7. Transformarea martensitic i bainitic n
Metalurgie fizic i studiul metalelor, Vol. III, Editura didactic i pedagogic, Bucureti,
1983, 254-303
16. Htrscu, O., Iordnescu, P., Rozolino, P. i Tripa, I. Mic enciclopedie de
metalurgie, Editura tiinific i enciclopedic, Bucureti, 1980
17. Colan, H., Tudoran, P., Ailinci, G., Marcu, M. i Drugescu, Elena 6.3.3.
Tansformarea fr difuzie a austenitei (transformarea martensitic) n Studiul metalelor,
Editura didactic i pedagogic, Bucureti, 1983, 201-206
18. Geru, N. Metalurgie fizic, Editura didactic i pedagogic, Bucureti 1981
19. Hopulele, I., Alexandru, I. i Glusc, D.G. Tratamente termice i termochimice,
Institutul Politehnic Iai, 1983
20. Reed-Hill, R.E. 16. Deformation twinning and martensite reactions, in Physical
Metallurgy Principles, Brooks/Cole Engineering Division, Monterey, California, S.U.A.,
1973, 611-660
21. Sinha, A.K. 6. Martensite, Ferrous Physical Metallurgy, Butterworth, Boston,
1989, ISBN 0-409-90139-3, 227-279
22. Crocker, A.G. Twinned martensite, Acta metall., 10, 1962, 113-122
23. Wayman, C.M. Deformation, mechanisms and other characteristics of shape
memory alloys, Shape Mem. Eff. All., (Perkins, J., ed.), Plenum Press, 1975, 1-27
24. John, V. Testing of Materials, McMillan Education Ltd., London, 1992
201
202
203
56. Yajima S., Liaw C.F., Omori M., Hayashi J., J. Chem. Lett., 435, 1976.
57. Miller R.D., J. Inorg. Organomet. Polym., 1, 505, 1991.
58. Hasegawa Y., Kobori T., Fukuda K., US. Pat. 4 590 253/1986; Chem. Abstr., 105,
227595, 1986.
59. Martin H.P., Kurtenbach D., Muller E, , Roewer G., Key Engineering Materials Vols.
132-136, Trans Tech Publications, Switzerland, 1958, 1997.
60. G. Bourgeois, J. P. Pillot, E. Bacque, J. Dunogues, Adv. Mass Spectrometry, 11,
1108, 1989.
61. Miller R. D., Michl J., Chem. Rev., 89, 1359, 1989
62. Levin G., Carmichael J.B., J. Polym. Sci., 6, 1, 1967.
63. Montgomery F.C., Streckert H.H., Polymer Preprints, 28(2), 258, 1981.
64. Jones R.G., Benfield R.E., Cragg R.H., Evans P.J., Swain A.C., Polymer, 35, 22,
1994.
65. Pedersen C.J., J. Am. Chem. Soc., 89, 7017, 1967
66. Pedersen C.J., J. Am. Chem. Soc., 92, 386, 1970.
67. Jedlinski Z., Kurcok P., Kowalczuk M., Polymer International, 37, 187, 1995.
68. Jedlinski Z., Stolarzewicz Z., Grobelny Z., Szwarc M., J. Phys. Chem., 66, 6094,
1984.
69. Edwards P.P., Ellaboudy A.S., Holton D.M., Pyper N.C., Mol. Phys., 69, 209, 1990.
70.
71. Phillips R.C., Khazaeli S., Dye J.L., J. Phys.Chem., 89, 600, 606, 1985.
72. Jedlinski Z., Pure Appl. Chem., 65, 3, 483, 1993
73. Jedlinski Z., Kurcok P., Nozirow F., Macromol. Rapid Commun., 18, 483, 1997.
74. Ardeleanu R., Teza de doctorat, 1998.
75. Ardeleanu R., Voiculescu N., Marcu M., S\c\rescu L., S\c\rescu G.,
J. Macromol. Sci., Pure Appl. Chem., A34, 3, 1997.
76. Ardeleanu R., Voiculescu N., Marcu M., Roman Gh., Buchid\u C., S\c\rescu L.,
S\c\rescu G., Macromol. Rapid Commun., 18, 1, 1997.
77. Ardeleanu R., Voiculescu N., Marcu M., S\c\rescu L., S\c\rescu G., Buchid\u C., XI
International Symposium on Organosilicon Chemistry, Univ. Montpellier II, France,
1996.
