Documente Academic
Documente Profesional
Documente Cultură
componentelor şi
dispozitivelor electronice de
putere
Principalele metode de modelare
a dispozitivelor electronice
• Model de tip întrerupător cu două poziţii:
– deschis, cu rezistenţa ROFF ridicată
– închis, cu rezistenţa RON scăzută.
Utilizat în cadrul unor analize evaluative.
• Modele interne (intrinseci).
• Macromodelare:
– Macromodelare structurală
– Macromodelare comportamentală.
Utilizate în analizele de detaliu.
Model de tip întrerupător
Măsurători
Controler
Referinţă
• Sarcina este un dispozitiv electro-mecanic.
S R ec W R ec
= =
+ + +
I com
- - -
V Com - In -
Out - Out -
Alegerea curenţilor:
D colector - curentul de prag IOFF = curentul de bază
corespunzător tensiunii bază-emitor de tăiere
(VBEt), la care tanzistorul intră în conducţie;
D bazã Wbipolar - curentul de prag ION = curentul de bază
+ corespunzător limitei de trecere din regimul
activ normal în regimul saturat de funcţionare.
Bazã -
Rezistenţele:
ROFF se calculează în funcţie de curentul
rezidual al tranzistorului;
Emitor RON se alege corespunzător tensiunii
colector-emitor de saturaţie.
V Com - In -
Out - Out -
Comutator analogic comandat în tensiune Comutator analogic comandat în curent
Modelele au la bază o sursă de curent comandată de Sursa Fcurent transformă curentul de comandă într-o
produsul între tensiunea la borne şi funcţia tensiune.
STEP(Vcom-Vprag). Vcom > Vprag Modelarea stării închis a comutatorului
Vprag = 0 pentru Vcom < Vpag
Vprag = 1 pentru Vcom > Vprag Gcomut echivalentă cu o rezistenţă Ron
Gcomut = V(Out+,Out-)* STEP(Vcom-Vprag)/Ron Gcomut = V(1,2) * STEP(Vcom – Vprag) / Ron
Vcom < Vprag Modelarea stării deschis a V (1,2)
Req Ron
comutatorului Gcomut
Gcomut = 0, echivalentă cu un circuit deschis, Rezistenţa totală între bornele de ieşire devine
rezistenţa echivalentă între bornele de ieşire este
Roff Ron Roff Ron
Exemplu
redresor monoalternaţă necomandat cu sarcină rezistivă
S1 S2
- - - - 10V
+ + + +
V2
VOFF = 0 R2
VAMPL = 10
FREQ = 50 20 4V
0
2V
S3 S4
- - - -
+ + + + 0V
0s 5ms 10ms 15ms 20ms 25ms 30ms 35ms 40ms
V- V(S2:2, N164714)
VOFF = 0.0V VOFF = 0.0V Time
VON = 0.8 VON = 0.8
ROFF = 1e6 ROFF = 1e6
RON = 1.0 RON = 1.0
Modele SPICE intrinseci
Ecuaţiile matematice ale modelelor intrinseci sunt implememtate prin subrutine
scrise în limbajul C++.
sarcinii din regiunea de drift care este realizată prin considerarea unor valori
ridicate pentru timpii de tranzit ai dispozitivelor: TT pentru diodă, TF şi TR
pentru tranzistorul bipolar.
Modelul SPICE static al diodei semiconductoare la nivele moderate de injecţie are la bază
ecuaţia lui Shockley:
Vd
I d I injec IS exp 1
N Vt
unde: Vd este tensiunea pe diodă, Vt este tensiunea termică, Id este curentul static prin diodă.
Vd Vd
I d I injec I rec IS exp 1 ISR exp 1
N Vt NR Vt
La nivele ridicate de injecţie în model se introduce parametrul suplimetar IKF (curent de cot).
Parametrii modelului static al diodei semiconductoare
Vd BV Vd BV
I d inv IBV exp IBVL exp
NBV Vt NBV Vt
unde primul termen predomină la nivele ridicate de curent, când joncţiunea intră în
conducţie, iar al doilea termen predomină în regiunea de străpungere incipientă.
Parametrii de model ai străpungerii inverse a diodei semiconductoare
QS TT I d
Spaţială de ioni necompensaţi Modelat prin intermediul capacităţii de barieră conform relaţiei
din regiunea de barieră
M
Vd
C j CJO 1
VJ
De purtători mobili din Neglijată în model
regiunea de tranziţie
Particularităţile modelului intrinsec al diodelor de putere
• Curentul de saturaţie (IS) este mult mai mare, datorită ariei mari a joncţiunii
• Rezistenţa ohmică serie (RS) este mult mai mică, datorită ariei mari a secţiunii prin
regiunile neutre de semiconductor
• Curentul de cot (IKF) de la care apar fenomenele de nivel mare de injecţie, este mult
mai mare (cu unul sau două ordine de mărime)
• Capacitatea de barieră a joncţiunii (CJO) este mult mai mare, datorită ariei mari a
joncţiunii
• Coeficientul de gradare M = 0,33 datorită formării unei joncţiuni liniar gradate între
regiunea puternic dopată de anod şi regiunea de drift a diodei
• Timpul de tranzit (TT) este mult mai mare (cu două sau chiar trei ordine de mărime),
datorită cantităţii mari de sarcină stocată în regiunea de drift a diodei.
