Documente Academic
Documente Profesional
Documente Cultură
NANOTEHNOLOGIE
NANOTEHNOLOGIE
Prezentarea conceptului
Nanotehnologia este acea ramur a tiinei care permite crearea de materiale, de
dispozitive i de sisteme la scar nanometric (1-100 nm), prin manipularea materiei la
aceast scar, precum i prin exploatarea noilor proprieti ce rezult la scar nanometric,
avnd un puternic impact asupra numeroaselor aplicaii comerciale, militare i spaiale.
n cele ce urmeaz va fi prezentat o descriere de ansamblu al conceptului de
nanotehnologie, pe baza unor exemple menite s ajute la nelegerea conceptului legat de
fabricarea, caracteristicile, aplicaiile i comercializarea produselor din aceasta categorie.
Conceptul de nanotehnologie se caracterizeaz prin faptul c toate procesele care se
studiaz i se produc, au ca unitate de referin nanometrul, ce reprezint a miliarda parte
dintr-un metru (3 - 4 atomi).
Pornind de la definirea acestei dimensiuni, se poate uor deduce c nanotehnologia
reprezint practic un procedeu de asamblare la nivel molecular.
Noua tehnologie are menirea de a transforma produsele de fiecare zi i modul n care
acestea sunt fabricate prin manipularea atomilor, astfel nct materialele s poat fi micorate
i mbuntite n acelai timp.
Dei produsele actuale bazate pe nanotehnologie sunt modeste - precum esturi
rezistente la pete i ambalaje pentru alimente proaspete - care au intrat deja pe pia, unii
oameni de tiin estimeaz c nanotehnologia va juca un rol deosebit de important n viitor.
Datorit unor mbuntiri a microscoapelor, oamenii de tiin pot acum plasa pentru
prima dat atomi singulari acolo unde doresc. Aplicaiile poteniale sunt numeroase:
computere microscopice, nanoparticule pentru tratarea cancerului, motoare nepoluante, etc.
Astfel de circuite pot fi fabricate printr-o mixtur de tehnologii: fiecare nanobloc este
fabricat folosind nanotehnologii. Lcaurile pentru grupuri i srmele lungi sunt fabricate prin
tehnologia CMOS, fiecare nanobloc este apoi inserat ntr-un astfel de loca. Au fost puse la
punct metode prin care se pot configura nanoblocurile.
Dup fabricaie, circuitele vor fi cuplate ntr-un calculator care va testa grupurile,
pentru a gsi unul perfect funcional. Urmeaz apoi configurarea acestui grup de ctre
calculator cu ajutorul unui program de autotestare, prin care restul circuitului este testat
pentru a gsi alte defecte.
Nanoblocurile defecte vor fi nregistrate ntr-o list de defecte ataat circuitului. Atunci
cnd circuitul este utilizat, compilatorul care genereaz configuraia va folosi aceast list de
defecte pentru a genera un circuit care folosete numai prile funcionale.
PROPRIETILE NANOMATERIALELOR
Generaliti
Nanoprelucrarea este realizat prin nanoachiere, nanolefuire i honuire, nanolepuire
i lustruire, etc.
Unitatea de procesare n aceste metode este de civa zeci de nanometri, astfel c o
comportare la indentare i zgriere n domeniul clusterilor atomici const, n principal, n
alunecare prin forfecare datorit ruperii elastice, care are la baz defectele punctuale din
domeniul fr dislocaii i fr microfisuri.
Nanoachierea este principala metod de prelucrare bazat pe forfecare utiliznd cuite
diamantate cu un singur vrf pentru materialele moi i ductile, n timp ce nanolefuirea i
honuirea sunt utilizate la prelucrarea ductil fr fisurare a materialelor dure i fragile, prin
folosirea discurilor i granulelor de diamant. Nanolepuirea i lustruirea sunt utilizate pentru
prelucrarea materialelor dure i fragile cu pulberi abrazive.
Nanoachierea implic o mrime de prelucrare de civa zeci de nanometri, dar
tensiunea de tiere care acioneaz la extremitatea sculei este foarte mare, comparabil cu
forele de legtur atomice. Drept rezultat, singurele scule disponibile se limiteaz la diamant,
iar prelucrarea este limitat la materialele moi i ductile. Nanoachierea produce o suprafa
foarte fin de tip oglind, iar stratul degenerat rezultat este extrem de subire. De curnd, s-au
ncercat simulri computerizate ale achierii la scar atomic.