204
78. Ardeleanu R., Airinei A., Sacarescu L., Sacarescu G., Voiculescu N., Roman Gh.,
International Conference on Materials Science & Engineering - BRAMAT99, Brasov,
Romania
79. S\c\rescu G., Voiculescu N., Marcu M., S\c\rescu L., Ardeleanu R., Simionescu M.,
XI International Symposium on Organosilicon Chemistry, Univ. Montpellier II, France,
1996.
80. S\c\rescu G., S\c\rescu L., Voiculescu N., Marcu M., Ardeleanu R., Zilele
Academice Ie[ene, Ed. XIII, 1997.
81. Ardeleanu R., Airinei A., S\c\rescu L., S\c\rescu G., Voiculescu N.,
82. Jones R.G., Benfield R.E., Cragg R.H., Swain A.C., Webb S.J., Macromolecules, 26,
18, 1993.
83. Jones R.G., Benfield R.E., Swain A.C., Macromolecular Reports, A31, 1045, 1994.
84. Becker B., Corriu R., Guerin C., Henner B., Polymer Preprints, 1987, 28, 387.
85. S\c\rescu G., S\c\rescu L., Ardeleanu R., Jedliski Z., Kurcok P., Macromol. Rapid
Commun., 22, 405, 2001.
86. Schilling C.L., Wesson J.P., Williams C., Ceram. Bullet, 62, 912, 1983.
87. McGrath J.E., Yilgor I., Advances in Polymer Science, 86, 1, 1988.
88. Madec P.J., Marechal E., J. Polym. Sci., Polym. Chem. Ed., 16, 3165, 1978.
89. Brook M. A., Kremers C. H., Sebastian T., Yu W., J. Polym. Sci., Polym. Letters, 27,
229, 1989.
90. Dvornic P.R., Lenz R. W., J. Polym. Sci., Polym. Chem. Ed., 20, 951, 1982.
91. Douglas A.L., Kenneth J.S., Chem. Rev., 95, 1431, 1995.
92. HyperChem software, Hypercube, 1993.
93. West R., Whatley L.S., Lake K.J., J. Am. Chem. Soc., 83, 761, 1961.
94. Bazant V., Chvalovsky V., Rathousky J.,Organosilicon Compounds, Publ. House
of Czechoslovak Acad. of Sci., 1, 40, 1965.
95. Andrianov K.A., Yakushkina S.E., Izv. Akad. Nauk SSSR, Ser. Khim., 1396, 1962.
96. Andrianov K.A., Delazari N.V., Volkova L.M., Rosinskaya T.Y., Alyavdin N.A., Izv.
Akad. Nauk SSSR, Ser. Khim., 1269, 1969.
97. Nametkin N.S., Islamov T.K., Guselnikov L.E., Vdovin V.M., Dokl. Akad. Nauk
SSSR, 188, 372, 1969.
98. Dunnavant W.R., Inorg. Macromol. Rev., 1, 165, 1971.
205
99. Mazurek M., Scibiorec M., Chojnowski J., Zavin B.G., Zhdanov A.A., Eur. Polym. J.,
16, 57, 1980.
100. Chojnowski J., Mazurek M., Makromol. Chem., 176, 2999, 1975.
101. Chojnowski J., Scibiorek M., Kowalski J., Makromol. Chem., 178, 1351, 1977.
102. Morantz D.J., Warhurst E., Trans. Faraday Soc., 51, 1375, 1955.
103. Cazacu M., S\c\rescu L., Caraiman D., Marcu M., Racles C., Rev. Roum. Chim.,
40(5), 1996.
S\c\rescu L., Ardeleanu R., S\c\rescu G., Marcu M., Hamciuc V., Journal of
Macromolecular Science-Pure & Applied Chemistry, A36, 10, 1415, 1999.
104. Ardeleanu R., Voiculescu N., Marcu M., S\c\rescu L., S\c\rescu G., J. Macromol.
Sci.-Pure and Applied Chem., A34, 2, 1997.
105. Ardeleanu R., Voiculescu N., Marcu M., Roma Gh., Buchid\u C., S\c\rescu L.,
S\c\rescu G., Macromol. Rapid Commun., 18(00), 1, 1997.
S\c\rescu L., S\c\rescu G., Ardeleanu R., Journal of Macromolecular Science-Pure &
Applied Chemistry, A39, 1&2, 103, 2002.
106. S\c\rescu L., Luchian N., Marcu M., S\c\rescu G., Ardeleanu R., J. Macromol. Sci.,
Pure and Appl. Chem., A34, 4, 1997.
107. S\c\rescu L., Luchian N., Marcu M., Ardeleanu R., S\c\rescu G., Iranian J. Polym.
Sci. Technol., 4, 4, 1995.