Particularităţile modelului intrinsec al diodelor Schottky
• Curentul de saturaţie (IS) este mult mai mare, datorită ariei mari a joncţiunii
• Rezistenţa ohmică serie (RS) este mult mai mare (cu un ordin de mărime),
datorită prezenţei în diodele Schottky a unei regiuni slab dopate străbătută
doar de purtători majoritari. Nu apare fenomenul de modulare a rezistenţi
regiunii de drift de către curent
• Capacitatea de barieră a joncţiunii (CJO) este mult mai mare (cu două
ordine de mărime), datorită grosimii foarte reduse a regiunii de tranziţie ce
se formează la interfaţa metal-semiconductor
• Coeficientul de gradare (M) la diodele Schottky este de aproximativ 0,5
datorită formării unei joncţiuni PN abrupte
• Tensiunea de străpungere (BV) a structurilor Schottky este redusă (tipic
zeci de volţi)
• Timpul de tranzit (TT) este practic nul, pentru că în structura Schottky nu
există sarcină de purtători minoritari în exces, stocată în regiunile neutre
• Lăţimea benzii interzise EG este de 0,69V la diodele Schottky, faţă de
1,1eV la diodele p-n din siliciu
• Fenomenele de recombinare în regiunea de tranziţie de mici dimensiuni ce
se formează sunt practic neglijabile şi deci parametrul ISR = 0
Parametrii modelului de semnal mare al diodei semiconductoare
Notaţie
SPICE Denumire parametru Unitate măsură Valoare implicită
Anod
Catod
Modele SPICE intrinseci
Modelul SPICE intrinsec al
tranzistorului bipolar
Modelul Ebbers-Moll static
Regimul activ normal (RAN) Regimul activ invers (RAI)
V V
I C IS exp BE 1 I E IS exp BC 1
NF VT NR VT
I I
IB C IB C
BF BR
Parametrii SPICE corespunzători modelului Ebbers-Moll static al tranzistorului bipolar
Notaţie SPICE Denumire parametru Valoare implicită Unitate de măsură
IS Curentul de saturaţie de transport 1E-16 A
BF Câştigul direct maxim în curent 100
BR Câştigul invers maxim ideal în curent 1
NF Coeficientul de emisie direct 1
NR Coeficientul de emisie invers 1
VAF Teniunea EARLY directă infinită V
VAR Tensiunea EARLZ inversă infinită V
RC Rezistnţa ohmică a colectorului 0
RB Rezistenţa ohmică a bazei 0
RE Rezistenţa ohmică a emitorului 0
directă, VAF modelează efectul de modulare (variaţie) VCB în regim activ normal
Tensiunea Early a grosimii bazei de către tensiunea
inversă, VAR V în regim activ inversat
Diodele Dbe şi Dbc modelează cele
Schema electrică a modelului intrinsec două joncţiuni ale dispozitivului, sursa
Ebbers-Moll al tranzistorului bipolar de curent Ic comandată în tnsiunile de
polarizare modelează efectul de
Colector amplificare în curent al trenzistorului şi
rezistenţele serie ale terminalelor RB,
RC şi RE.
RC
Aproximaţiile
modelului Ebbers-Moll:
Dbc
Ic - Câştigurile direct (BF) şi invers
RB + (BR) în curent sunt considerate
constante, independente de
-
Dbe curentul prin tranzistor.
- Caracteristicile exponenţiale de
RE transfer trasate la scară
logaritmică sunt considerate ca
Emitor având pantă constantă pentru
toată gama de curenţi de lucru.
Modelul Gummel-Poon
Colector
RC
RE
Emitor
Regimul activ normal de funcţionare a
tranzistorului: F
(1) Zona curenţilor direcţi scăzuţi, unde se
BF
constată o scădere importantă a câştigului în
curent BF, datorită fenomenului de recombinare
în regiunile de sarcină spaţială ale joncţiunilor.
Modelarea SPICE a acestui fenomen se face
prin introducerea parametrilor ISE şi NE. (1) (2) (3)
(2) Zona curenţilor medii, unde câştigul în
curent BF este constant; în această zonă sunt IL IKF IC
valabile cu bună aproximaţie ecuaţiile Ebbers-
Variaţia câştigului BF cu valoarea
Moll.
curentului de colector
(3) Zona curenţilor mari, unde se manifestă
fenomene de injecţie puternică, concentraţia
purtătorilor minoritari în bază devenind Aceleaşi fenomene se constată şi
comparabilă cu cea a majoritarilor. pentru caracteristicile statice în
Conductivitatea bazei creşte şi câştigul în regim activ inversat, parametrii
curent scade. În această zonă coeficientul de SPICE fiind: ISC, NC, IKR şi NR.
emisie devine NK=2. Curentul de la care începe Variaţia bazei cu valoarea curentului
zona (3) (IKF) este numit curent de cot (knee) prin tranzistor este modelată prin
la nivel mare de injecţie. parametrii RB, RBM şi IRB.