Nanolefuirea i honuirea creeaz o alunecare prin forfecare cu o adncitur de tiere de
civa zeci de nanometri i sunt cele mai des folosite la obinerea suprafeelor lipsite de fisuri
pe materiale dure i fragile, cum ar fi sticla i ceramicile. Nu este nevoie de spus c tensiunea
de lucru care acioneaz la muchia tietoare a abrazivilor este extrem de ridicat. n
consecin, pot fi utilizai numai abrazivi de diamant cu granule foarte fine prelucrare cu
abrazivi staionari n domeniul de procesare la nivel de clusteri atomici.
Spre deosebire de prelucrarea cu abrazivi staonari, lepuirea fin i lustruirea tip oglind
n domeniul clusterilor de atomi fac apel la abrazivi regenerabili (mobili) foarte fini, dar
mecanismele celor dou metode sunt destul de diferite, dup cum se indic n figura 4.1.
Lustruirea tip oglind se realizeaz prin polizare cu abrazivi fini teii, dar rezisteni termic,
cum ar fi: Fe2 O3, Cr2O3, CeO2 sau MgO. n aceast metod, abrazivii nglobai n suprafaa
plcii de lustruire au o deplasare n raport de suprafaa piesei de prelucrat, netezind suprafaa
acesteia, prin forfecarea general, de defectele punctuale. Lepuirea fin, pe de alt parte,
utilizeaz plci semidure pentru a realiza ndeprtarea materialului cu alungiri fine i dure,
dei mai de grab fragile cu muchii ascuite, cum ar fi diamantul, BN-cubic, SiC, SiO 2 sau
B4C.
Lepuirea fin i lustruirea tip oglind pentru materialele dure i fragile cum ar fi
sticla, ceramicile, aliajele superdure etc: (a) lustruirea tip oglind a sticlei (abrazivi: SnO2
Fe2O3, MgO, Ce2O3, rezisteni termic); (b) lepuirea fin a sticlei (abrazivi:diamant, SiC,
B4C, c-BN) dur i ascuit; (c) fisurarea la ntindere pentru achierea fragil; (d)
alunecarea prin forfecare pentru achierea ductil; (e) prelucrarea fin ultrasonic; (f)
sablare normal.
Fisurarea datorit ruperilor foarte fine de la suprafa este iniial de defectele punctuale
la extremitatea cavitilor n form de pan imprimat de muchiile ascuite ale abrazivilor
duri care se rostogolesc ntre placa de leptuire i suprafaa piesei de prelucrat, dup cum se
prezint n figurile 4.1 (b), (c) i (d).
t
Tensiunea de rupere la extremitatea ascuit a amprentei este mrit de efectul de
pan i de factorul de concentrare a tensiunii pentru a depai limita de rupere elastic la
tf th
ntindere . Cnd limita de rupere elastic la ntindere este mai mic de dou ori dect
sf
limita de rupere elastic de forfecare , materialul este considerat fragil. Cu alte cuvinte,
tf / 2 sf
avem n materiale de sablare cu abrazivi duri foarte fini i reprezint n
principiu acelai tip de proces ca lepuirea avansat, dup cum se prezint n figura 4.1 (e) i
(f).
Procesarea subgranul
Procesarea subgranul a metalelor ductile
Ruperea prin forfecare sau deformarea plastic a metalelor ductile pornete de la
dislocaiile n domeniul 1-10 m, ceea ce corespunde unei dimensiuni subgranulare.
a) Dislocaiile i vectorul Burgers
Materialele ductile, cum ar fi metalele Al i Fe, sunt alctuite din granule
monocristaline cu dimensiuni de la civa micrometri la civa zeci de micrometri. n
granulele cristaline, ntotdeauna exist defecte liniare, cum ar fi dislocaiile marginale i
elicoidale. Astfel de dislocaii n monocristale reprezint o dezordonare a aranjamentului
atomic, aa cum se poate observa din figurile 4.2 i 4.3.
Fig. 4.3 Dislocaii elicoidale (W. T Read Jr. 1953, Dislocations in Crystals, Me Graw
Hill, New York ) : (a) alunecare ce produce o dislocaie elicodial ntr-o reea cubic
simpl. Dislocaia se afl pe direcia AD paralel cu direcia de alunecare. Alunecarea a
aprut n zona ABCD; (b) aranjamentul atomic n jurul dislocaiei elicoidale. Planul
figurii este paralel cu linia de alunecare. ABCD reprezint aria alunecat, iar AD este
dislocaia elicodial. Cercurile goale reprezint atomii din planul aflat exact deasupra
planului de alunecare, iar cercurile pline sunt atomii din planul aflat exact sub planul de
alunecare.