S\c\rescu L., Ardeleanu R., S\c\rescu G., Marcu M., Hamciuc V., Journal of
Macromolecular Science-Pure & Applied Chemistry, A36, 10, 1415, 1999.
108. S\c\rescu L., Ardeleanu R., S\c\rescu G., Marcu M., Hamciuc V., Journal of
Macromolecular Science-Pure & Applied Chemistry, A36, 10, 1415, 1999.
L. S\c\rescu, E. Capmare, R. Ardeleanu, G. S\c\rescu, Eur. Polym. J., 38, 983, 2002.
109. C. J. Pedersen, H. K. Frensdorff, Angew. Chem. Int. Ed. Engl., 11, 16 (1972).
110. A. Warshawsky, N. Kahana, J. Am. Chem. Soc., 104, 2663 (1982).
111. E. P. Kyba, K. Kogan, L. Sousa, D. J. Cram, J. Am. Chem. Soc., 95, 2692 (1973).
112. G. Dotsevi, Y. Sogah, D. J. Cram, J. Am. Chem. Soc., 97, 1259 (1975).
113. L. Sousa, Y. Sogah, D. J. Cram, J. Am. Chem. Soc., 100, 4569 (1978).
114. E. Blasius, K. P. Janzen, Pure Appl. Chem., 54, 2115 (1982).
115. E. Blasius, K. P. Janzen, J. Chromatogr., 201, 147 (1980).
116. M. Nakajima, K. Kimura, T. Shono, Anal. Chem., 55, 463 (1983).
206
117. K. Kimura, M. Nakajima, T. Shono, J. Polym. Sci.-Polym. Chem. Ed., 23, 2237
(1985).
118. T. G. Waddell, D. E. Leyden, J. Org. Chem., 46, 2406 (1981).
119. M. Lauth, P. H. Gramain, J. Liq. Chromatogr., 8, 2403 (1985).
120. Y. Chen, G. You, Chem. J. Chin. Univ., 4, 458 (1983).
121. K-H. Lin, C-S. Hsu, G-H. Hsiue, Polym. Mater. Sci. Eng., 59, 1167 (1988).
122. J. S. Bradshaw, R. L. Brueling, K. E. Krakoviak, J. Chem. Soc., 812 (1988).
123. J. S. Bradshaw, K. E. Krakoviak, R. L. Brueling, J. Org. Chem., 53, 3190 (1988).
124. C. W. McDaniel, J. S. Bradshaw, K. E. Krakoviak, J. Heterocyclic. Chem., 26, 413
(1989).
125. J. S. Bradshaw, K. E. Krakoviak, B. J. Tarbet, Pure Appl. Chem., 61, 1619 (1989).
126. J. S. Bradshaw, K. E. Krakoviak, R. M. Izatt, J. Heterocyclic. Chem., 26, 565
(1989).
127. J. D. Lamb, J. J. Christensen, S. R. Izatt, R. M. Izatt, J. Am. Chem. Soc., 102, 3399
(1980).
128. E. P. Kuba, R. C. Helgenson, K. Madan, G. M. Gokel, J. Am. Chem. Soc., 99, 2564
(1977).
129. R. Ardeleanu, N. Voiculescu, M. Marcu, R. Oghin\, D. C\limente, Rev. Roum.
Chim., 40, 471 (1995).
130. J. S. Wen, G-H. Hsiue, Makromol. Chem.-Rapid. Commun., 11, 152 (1990).
131. S. Gong, H. Duan, J. Xing, Y. Chen, J. Wuhan Univ., (Natural Science Edition),
41(6), 677 (1995).
132. M. M. Wienk, T. B. Stolwijk, E. J. Sudholter, D. N. Reinhoudt, J. Am. Chem. Soc.,
112, 797 (1990).
133. J. Kahovec, F. Syec, Chem. Listy, 75, 33 (1981).
134. U. Tunca, Y. Yagci, Prog. Polym. Sci., 19, 233 (1994).
135. I. Yilgor, J. E. McGrath, Adv. Polym. Sci., 86, 1 (1988).
136. R. Ardeleanu, N. Voiculescu, M. Marcu,Gh. Roman, C. Buchid\u, L. S\c\rescu, G.
S\c\rescu, Macromol. Rapid Commun., 18, 739 (1997).
137. M. Nakajima, K. Kimura, T. Shono, Anal. Chem., 55, 463 (1983).
138. K. Kimura, M. Nakajima, T. Shono, J. Polym. Sci.-Polym. Chem. Ed., 23, 2237
(1985).