Parametrii SPICE corespunzători modelului Gummel-Poon static al tranzistorului bipolar
- curenţii de saturaţie IS, ISC, ISE cresc odată cu creşterea puterii tranzistorului, datorită
ariilor joncţiunilor;
- curentul ISC este mult mai mare decât ISE, deoarece regiunea de tranziţie a joncţiunii
colectoare (în care au loc recombinările) este mult mai mare decât regiunea de tranziţie a
joncţiunii emitoare;
- tensiunea Early directă (VAF) scade odată cu creşterea puterii, tot datorită creşterii
grosimii bazei;
- rezistenţele ohmice serie ale terminalelor (RC,RB,RE) scad mult cu creşterea puterii
datorită creşterii ariei secţiunii regiunilor neutre de semiconductor;
- capacităţile CJC şi CJE cresc cu creşterea puterii, datorită creşterii ariei joncţiunilor;
- timpii de tranzit direct (TF) şi invers (TR) cresc pronunţat la creşterea puterii
dispozitivului datorită creşterii volumului de sarcină stocată în acesta.
Modelarea SPICE a fenomenului de cvasi-saturaţie a tranzistorului bipolar
Colector
Bază Emitor Bază Emitor
N P N+ N+
N+
Structura internă de tip planar a Colector
tranzistorului de mică putere
Structura internă de tip vertical a
tranzistorului bipolarde putere
Efectul de cvasi-saturaţie este datorat introducerii unei regiuni slab dopate în
regiunea de colector, necesară pentru a asigura înalta capabilitate de blocare a
tesiunilor directe.
sunt obţinuţi din cei ai modelului standard Gummel-Poon la care se adăugă încă patru parametrii.
Notaţie
Denumire parametru Valoare implicită Unitate de măsură
SPICE
RCO Rezistenţa regiunii epitaxiale (de drift) 0 OHM
Factorul sarcinii din regiunea
QCO 0 COULOMB
epitaxială
Tensiunea de cot a mobilităţii
VO 10 V
purtătorilor
Factorul de dopare al regiunii
GAMMA 1E-11
epitaxiale
Modelul SPICE intrinsec al
tranzistorului MOS
Drenã
CBD
RD
CGD
Id
RG + DBD Substrat
- DBS
Poartã RB
CGS
RS
CBS
CGB Sursã
În cadrul programului SPICE există trei nivele de bază de modelare a tranzistoarelor MOS:
KP Wef V
în regim nesaturat (liniar): I D VGS VTH DS VDS 1 LAMBDA VDS VDS
Lef 2
KP Wef
în regim de saturaţie a curentului de drenă I D VGS VTH 2 1 LAMBDA VDS
Lef
unde: Lef şi Wef sunt lungimea, respectiv lăţimea efectivă a canalului, care se obţine din
dimensiunile geometrice ale canalului prin scăderea dimensiunilor difuziilor
laterale LD şi WD
Lef = L – 2LD Wef = W - 2WD
Curentul de substrat afectează valorile reale ale curenţilor de drenă şi sursă (I D şi IS)
ID’ = ID -IDBD IS’ = IS - IDBS
Curenţii de substrat sunt curenţi prin joncţiuni invers polarizate, fiind descrişi de ecuaţia lui
Shockley
Vd
I d I injec IS exp 1
N Vt
unde IS este curentul de saturaţie şi N este coeficientul de emisie.
MOSFET N
Poartã Ib Irez
Emitor - +
+ -
Emitor
Este formată din surse de curent comandate, care modelează caracteristicile
statice ale tranzistorului bipolar şi ale tranzistorului MOS, la care se adaugă
o serie de capacităţi parazite constante şi surse de curent comandate,
echivalente cu capacităţile neliniare ale IGBT.
Sursa Imos modelează caracteristica statică de transfer dată de expresiile:
2
KF VDS
KF KP VGS VT VDS
2 V VT
Im os pentru VDS GS
1 THETA VGS VT KF
KP VGS VT 2 V VT
Im os pentru VDS GS
1 THETA VGS VT KF
Parametrul THETA descrie scăderea mobilităţii purtătorilor în canal datorită câmpului
electric intens creat de grilă şi
parametrul KF, care descrie modificarea transconductanţei tranzistorului la
funcţionarea în regim liniar: KPlin KF KP
Tranzistorul bipolar Qpnp din circuitul echivalent este modelat cu ajutorul a două
surse de curent Ic şi Ib, care descriu expresiile curenţilor de colector, respectiv de
bază:
1 VCE b 4 Dp Unde: Qeb este sarcina în exces instantanee
IC Q eb aflată în regiunea de bază,
1 b Rbază 1 b 2
W
QB este sarcina de purtători mobili a
substratului,
2
Q eb Q eb 4 NB2 b este raportul mobilităţilor celor două
Ib JSWE AREA
TAU QB e SI tipuri de purtători de sarcină.
Modelul intrinsec al IGBT modelează fenomenele:
• descrie cu precizie:
- procesele de comutaţie directă şi inversă,
- caracteristicile statice şi dinamice ale dispozitivului real.
• neglijează:
- variaţia cu temperatura a parametrilor de
model,
- scăderea transconductanţei la valori ridicate
ale curentului.