O dislocaie marginal este un defect
liniar orientat al reelei atomice, marcat cu
semnul n seciunea transversal n timp
ce o dislocaie elicoidal este un defect
spiral orientat al reelei cristaline dup cum
arat semnul care indic direcia spiralei.
Vectorul Burgers, care definete dezordinea
indic direcia i mrimea dislocaiei.
Direcia vectorului Burgers pentru
dislocaiile marginale este normal pe linia
de dislocaie, n timp ce pentru dislocaiile
elicodale este paralel cu linia de dislocaie.
Densitatea dislocaiilor poate fi
definit de lungimea liniilor de dislocaie
din unitatea de volum (cm-3), prin numrul
de seciuni ale liniilor de dislocaii pe
unitatea de suprafa (cm-2), sau prin
intervalul mediu dintre liniile de dislocaii secionate (cm). Intervalul dintre dislocaiile
marginale este de ~ 1 cm ntr-un monocristal de siliciu (cristal fr defecte).
b) Fora Peierls-Nabarro sau tensiunea Peirls pentru alunecarea tangenial
bazat pe defectele de dislocaie n metalele ductile
Cnd se aplic o sarcin unei piese de lucru ce cauzeaz o alunecare tangenial, atomii
reelei din jurul liniei de dislocaie se deplaseaz de-a lungul vectorului Burgers. Cu alte
cuvinte, linia de dislocaie determin atomii s se deplaseze cu o unitate de distan reticular
din reeaua atomic. Tensiunea de forfecare necesar pentru a deplasa o dislocaie printr-o
reea cristalin ntr-o anumit direcie este dat de tensiunea Peierls c (Nm-2), care se
bazeaz pe o lege for atomic-distan de tip sinusoidal:
c 2G / 1 2 exp 2 / b
(4.1)
unde :
G - modulul de elasticitate de forfecare (Nm-2);
- coeficientul lui Poisson;
b - mrimea vectorului Burgers corespunztor distanei atomilor dintr-o direcie de
alunecare particular (m);
- limea regiunii de dislocaie efectiv (m).
/ b 1 / 1
Pentru reeaua cubic central intern a metalelor ductile (figura 7.4)
/ b 1 / 1
pentru un plan de alunecare, iar pentru ceramicile fragile , astfel c
este destul de mic din cauza creterii tip treapt a potenialului de legtur atomic lng
nodurile reelei. Este uor de intuit c exist un cmp potenial nalt n jurul liniilor de
dislocaie datorit dezordinii reelei fcnd astfel uoar apariia alunecrii prin forfecare.
/ b 1 / 1
n fier (metal ductil), de exemplu, cu =0,28 i ,
c 2G / 1 2 exp 2 / 1 G / 2,9910 3 36
MPa (4.2)
pentru G=80 GPa.
Valoarea calculat este apropiat de valoarea real a rezistenei la forfecare, care este
considerabil mai scazut (cu un factor de 1/500 la 1/300) dect rezistena teoretic =G/2 .
c
Fig. 4.4 Potenialul de legtur atomic U0, vectorul Burgers b i limea regiunii de
dislocaie efectiv n materiale fragile i ductile.
Figura 4.5 arat un model de propagare a liniei de dislocaie datorit unei surse Frank-
Read. n acest model, tensiunea de ncrcare extern produce deformarea dislocaiei care se
propag.
c) Tensiunea Peierls n materiale fragile
Chiar dac numrul de dislocaii este extrem de mic n domeniul subgranul al
materialelor fragile, microfisurile sunt distribuite dens. Mai mult, tensiunea Peierls c
datorat dislocaiilor este destul de mare pentru c n ecuaia lui Peierls, G este extrem de
mare cnd /b este foarte mic (comparativ cu materialele ductile). De exemplu, c pentru
diamant este > 10 GPa (G=900 GPa), iar c pentru cristalul de siliciu este 5-6 GPa (G=125
GPa). De aceea, ruperea fragil datorit microfisurilor este posibil s apar la tensiuni sczute
n ceramici, dup cum s-a menionat anterior.