139. T. G. Waddell, D. E. Leyden, J. Org. Chem., 46, 2406 (1981).
207
208
162. Arnold C.A., Summers J.D., Bott R.H., Taylor L.T., Ward T.C., McGrath J.E.,
SAMPE Proc., 32, 586, 1987.
163. Arnold C.A., Summers J.D., Bott R.H., Taylor L.T., Ward T.C., McGrath J.E.,
Polym. Prepr., ACS National Meeting, 28(2), 217, 1987.
164. Arnold C.A., Summers J.D., Chen Y.P., Chen D.H., Graybeal J.D., McGrath J.E.,
SAMPE Proc., 33, 960, 1988.
165. Arnold C.A., Summers J.D., Chen Y.P., Bott R., Chen D., McGrath J.E., Polymer,
30(6), 986, 1989.
166. Arnold C.A., Summers J.D., McGrath J.E., Polym. Eng. Sci., 29(20), 1413, 1989.
167. Konas M., Moy T.M., Rogers M.E., Shultz A.R., Ward T.C., McGrath J.E., J.
Polym. Sci., Polym. Phys., 33, 1429, 1995.
168. Konas M., Moy T.M., Rogers M.E., Shultz A.R., Ward T.C., McGrath J.E., J.
Polym. Sci., Polym. Phys., 33, 1441, 1995.
169. Lee H.R., Lee Y.D., J. Appl. Polym. Sci., 40, 2087, 1990.
170. Lai J.Y., Lee M.H., Chen S.H., Shyu S.S., Polymer J. (Tokyo), 26(12), 1360, 1994.
171. Tsutsumi N., Tsuji A., Horie C., Kiyotsukuri T., Eur. Polym. J., 24(9), 837, 1988.
172. Bott R.H., Summers J.D., Arnold C.A., Taylor L.T., Ward T.C., McGrath J.E., J.
Adhesion, 23, 67, 1987.
173. Okui N., Magill H.J., Polymer, 18, 1152, 1977.
174. Li H.M., Magill H.J., Polymer, 19, 829, 1978.
175. Li H.M., Magill H.J., J. Polym. Sci., Polym. Phys. Ed., 16, 1059, 1978.
176. "Rubber Modified Thermoset Resins", (ed.) Riew C.K., Gillham J.K., Adv. Chem.
Ser., no. 208, ACS, Washington D.C., 1984.
177. Huang H.H., Orler B., Wilkes G.L., Polymer Bulletin, 14, 557, 1985.
178. Xue-Hai Y., Nagarajan M.R., Grasel T.G., Gibson P.E., Cooper S.L., J. Polym. Sci.,
Polym. Phys. Ed., 23, 2319, 1985.
179. Tyagi D., McGrath J.E., Wilkes G.L., Polym. Eng, Sci., 26(20), 1371, 1986.
180. Shi L.T., Thermochimica Acta, 166, 127, 1990.
181. Koton M.M., Artenieva V.H., Kuznetov Yu. P., Vysokomol. Soedin., 24(8), 589,
1987.
209
182. Wescott J.M., Yoon T.H., Kiefer l., Rodrigues D., Konas M., Polym. Prepr., 34, 1,
1993.
183. Lescanec R.L., Hajduk, D.A., Kim G.Y., Gan Y., Yin R., Gruner S.M., Hogen-Esch
T.E., Thomas E.L., Macromolecules, 28, 3485, 1995.
184. Flory P.J., Crescenzi V., Mark J.E., J. Am. Chem. Soc., 86, 141, 1964.
185. Hasegawa H., Hashimoto T., Macromolecules, 18, 589, 1985.
186. Furuzono T., Senshu K., Kishida A., Matsumoto T., Akashi M., Polymer J. (Tokyo),
29(2), 201, 1997.
187. Chen X., Lee H.F., Gardella J.A., Macromolecules, 24, 4601, 1993.
188. Mittlfehldt E.R., Gardella J.A., Appl. Spectrosc., 43, 1172, 1999.
189. Castner D.G., Ratner B.D., Grainger D.W., Kim S.W., Okano T., Suzuki K., Briggs
D., Nakahama S., J. Biomater. Sci., Polym. Ed., 3, 463, 1992.
190. Annis B.K., Schwark D.W., Reffner J.R., Thomas E.L., Wunderlich B., Makromol.
Chem., 193, 2589, 1992.
191. Jinnai H., Nishikawa Y., Koga T., Hashimoto T., Macromolecules, 28, 4782, 1995.
192. Furukawa N., Yamada Y., Furukawa M., Yuasa M., Kimura Y., J. Polym. Sci.,
Polym. Chem. Ed., 35(11), 2239, 1997.