Parametrii modelului intrinsec al IGBT
Notaţie Valoare Unitate de
Denumire parametru
SPICE implicită măsură
Aria de suprapunere între metalizarea de grilă şi 5E- 6
AGD regiunea de bază (drift), ce constituie drena m2
tranzistorului MOS
AREA Aria secţiunii transversale active a dispozitivului 1E- 5 m2
VT Tensiunea de prag a IGBT 4,7 V
Tensiunea grilă-drenă de prag la care apare zona de
VTD 1E – 3 V
golire în regiunea de bază
WB Lăţimea metalurgică a bazei 9E – 5 m
KP Transconductanţa tranzistorului MOS în regim de
0,38 A/V2
saturaţie a curentului de drenă
Factorul de multiplicare a transconductanţei în regim
KF 1 -
liniar de funcţionare
MUN Mobilitatea electronilor 1,5 E ^ 3 cm2 / Vs
MUP Mobilitatea golurilor 4,5 E ^ 2 cm2 / Vs
NB Concentraţia de dopare a bazei 2 E ^ 14 1 / cm3
Densitatea curentului de saturaţie al joncţiunii
JSWE 6,5 E - 13 A / cm2
emitoare
Notaţie Valoare Unitate de
Denumire parametru
SPICE implicită măsură
BFV Factorul uniform al procesului de multiplicare în
1 -
avalanşă
BVN Exponentul procesului de multiplicare în avalanşă 4 -
CGS Capacitatea de suprapunere grilă-sursă pe unitatea
1,24 E - 8 F / cm2
de arie
COXD Capacitatea de suprapunere grilă-drenă pe unitatea
3,5 E - 8 F / cm2
de arie
TAU Timpul de viaţă ambipolar corespunzător fenomenului
7,1 E - 6 secunde
de recombinare în regiunea de bază
Macromodelarea structurală a
dispozitivelor semiconductoare de putere
• Dioda de putere
• Tranzistorul bipolar de putere
• Tranzistorul unijoncţiune
• Tranzistorul MOS de putere
• Tiristorul
• IGBT
• MCT
Macromodelarea structurală constă în construirea unui subcircuit
echivalent realizat cu ajutorul dispozitivelor SPICE intrinseci, care să se
comporte la nivel de terminale cât mai aproape de dispozitivul real.
Avantajele metodei:
- poate fi utilizată în cadrul tuturor simulatoarelor compatibile SPICE ,
- subcircuitul echivalent se construieşte relativ uşor, pornind de la structura
tehnologică internă a dispozitivului de putere.
Timpul de analiză este fixat de numărul de dispozitive de nivel ridicat
(tranzistoare) şi este proporţional cu pătratul numărului de noduri al
subcircuitului macromodelului.
Dezavantajul principal este că ecuaţiile interne ale unui dispozitiv de putere
nu pot fi simulate precis prin intermediul unei combinaţii de ecuaţii ale
dispozitivelor SPICE intrinseci.
Calitatea unui macromodel este dată de precizia de descriere a ecuaţiilor
interne ale dispozitivului corespunzător şi de uşoara extracţie a parametrilor
de model.
Macromodelarea structurală a diodelor de putere
Cpar
Dcap
Dstat
Lpar Rs Rdrift
Anod Catod
Mdrift
Hcurent Gscurgere
+ +
- -
Rdir Cdir
Rezistenţa Rs modelează rezistenţele de contactare cu terminale şi rezistenţele
regiunilor de anod şi catod puternic dopate. Acestea sunt componente
independente de curent ale rezistenţei în starea de conducţie a diodei.
Rezistenţa Rdrift modelează rezistenţa regiunii de drift în absenţa fenomenului
de injecţie. Ea se manifestă în primele momente ale comutaţiei directe,
conducând la apariţia unei supratensiuni pe diodă. Fenomenul de scădere
(modulare) a rezistenţei regiunii de drift pe măsura apariţiei fenomenului de
injecţie în diodă este modelat prin intermediul tranzistorului MOS cu canal n,
Mdrift.
În primele momente ale comutaţiei directe, tranzistorul Mdrift este blocat,
rezistenţa globală a regiunii de drift este egală cu Rdrift. Pe frontul crescător al
curentului prin diodă, tranzistorul Mdrift se deschide, şuntând progresiv
rezistorul Rdrift şi modelând procesul de modulare a rezistenţei regiunii de drift.
Timpul de comutaţie directe este modelat prin intermediul circuitului Rdir Cdir,
ce determină creşterea exponenţială a tensiunii de poartă a tranzistorului Mdrift.
Timpul de întârziere Ton este dat de timpul în care tensiunea pe condensatorul
Cdir variază de la zero până la valoarea de prag VTO a tranzistorului Mdrift.
Timpul de creştere Tr este dat de intervalul de timp între intrarea în conducţie a
tranzistorului Mdrift şi trecerea în regim liniar de funcţionare.
Inductanţa Lpar modelează inductanţa parazită a terminalelor diodei.
Dioda Dcap modelează capacitatea de barieră a diodei de putere, care are
curentul de saturaţie mult mai mic decât cel al diodei Dstat.
Curentul static prin Dcap este neglijabil, dioda fiind echivalentă cu o capacitate de
barieră (modelată prin parametrii CJO, M şi VJ. Diodele Dstat şi Dcap modelează
caracteristicile statice şi dinamice, astfel că la nivel de macromodel dispunem de
valoarea curentului static prin diodă, care este măsurat de sursa Hcurent şi
utilizat pentru comanda sursei de curent Gscurgere care modelează variaţia
curentului de scurgere cu tensiunea efectivă pe joncţiune.
Condensatorul exterior Cpar modelează capacitatea parazită a capsulei, care nu
este inclusă în modelul intrinsec al diodei.
