Documente Academic
Documente Profesional
Documente Cultură
CURS NR. 5
Punct de echilibru
pentru PV = SP = 50
td
CO – ieșirea controlerului
ce determina modificarea
PV masurate
Kc/2
Kc
Ti
2xTi
Fig.4.5. Semnale intr-o bucla de control a nivelului, reglata cu metoda modificata Ziegler-Nichols
Aplicație 1: CONTROLUL PROPORTIONAL-INTEGRAL-DERIVATIV (PID) AL UNEI
COLOANE DE DISTILARE BINARĂ FOLOSIND METODA ZIEGLER - NICHOLS
• refierbătorul și condensatorul: elemente in care
acumulator
(a) Condesator au loc treapta inițială și treapta finală de
de reflux separare, prin debitele de reflux din aceste
aparate auxiliare fiind controlate concentrațiile
Valva reflux componenților de la baza și de la varf.
refierbător
Valva flux vapori
Fig.4.6. Diagrama P&ID (a) și diagrama Matlab/Simulink (b) a interfeței de operator pentru
coloana de distilare binară
1. Lansati modulul PCM, selectati optiunea Distilation Column si apoi clic Operator
Interface.
2. Se rulează apoi procesul la valorile predefinite timp de circa 4000 s, dupa care clic
butonul Pause și se va modifica parametrul Vapour Flow Rate – variabila manipulată MV de
la 0.033 la 0.036 (crestere cu 10% a valorii sale), se rulează simularea si se asteaptă pana
cand parametrul de iesire “mole fraction” – Bottom MeOH composition – variabila
controlata PV atinge valoarea de 0.1, dupa care clic din nou Pause si apoi se aduce la
valoarea initiala de 0.033 parametrul Vapour Flow Rate, apoi se ruleaza din nou simularea.
Ecranul Column Process Monitor va arata asa cum se vede in fig. 4.6 de mai jos
3. Pe baza masuratorilor PV1-PV4 ,a timpului mort td si a timpilor T1-T2 (vezi fig. 4.6) se
vor calcula coeficientii DS, ri apoi Kc, Ti, Td cu ajutorul relatiilor prezentate anterior pentru
controlul PI și PID.
td
4. Se va aduce Bottom Composition Setpoint la 0.1 si apoi prin dublu-clic pe blocul Bottom
Composition controller, se vor completa spatiile Proportional Gain și Integral Time constant
corespunzătoare controlului PI(calculate anterior). Se va rula apoi simularea timp de 4000
s, dupa care clic Pause. In fereastra COLUMN PROCESS MONITOR se vor observa si
interpreta variatiile Bottoms Composition si Vapor Flow Rate (vezi fig.4.8)
PV crestere de la 0.033 la 0.036
SP mol/s
Fig. 4.8. Variatiile Mole Fraction / Bottom MeOH Composition si Vapor Flow Rate in modul de
control PI cu Kc = 1.44 si Ti = 27.35
Fig. 4.9. Variatiile Mole Fraction / Bottom MeOH Composition si Vapor Flow Rate in modul de
control PI cu Kc = 0.72 si Ti = 54.7
Durata regimului tranzitoriu tr pentru controlul PI cu Kc = 0.72 si Ti = 54.7 este cu circa 30%
mai mică!
Raspuns instantaneu element executie!
– td foarte mic, dar tr prea mare!
Fig. 4.10. Variatiile Mole Fraction / Bottom MeOH Composition si Vapor Flow Rate in modul de
control PID cu Kc = 2.4, Ti = 27.35s, Td = 1.64s
Fig. 4.11. Variatiile Mole Fraction / Bottom MeOH Composition si Vapor Flow Rate in modul de
control PID cu Kc = 1.2, Ti = 41s, Td = 1.64s
Durata regimului tranzitoriu tr pentru controlul PID cu Kc = 1.2, Ti = 41s si Td = 1.64s este cu
60% mai mică decât controlul PID cu Kc = 2.4, Ti = 27.35s, Td = 1.64s si cu 25 % mai mică
decât controlul PI cu Kc = 0.72 si Ti = 54.7 .
4.4. Prezentarea metodei Cohen – Coon pentru controlere PID cu răspuns rapid
=0.133
cSP+ 0.63 0.63
• se vor calcula Kc si Ti, cu ajutorul relatiilor
prezentate anterior (Tabelul 4.1) pentru
cSP controlul PI = > metoda Cohen - Coon
Se va lansa apoi optiunea PID Interface (vezi. Fig. 4.16) si se va modifica O2 concentration
setpoint de la 0.922 la 0.96, respectiv se vor alege setarile PI conform valorilor Kc = 3.34 , Ti =
4.72 si Td = 0.
Fig. 4.16. Diagrama Matlab/Simulink a interfeței PID pentru furnalul alimentat cu gaz natural
Atingerea noului SP
de 606 K!
Elementul de execuție