193. Yamada Y., Furukawa N., Polymer J. (Tokyo), 29(11), 923, 1997.
194. McGrath J.E., Dunson D.L., Mecham S.J., Hedrick J.L., Adv. Polym. Sci., 140, 61,
1999.
195. Lee H.J., Andrade J.D., n "Polymer Surface Dynamics", (ed.) Andrade J.D., Plenum
Press, New York, 1987.
196. Lai J.Y., Lee M.H., Chen S.H., Shyu S.S., Polymer J. (Tokyo), 26(12), 1360, 1994.
197. Stern S.A., Vaidyanathan R., Pratt J.R., J. Membr. Sci., 49(1), 1, 1990.
198. Mecham S.J., Rogers M.E., Kim Y., McGrath J.E., Polym. Prepr., 34(2), 628, 1993.
199. Tsujita Y., Yoshimura K., Yoshimizu H., Takizawa A., Kinoshita T., Furukawa M.,
Yamada Y., Wada K., Polymer, 34(12), 2597, 1993.
200. Yamada Y., Furukawa N., Tujita Y., High Perform. Polym., 9(2), 145, 1997.
201. Svetlichnyi V.M., Denisov V.M., Kudryavstev V.V., Polotskaya G.A., Kuznetsov
Y.P., Proc. Eur. Tech. Symp. 2nd, (ed.) Abadie M.J., Sillion B., Elsevier, Amsterdam,
525, 1991.
210
202. Kawakami Y., Yu S.P., Abe T., Polymer J. (Tokyo), 24(10), 1129, 1992.
203. Mecham S.J., Sekharipuram V.N., Rogers M.E., Meyer G.W., Kim Y., McGrath
J.E., Polym. Prepr., 35(2), 803, 1994.
204. Lai Y.J., Lee M.H., Chen S.H., Shyu S.S., Polymer J. (Tokyo), 26(12), 1360, 1994.
205. Lai Y.J., Li S.H., Lee K.R., J. Membr. Sci., 93(3), 273, 1994.
206. Li Y., Wang X., Ding M., Xu J., J. Appl. Polym. Sci., 61(5), 741, 1996.
207. Chen S.H., Lee M.H., Lai Y.J., Eur. Polym. J., 32(12), 1403, 1996.
208. Schauer J., Sysel P., Marousek V., Pientka Z., Pokorny J., Bleha M., J. Appl. Polym.
Sci., 61(8), 1333, 1996.
209. Kononova S.V., Kuznetsov Y.P., Apostel R., Paul D., Schwarz H.H., Angew.
Makromol. Chem., 237, 45, 1996.
210. Langsam M., n "Polyimides: Fundamentals and Applications", (ed.) Ghosh M.K.,
Mittal K.L., Marcel Dekker, 697, 1996.
211. Cassidy P.C., Fawcett N.C., n "Encyclopedia of Chemical Technology", (ed.)
Grayson M.E., Wiley, New York, 18, 704, 1982.
212. Verbicky J.W. Jr., n "Encyclopedia of Polymer Science and Engineering", (ed.)
Mark H.F., Bikales N.M., Overberger C.G., Menges G., Wiley, New York, 12, 364,
1988.
213. Arnold C.A., Summers J.D., Chen D., Chen Y.P., McGrath J.E., Polym. Prepr.,
29(1), 349, 1988.
214. Wescott J.M., Yoon T.H., Rodrigues D., Kiefer L.A., Wilkes G.L., McGrath J.E., J.
Macromol. Sci., Pure Appl. Chem., A31(8), 1071, 1994.
215. Nelson G.L., Fire and Polymer II ACS Symp. no. 599, 1995.
216. Sysel P., Hynek V., Sipek M., Collect. Czech. Chem. Commun., 63, 53, 1998.
217. Hurd C.B., J. Am. Chem. Soc., 68, 364, 1946.
218. Harris F.W., Norris S.O., Lanier L.H., Reinhardt B.A., Case R.D., Varaprath S.,
Padaki S.M., Torres M., Feld W.A., " Polyimides: Synthesis, Characterization and
Apllications", vol. 1, Plenum N.Y., 1984.
219. Hurd C.B., J. Am. Chem. Soc., 68, 364, 1946.
220. Zhang R., Pinhas A.R., Mark J.E., Polym. Prepr., 39(1), 575, 1998.
221. Wilson A.M., " Thin Solid Films", 83, 145, 1981.
211
222. Chen S. H., Lee M.H., Yuin Y., Eur. Polym. J., 32(12), 1403, 1996.
223. Hedrick J.L., Brown H.R., Volksen W., Sanchez M., Plummer C.J.G., Hilbern J.B.,
Polymer, 38(3), 605, 1997.