Pentru a utiliza macromodelul la simularea diodelor Schottky pentru parametrii
diodei Dstat trebuie făcute următoarele modificări:
• timpul de tranzit (parametrul TT) trebuie setat nul, pentru că diodele Schottky nu
conţin sarcini stocate de purtători minoritari;
• lăţimea benzii interzise pentru dispozitivele cu barieră Schottky este
EG=0.69eV, faţă de 1,1eV în cazul joncţiunilor semiconductoare din siliciu;
• coeficientul de variaţie cu temperatura al curentului de saturaţie este mai redus
XTI=2, faţă de XTI=3 pentru joncţiunile din siliciu;
• diodele Schottky nu prezintă fenomene de recombinare în regiunea de tranziţie
şi nici fenomene de nivel ridicat de injecţie, în consecinţă parametrii ISR, NR şi
IKF trebuiesc setaţi nuli;
• curentul de saturaţie este cu câteva ordine de mărime mai mare, iar capacitatea
de barieră este cu mult mai ridicată, datorită dimensiunilor reduse ale regiunii de
tranziţie ce se formează la interfaţa metal-semiconductor;
• diodele Schottky sunt dispozitive unipolare în care nu apare fenomenul de
modulare în curent a rezistenţei regiunii de drift. În consecinţă se va elimina
gruparea Mdrift, Cdir, Rdir din cadrul modelului.
Avantajul macromodelului structural al diodelor de putere faţă de modelul
intrinsec, este că acesta simulează în plus timpul de comutaţie directă real,
modulaţia rezistenţei regiunii de drift de către curentul anodic şi variaţia
curentului de scurgere la polarizare inversă cu valoarea tensiunii aplicate la
borne.
Dezavantajul acestui macromodel este că nu simulează corect sarcina
stocată în regiunea de drift (pentru diodele PIN) şi din această cauză formele
de undă ale tensiunilor şi curenţilor la comutaţie inversă sunt afectate de erori.
Macromodelarea structurală a tranzistorului bipolar de putere
Rb1
Demitor Emitor Demitor
Emitor P
H emitor Gr bazã
+ + Crb
Rb2
- -
Rb2 N
Bazã 2
Baz ă 2
Elementele componente ale modelului sunt:
• rezistenţele Rb1 şi Rb2, care modelează rezistenţa regiunilor neutre ale celor
două baze;
• dioda Demitor, care modelează joncţiunea dintre contactul P de emitor şi
regiunea centrală a semiconductorului de tip N;
• sursa Hemitor, care modelează curentul prin joncţiunea emitoare şi îl
transformă într-o tensiune corespunzătoare;
• sursa de curent comandată Grbază, care modelează fenomenul de scădere a
rezistenţei regiunii de bază 1 în urma injectării unui curent de emitor;
• capacitatea Crb care modelează constanta de timp de scădere a rezistenţei
regiunii de bază 1.
Sursa de curent Grbază este comandată de:
tensiunea la borne
tensiune furnizată de sursa Hemitor.
Aceasta este echivalentă cu o rezistenţă comandată de valoarea curentului de
emitor: Grbază V Grbază V Hemitor Krb Grb
V Grbază 1
R ec
Grbază Krb V Hemitor Grb
S u r s ă G r il ă
N + N +
C g s N + N +
C g d
P P
Q p a r
R a c c e s
N -
N -
D s u b s tr R d r i ft
R e g iu n e a d e d r i ft
R s e r ie N +
N +
D r e n ă
Rdrenã
Rmax
Cgd
Dsubstrat
Eneg Mneg
+ Epoz Mpoz
+
- Jfet
Dcap -
Lgrilã Rgrilã Mosn
Grilã
Lsursã
Sursã
La funcţionarea normală a tranzistorului de putere, grila este pozitivată faţă de
substrat şi în consecinţă, la interfaţa între oxid şi regiunea de drift apare o zonă
de acumulare de electroni. Aceasta constituie drena unui tranzistor MOS de
suprafaţă ce se comportă asemănător cu un tranzistor de mică putere.
La aceasta se adaugă o structură verticală, formată din regiunea de drift şi
regiunea N+ de drenă, care contribuie la asigurarea înaltei capabilităţi în
tensiune şi curent a tranzistorului de putere.
Regiunea de acumulare, împreună cu regiunea N+ de drenă formează drena,
respectiv sursa unui tranzistor Jfet vertical, regiunea de drift slab dopată jucând
rol de substrat. La valori ridicate ale curentului de drenă (la tensiune ridicată de
grilă) canalul tranzistorului Jfet se închide,conducând la limitarea curentului prin
structură. Astfel se modelează fenomenul de scădere a transconductanţei
tranzistorului MOS de putere la nivele ridicate de curent.
Dezavantajul utilizării unui tranzistor Jfet echivalent este acela că el conduce la
o scădere discontinuă a transconductanţei în timp ce în realitate aceasta se
produce în mod progresiv.
Rezistenţa în starea ON a tranzistorului este compusă din:
- Rezistenţa regiunii de drift, modelată de către rezistorul constant Rdrift,
- rezistenţa regiunii de acces la zona de drift, modelată de către rezistorul
Racces,
- rezistenţa canalului, care variază cu tensiunea grilă-sursă, modelată de către
tranzistorului intrinsec Mosn şi
- rezistenţele de contactate cu terminale de drenă şi sursă, precum şi
rezistenţele regiunilor N+ de drenă şi sursă, care sunt modelate compact prin
intermediul rezistorului Rserie.
Modelul poate fi simplificat prin considerarea unei singure rezistenţe
echivalente.
Inductanţele parazite ale terminalelor de grilă şi sursă sunt modelate de către
inductanţele Lgrilă şi Lsursă.
Diodele anti-paralel ce apare între terminalele de drenă şi sursă ale
tranzistorului MOS de putere este modelată de către diodele Dsubstr. Aceasta
contribuie la modelarea străpungerii tranzistorului la tensiuni drenă-coelector
prea ridicate.
Parametrii de model corespunzători sunt: BV, IBV, IBVL şi NBVL.
Capacitatea grilă-drenă variază neliniar cu tensiunea la borne, ceea ce
constituie o problemă a macromodelării tranzistorului MOS de putere.
La aplicarea unei tensiuni pozitive între grilă şi drenă, la interfaţa între stratul
de oxid şi regiunea de drfit apare o regiune de acumulare de electroni, care
joacă rolul celei de a doua armături a capacităţii plane între grilă şi drenă.
Capacitatea parazită între grilă şi drenă este constantă.
Pentru tensiuni de grilă-drenă negative, electronii din regiunea de drift sunt
respinşi către interiorul substratului dând naştere unei regiuni de golire, care
joacă rolul izolatorului condensatorului echivalent dintre grilă şi drenă. Cu cât
valoarea tensiunii grilă-drenă est mai mare, cu atât lăţimea regiunii de golire
creşte şi deci capacitatea corespunzătoare scade.
Comportamentul neliniar al capacităţii grilă-drenă este asemănător cu cel al
capacităţii de barieră a unei şi este modelat de parametrii: CJO, MJ, VJ şi FC ai
diodei Dcap.
Rdrenã
Rmax
Cgd
Dsubstrat
Eneg Mneg
+ Epoz Mpoz
+
- Jfet
Dcap -
Lgrilã Rgrilã Mosn
Grilã
Lsursã
Sursã
Structura internă a tranzistorului MOS de putere
S u r s ă G r il ă
N + N +
C g s N + N +
C g d
P P
Q p a r
R a c c e s
N -
N -
D s u b s tr R d r i ft
R e g iu n e a d e d r i ft
R s e r ie N +
N +
D r e n ă
La funcţionarea normală a tranzistorului de putere, grila este pozitivată faţă de
substrat şi în consecinţă, la interfaţa între oxid şi regiunea de drift apare o
zonă de acumulare de electroni. Aceasta constituie drena unui tranzistor MOS
de suprafaţă ce se comportă asemănător cu un tranzistor de mică putere.
Qpnp
însă neglijează
străpungerea
Poartã Qnpn directă şi inversă,
sau curenţii de
N –
R e g iu n e a d e d r i f t
scurgere direct şi
P
Catod invers.
Anod
Dinv
Rinv
Qpnp
Rdir
Ddir
RG
Qnpn
Poartã
Dpc
Rpc
Rc
Catod
Schema electrică a macromodelului evoluat al tiristorului
are la bază modelul simplist al tiristorului la care pe lângă cele două tranzistoare
sunt adăugate elemente care modelează fenomenele secundare din dispozitiv.
Acestea sunt:
- diodele Ddir şi Dinv, modelează tensiunile de străpungere directă (VDRM) şi
inversă (VRRM) ale tiristorului: VDRM=BV (Ddir); VRRM =BV (Dinv)
- dioda Dpc modelează tensinea de străpungere inversă a joncţiunii poartă-catod
VRGM: VRGM = BV (Dpc);
- rezistoarele Rdir şi Rinv modelează curentul de scurgere direct (IDRM) şi invers
(IRRM) prin dispozitiv:
VDRM VRRM
R dir BFQnpn 1 ; Rinv
IDRM IRRM
- rezistorul Rpc modelează rezistenţa şunturilor catodice, dată de suprapunerea
între metalizarea de poartă şi regiunea N de catod;
- rezistorul Rc contribuie la ajustarea tensiunii pe rezistor în starea ON la valoarea
dată de catalog;
- rezistorul RG modelează tensiunea VGT şi curentul IGT de comandă pe poartă.
Baza tranzistorului Qnpn este mult mai subţire decât a tranzistorului Qpnp, asta
face ca la o primă aproximaţie se poate neglija sarcina stocată de aceasta.
Parametrii dinamici ai tiristorului sunt injumătăţiţi ceea ce uşurează extragerea
datelor de catalog. În această situaţie timpii de comutaţie directă (Ton) şi
inversă(Toff) ai macromodelului sunt determinaţi:
- de timpul de tranzit direct (TF) şi invers (TR) al tranzistorului Qpnp şi
- de câştigurile în curent (BF) ale celor două tranzistoare.
Considerând câştigurile în curent ale celor două tranzistoare BF(Qnpn) =100 şi
BF(Qpnp)=1, relaţiile pentru timpii de tranzit ai tranzistorului Qpnp şi timpii de
comutaţie ai tiristorului devin:
TF(Qpnp)=0,18Ton; TR(Qnpn)=1,7Toff
Modelarea efectului dv/dt se face de către capacitatea de barieră a joncţiunii
colectoare (CJC) a tranzistorului Qpnp. La un salt brusc al tensiunii anodice
pozitive, curentul prin capacitatea CJC devine curent de bază al tranzistorului
Qnpn, determinând intrarea în conducţie a celor două tranzistoare, deşi acest
lucru nu se doreşte.
Îmbunătăţirea converegenţei algoritmilor se face prin specificarea condiţiilor
iniţiale pentru cele două tranzistoare IC=Vbe, Vce care corespund stării blocate.