224. Bowens A.D., Robertson M.A.F., Riffle J.S., Polym. Prepr., 39(1), 569, 1998.
225. Juliano P.C., " New Silicone Elastoplastics", Tech. Information Ser., no.
74CRD172, General Electric Co., Schenectady, N.Y., 1974.
226. Mulvaney J.E., Marvel C.S., J. Polym. Sci., 50, 541, 1961.
227. Mulvaney J.E., Marvel C.S., J. Polym. Sci., 50, 541, 1961.
228. Bowens A.D., Robertson M.A.F., Riffle J.S., Polym. Prepr., 39(1), 569, 1998.
229. Mopsik F. I., Broadhurst M.G., J. Appl. Phys., 46, 4204, 1975.
230. Miyazaki, S. Thermal and stress cycling effects and fatigue properties of Ni-Ti
alloys, in Eng.Asp.Shape Mem.All. (Duerig, T.W. et al. eds.) Butterworth-Heinemann,
1990, 394-413.
231. Yinong Liu, Galvin, S.P. Criteria for pseudoelasticity in near-equiatomic NiTi
shape memory alloys, Acta mater., 45, 1997, 4431-4439.
232. Wang, F.E., DeSavage, B.F., Buehler, W.F. and Hosler, W.R. The irreversible
critical range in the TiNi transition, Journal of Applied physics, 39, 1968, 2166-2175.
233. Wu, S.K., Khachaturian, A.G. and Wayman, C.M. Superstructure of interstitial
ordering of oxygen in TiNi alloys, Acta metall., 36, 1988, 2065-2070.
234. Wu, S.K. and Wayman, C.M. Interstitial ordering of hydrogen and oxygen in TiNi
alloys, Acta metall., 36, 1988, 1005-1013.
235. Michal, G.M., Moine, P. and Sinclair, R. Characterization of the lattice
displacement waves in premartensitic TiNi, Acta metall., 30, 1982, 125-138.
236. Kudoh, Y., Tokonami, M., Myiazaki, S. and Otsuka, K. Crystal structure of the
martensite in Ti-49.2 at.% Ni alloy analyzed by the single crystal X-ray diffraction
method, Acta metall., 33, 1985, 2049-2056.
237. Golestaneh, A.A. and Carpenter, J.M. Study of martensitic transformation in
shape-memory Nitinol alloy by time-of-flight neutron diffraction techniques, Acta
metall., 38, 1990, 1291-1305.
238. Moberley, W.J. and Melton, K.N. Ni-Ti-Cu shape memory alloys, Eng.Asp.Shape
Mem.All. (Duerig, T.W. et al. eds.) Butterworth-Heinemann, 1990, 46-57.
212
239. Lindquist, P.G. and Wayman, C.M. Shape memory transformation and
transformation behavior of martensitic Ti-Pd-Ni and Ti-Pt-Ni alloys, Eng.Asp.Shape
Mem.All. (Duerig, T.W. et al. eds.) Butterworth-Heinemann, 1990, 58-68.
240. Otsuka, K., Oda, K., Ueno, Y., Piao, M., Ueki, T. and Horikawa, H. The shape
memory effect in a Ti50Pd50 alloy, Scripta metall. mater., 29, 1993, 1355-1358.
241. Moine, P., Michal, G.M. and Sinclair, R. A morphological study of
premartensitic effects in TiNi, Acta metall., 30, 1982, 109-123.
242. Easton, D.S. and Koch, C.C. Tensile properties of superconducting composite
conductors and Nb-Ti alloys at 4.20K, Shape Mem. Eff. All., (Perkins, J., ed.), Plenum
Press, 1975, 431-444.
243. Duerig, T.W., Albrecht, J., Richter, D. and Fisher, P. Formation and reversion of
stress-induced martensite in Ti-10V-2Fe-3Al, Acta metall., 30, 1982, 2161-2172.
244. Wu, M.H. Cu-based shape memory alloys, Eng.Asp.Shape Mem.All. (Duerig,
T.W. et al. eds.) Butterworth-Heinemann, 1990, 69-88.
245. Guenin, G. Mmoire de forme et alliages cuivreux, Trait. therm., 234, 1990, 2126.
246. Pearson, W.B. A Handbook of Lattice Spacings and Structures of Metals and
Alloys, Vol.4, (Raynor, G.V., editor), International Series of Monographs on Metal
Physics and Physical Metallurgy, Pergamon Press, New York, 1958, 327-331.
247. Swann, P.R. and Warlimont, H. The electron metallography of copper-aluminium
martensite, Acta metall., 11, 1963, 511-527.
248. Trieb, L. and Veith, G. Kinetics of short range order in -CuAl alloys, Acta
metall.,26, 1978, 185-196.
249. Lefeber, I. and Delaey, L. The long period superlattice phases in tempered copperaluminium martensite, Acta metall., 20, 1972, 797-802.
250. Wu, S.K. and Wayman, C.M. Interstitial ordering of hydrogen and oxygen in TiNi
alloys, Acta metall., 36, 1988, 1005-1013.
251. Otsuka, K., Wayman, C.M., Nakai, K., Sakamoto, H. and Shimizu, K.
Superelasticity effects and stress-induced martensitic transformations in Cu-Al-Ni alloys,
Acta metall., 24, 1976, 207-226.
213
252. Lindquist, P.G. and Wayman, C.M. Shape memory transformation and
transformation behavior of martensitic Ti-Pd-Ni and Ti-Pt-Ni alloys, Eng.Asp.Shape
Mem.All. (Duerig, T.W. et al. eds.) Butterworth-Heinemann, 1990, 58-68.
253. Okamoto, K., Ichinose, S., Morii, K., Otsuka, K. and Shimizu, K. Crystallography
of 1' 1' stress-induced martensitic transformations in a Cu-Al-Ni alloy, Acta metall.,
34, 1986, 2065-2073.
254. Ichinose, S., Funatsu, Y. and Otsuka, K. Type II deformation twinning in 1'
martensite in a Cu-Al-Ni alloy, Acta metall., 33, 1985, 1613-1620.
255. Xu, H.M., Tan, S., Roy, S.N., Kim, K.H. and Mller, I. The thermomechanical
behaviour of Cu-Al-Ni single crystals with shape memory, Advanced Materials and
Processes, (Exner, H. and Schumacher, V., eds.), Informationsgesellschaft Verlag, 1990,
1357-1362.
256. Kato, H., Dutkiewicz, J. and Miura, S. Superelasticity and shape memory effect in
Cu-23 at.%Mn alloy single crystals, Acta metall.mater., 42, 1994, 1359-1365.
257. Sugimoto, K., Kamei, K. and Nakaniwa, M. Cu-Al-Ni-Mn: a new shape memory
alloy for high temperature applications, Eng.Asp.Shape Mem.All. (Duerig, T.W. et al.
eds.) Butterworth-Heinemann, 1990, 89-95.
258. Morris, M.A. and Lipe, T. Microstructural influence of Mn additions on
thermoelastic and pseudoelastic properties of Cu-Al-Ni alloys, Acta metall.mater., 42,
1994, 1583-1594.
259. Huang, Yuan-Ti and Ho Ming-Ko A study of preferred orientation of martensite
and shape change during phase transformation in Cu-Al-Ni-Mn alloy, Acta metall.mater.,
40, 1992, 495-499.
260. Eucken, S., Kobus, E. and Hornbogen, E. Tensile and shape memory behaviour of
a high temperature Cu-Al-Ni-Mn-Ti alloy, Progr.Shape Mem.All., (Eucken, S. ed.),
DGM-Informationsgesellschaft Verlag, Bochum, 1992, 47-62.
261. Kennon, N.F. and Dunne, D.P. Shape strains associated with thermally-induced
and stress-induced martensite in a Cu-Al-Ni shape memory alloy, Acta metall., 30, 1982,
429-435.
262. Donovan, D.W., Barsch, G.R., Parigborn, R.N. and Finlayson, T.R. X-ray of the
martensite transformation in an indium-thallium alloy, Acta metall., 42, 1994, 1985-1996.
214
215
traciune a efectelor produse de tratamentul termic secundar (II), Metalurgia, 49, 1997,
nr. 1, 99-107.
275. Stoiber, J., Gotthardt, R. and Van Humbeeck, J. Interface reactions during
martensitic transformation in Cu-Zn-Al shape memory alloys, Adv.Mater.Proc., (Exner,
H. and Schumacher, V., eds.), Informationsgesellschaft Verlag, 1990, 1369-1374.
276. Xu, H. and Mller, I. Three different ways to influence the hysteresis in shape
memory
alloys,
Adv.Mater.Proc.,
(Exner,
H.
and
Schumacher,
V.,
eds.),
216
286. Bujoreanu, L.G., Dia, V., Drgulnescu, Elena i Roescu, G. Tehnologie i utilaje
de obinere a unor aliaje cu memoria formei. Vol.II, Editura tiinific Fundaia
Metalurgia Romn, Bucureti, 1999, ISBN 973-98314-8-6.