Tiristoarele cu blocare pe poartă GTO au aceeaşi schemă echivalentă cu
două tranzistoare bipolare. Ceea ce diferă sunt valorile parametrilor de model.
Tensiunea VGR şi curentul IGR de blocare pe poartă sunt determinate de
valoarea rezistenţei RG şi a câştigurilor în curent directe ale celor două
tranzistoare. Curentul pe poartă trebuie să fie suficient de mare, pentru ca să
conducă la scăderea produsului celor două câştiguri sub unitare, ceea ce
determină anihilarea reacţiei pozitive şi deci blocarea tiristorului.
Macromodelarea structurală a tranzistoarelor bipolare cu poartă izolată IGBT
Cel mai simplu macromodel structural IGBT este fiormat din tranzistorul MOS şi
tranzistorul bipolarconectate în conexiune de tip Darlington.
Acest tip de macromodel neglijează fenomenele secundare (zăvorârea la curenţi
ridicaţi, străpungerea directă şi inversă, variaţia rezistenţei regiunii de drift şi
variaţia neliniară a capacităţii grilă-drenă a tranzistorului MOS component. Este
recomandat a fi utilizat în analizele cu caracter evaluativ, având o precizie de
simulare redusă
Avantajul modelului:precizie de simulare relativ ridicată atât a caracteristicilor
statice, cât şi a celor dinamice.
Dezavantajul modelului este că nu modelează variaţia neliniară cu tensiunea la
borne a capacităţii grilă-drenă a tranzistorului MOS component. De aceea
formele de undă ale tensiunilor şi curenţilor la comutaţie sunt diferite de cele
reale, macomodelul conducând la erori de evaluare a puterii dinamice disipate
pe dispozitiv.
Structura internă a tranzistorului Schema electrică a macromodelului
IGBT structural al tranzistorului IGBT
P o a rtă E m i to r P o a rtă
Colector
N + P N +
Ddir
Grdrift
+ Qpnp
-
Dsubstrat
R e g iu n e a d e d r i f t
Dinv
Jfet
N +
Poartã
Emitor
P +
C o l e c to r
Macromodelul structural al IGBT are la bază structura intrenă. El cuprinde pe
lângă tranzistorul bipolar Qpnp şi tranzistorul MOS cu canal N (Mosn):
- tranzistorul bipolar Qnpn împreună cu Qpnp formează o structură de tip
tiristor şi modelează fenomenul de zăvorâre a IGBT la nivele ridicate de
curent;
- rezistorul Rzav fixează valoarea curentului de zăvorâre:
Colector
Dpoz Cgd
Rcolector
Cgc
Rmax
Dinv
Rdrift
Dcap Qpnp
Egd Rneg Fcgd
+ +
+
- - - Ddir
Dneg
Qnpn
Cge Remitor
Emitor
Din schema electrică a modelului structural capacitatea grilă-drenă este
modelată astfel :
Sursa de tensiune comandată Egd copiază tensiunea grilă-drenă şi o aplică
reţelei de comutatoare formată din diodele Dpoz şi Dneg, care au tensiuni
directe foarte reduse.
La tensiuni grilă-drenă pozitive, dioda Dpoz este în conducţie, conectând
Cgd la sursa de tensiune Egd, iar dioda Dneg este şi ea în conducţie,
determinând limitarea tensiunii pe dioda Dcap la câteva zecimi de volt,
capacitatea sa echivalentă fiind redusă.
La tensiuni grilă-drenă negative, dioda Dpoz este blocată, lăsând în gol
capacitatea Cgd, iar dioda Dneg este şi ea blocată, permiţând accesul
tensiunii Egd spre dioda Dcap care este invers polarizată la o tensiune
egală cu tensiunea grilă-drenă, fiind echivalentă cu o capacitate de barieră.
Sursa Fcgd măsoară curentul prin capacitatea Cgd (constantă) la
polarizare directă şi cel prin capacitatea de barieră a diodei Dcap la
polarizare inversă. Curenţii sunt injectaţi între grila şi drena tranzistorului
MOS. Sursa de curent este echivalentă cu o capacitate neliniară şi
simulează cu precizie comportamentul real al dispozitivului.
P o a rtă A n o d
Anod
Ranod Mos_off
N + P
P +
Mos_on Rn-
Poartã Qpnp
Rp-
Qnpn N
Rcatod
Vac P -
P +
Catod
C a to d
Tranzistorul MOS p (Mos_on) asigură comanda de intrare în conducţie a MCT,
iar tranzistorul MOS n (Mos_off) asigură comanda de blocare aacestuia.
Rezistenţele Ranod şi Rcatod modelează rezistenţele regiunilor neutre de
semiconductor ale anodului, respectiv catodului.
Sursa de tensiune Vac asigură calibrarea tensiunii directe în starea ON a MCT
la valoarea determinată experimental. Tranzistorul NPN din structura verticală
de tiristor are baza groasă, tensiunea bază-emitor reală fiind superioară celei
obţinute prin simulare. Sursa Vac completează valoarea tensiunii în starea ON
pentru a asigura o bună suprapunere cu datele de catalog.
Rezistoarele Rn- şi Rp- modelează rezistoarele celor două regiuni centrale ale
structurii de tip tiristor, care sunt străbătute de către curenţii de drenă ai celor
două tranzistoare MOS pe durata comutaţiei directe, respectiv inverse.
Valorile celor patru rezistenţe parazite ale structurii MCT nu sunt date de
catalog, extragerea valorii acestora se realizează prin simulări succesive şi prin
compararea rezultatelor cu caracteristicile de catalog.
Dimensiunile L şi W ale canalelor celor două tranzistoare MOS, precum şi
caracteristicile electrice de transfer ale acestora nu sunt date de catalog. Pentru
L şi W se consideră valorile tipice. Tensiunile de prag VTO şi parametrii
transconductanţei KP se aleg în funcţie de tensiunile şi curenţii de comandă ai
structurii de tip tiristor.
Macromodelul structural MCT asigură o precizie înaltă de simulare a
caracteristicilor statice şi dinamice ale MCT reale, însă el necesită
cunoaşterea unor parametrii interni ai dispozitivului, care nu sunt date de
catalog.
Schema electrică macromodelul Structura internă a MCT
structural MCT
P o a rtă A n o d
Anod
Ranod Mos_off
N + P
P +
Mos_on Rn-
Poartã Qpnp
Rp-
Qnpn N
Rcatod
Vac P -
P +
Catod
C a to d
Tranzistorul MOS p (Mos_on) asigură comanda de intrare în conducţie a MCT,
iar tranzistorul MOS n (Mos_off) asigură comanda de blocare a acestuia.
Rezistenţele Ranod şi Rcatod modelează rezistenţele regiunilor neutre de
semiconductor ale anodului, respectiv catodului.
Sursa de tensiune Vac asigură calibrarea tensiunii directe în starea ON a MCT
la valoarea determinată experimental. Tranzistorul NPN din structura verticală
de tiristor are baza groasă, tensiunea bază-emitor reală fiind superioară celei
obţinute prin simulare. Sursa Vac completează valoarea tensiunii în starea ON
pentru a asigura o bună suprapunere cu datele de catalog.
Rezistoarele Rn- şi Rp- modelează rezistoarele celor două regiuni centrale ale
structurii de tip tiristor, care sunt străbătute de către curenţii de drenă ai celor
două tranzistoare MOS pe durata comutaţiei directe, respectiv inverse.
Valorile celor patru rezistenţe parazite ale structurii MCT nu sunt date de
catalog, extragerea valorii acestora se realizează prin simulări succesive şi prin
compararea rezultatelor cu caracteristicile de catalog.
Dimensiunile L şi W ale canalelor celor două tranzistoare MOS, precum şi
caracteristicile electrice de transfer ale acestora nu sunt date de catalog. Pentru
L şi W se consideră valorile tipice. Tensiunile de prag VTO şi parametrii
transconductanţei KP se aleg în funcţie de tensiunile şi curenţii de comandă ai
structurii de tip tiristor.
Macromodelul structural MCT asigură o precizie înaltă de simulare a
caracteristicilor statice şi dinamice ale MCT reale, însă el necesită
cunoaşterea unor parametrii interni ai dispozitivului, care nu sunt date de
catalog.
Macromodelarea comportamentală a
dispozitivelor semiconductoare de putere
Constă în descrierea unei legi de variaţie neliniară de tipul y = f(x), prin intermediul
unor surse de tip TABLE. Această metodă se aplică în cazul în care pentru un
anumit fenomen se cunosc rezultatele experimentale date sub formă de
caracteristici grafice, însă nu s-a dezvoltat încă un model matematic
corespunzător. Astfel de dependenţe grafice pot fi modelate PSPICE prin simpla
specificare a coordonatelor punctelor măsurate experimental, între care
simulatorul efectuează o interpolare liniară.
Modelarea analitică
G r baz ã
+
E c gd Hc gd G c gd
+ +
+ + Cgd
- - - -
G ilin G is at
+ +
G rilã - -
Hc gd E gfs
+ + +
- - -
S urs ã
Modelul matematic al variaţiei curentului de drenă al unui tranzistor MOS de
putere, ce asigură continuarea la trecerea din regimul liniar în cel saturat este:
2
KPLIN VDS
KPLIN VGS VTO VDS
IDlin KPSAT 2 1 LAMBDA V
DS
1 TEHTA VGS VTO
KPLIN
pentru VDS VGS VTO
KPSAT
KPLIN
pentru VDS VGS VTO
KPSAT
unde parametrul Krs se deduce din valoarea tensiunii grilă – sursă la care
transconductanţa gfs atinge valoarea maximă (d gfs / d Vgs = 0).
La valori reduse ale curentului, rezistenţa echivalentă a sursei Egfs este nulă,
tranzistorul prezentând transconductanţa din modelul clasic.
Realizarea unui macromodel de tip triac prin gruparea antiparalel a două modele
de tip comutator ale tiristorului conduce la două dezavantaje:
- nu simulează funcţionarea în cadranele 2 şi 4 şi
- necesită un timp relativ ridicat de analiză, datorită numărului mare de elemente
componente.
Funcţionarea triacului în toate cele patru cadrane poate fi modelată cu ajutorul
unor surse de tip comportamental, comutaţia directă şi inversă fiind descrisă în
continuare cu ajutorul unor dispozitive de tip comutator, ce asigură un timp scăzut
de analiză.
E1
E c om 1_2
S tria c 1 _ 2 E c om 3_4
S tria c 3 _ 4
+ + + + + + + +
- - - - - - - -
Hc gd
P oartã + V ac
-