287. Bujoreanu, L.G., Stanciu, S., Craus, M.L. i Dia, V. Studiul unui AMF
experimental de tip Cu-Zn-Al. Analiza metalografic optic, difractometric i la
traciune a efectelor produse de tratamentul termic secundar (II), Metalurgia, 49, 1997,
nr. 1, 99-107.
288. Miura, S., Morita, Y. and Nakanishi, N. Superelasticity and shape memory effect
in Cu-Sn alloys, Shape Mem. Eff. All., (Perkins, J., ed.), Plenum Press, 1975, 389-405.
289. Velten, B. Methods for characterization of transformationand shape memory
properties, Progr.Shape Mem.All., (Eucken, S. ed.), DGM-Informationsgesellschaft
Verlag, Bochum, 1992, 23-46.
290. Melton, K.N. General applications of SMAs and smart materials, Shape
Mem.Mater., (Otsuka, K. and Wayman, C.M., eds.), Cambridge University Press, 1998,
220-239.
291. Cydzik, E. The design of electrical interconnection systems with shape memory,
Eng.Asp.Shape Mem.All. (Duerig, T.W. et al. eds.) Butterworth-Heinemann, 1990, 149157.
292. Harrison, J.D. and Hodgson, D.E. Use of Ti-NI in mechanical and electrical
connectors, Shape Mem. Eff. All., (Perkins, J., ed.), Plenum Press, 1975, 517-523.
293. Pops, H. Manufacture of integrated circuit package, Shape Mem. Eff. All.,
(Perkins, J., ed.), Plenum Press, 1975, 525-536.
294. Borden, T. Shape memory alloy fastener rings, Eng.Asp.Shape Mem.All. (Duerig,
T.W. et al. eds.) Butterworth-Heinemann, 1990, 158-169.
295. McDonald Schetky, L. - Shape memory alloy applications in space systems,
Eng.Asp.Shape Mem.All. (Duerig, T.W. et al. eds.) Butterworth-Heinemann, 1990, 170177.
296. Duerig, T.W., Stckel, D. and Keeley, A. Actuator and work production devices,
Eng.Asp.Shape Mem.All. (Duerig, T.W. et al. eds.) Butterworth-Heinemann, 1990, 181194.
217
218
307. Ienciu, M., Chirc D., Moldovan, P., Cristea, Lidia i Cinc, L. Cercetri
experimentale asupra aliajelor cu efect de memorie a formei, Metalurgia, 37, 1985, Nr.
10, 533-536.
308. Rapaciolli, R., Chandrasekaran, M., Ahlers, M. and Delaey, L. The rubberlike
behavior in Cu-Zn-Al martensite single crystals, Shape Mem. Eff. All., (Perkins, J., ed.),
Plenum Press, 1975, 385-388.
309. Rapaciolli, R. and Ahlers, M. The influence of short-range disorder on the
martensitic transformation in Cu-Zn and Cu-Zn-Al alloys, Acta metall., 27, 1979, 777784.
310. Zhang, Y. and Hornbogen, E. Effects of plastic deformation of -CuZnAl shape
memory alloys in martensitic transformation cycles , Progr.Shape Mem.All.,
(Eucken, S. ed.), DGM-Informationsgesellschaft Verlag, Bochum, 1992, 141-154.
311. Stckel, D. Shape memory actuators for automotive applications, Eng.Asp.Shape
Mem.All. (Duerig, T.W. et al. eds.) Butterworth-Heinemann, 1990, 283-294.
312. Hodgson, D.E. Using shape memory for proportional control, Eng.Asp.Shape
Mem.All. (Duerig, T.W. et al. eds.) Butterworth-Heinemann, 1990, 362-366.
313. Goldstein, D. and Weiner, E.A. A shape memory arming device, Eng.Asp.Shape
Mem.All. (Duerig, T.W. et al. eds.) Butterworth-Heinemann, 1990, 356-361.
314. Yaeger, J.R. Electrical actuators: alloy selection, processing and evaluation,
Eng.Asp.Shape Mem.All. (Duerig, T.W. et al. eds.) Butterworth-Heinemann, 1990, 219233.
315. Waram, T. Design principles for Ni-Ti actuators Eng.Asp.Shape Mem.All.
(Duerig, T.W. et al. eds.) Butterworth-Heinemann, 1990, 234-244.
219