Documente Academic
Documente Profesional
Documente Cultură
REZUMAT TEORETIC
Simbol
TEC-MOS cu canal n indus
Fig. 3.1.
1
Într-un substrat semiconductor slab impurificat de tip p se crează
+
prin difuzie două regiuni puternic dopate de tip n care constituie sursa S şi
respectiv drena D. Pe semiconductor se formează un strat de bioxid de siliciu
( SiO 2 ) obţinut prin oxidare termică, iar peste acesta se depune un strat metalic
de aluminiu care constituie grila G (poarta). Substratul constituie al patrulea
electrod (baza), care se conectează de obicei la sursă.
Prin aplicarea unei tensiuni pozitive pe grilă în raport cu substratul p,
câmpul electric din stratul de bioxid de siliciu orientat către semiconductor va
atrage în apropierea suprafeţei de separaţie electronii de conducţie şi va
îndepărta golurile. Astfel, între sursă şi drenă se acumulează un strat superficial
de electroni de conducţie numit strat de inversiune de tip n, care reprezintă
canalul conductor ce poate conduce un curent electric. Tensiunea la care începe
să circule curent între drenă şi sursă se numeşte tensiune de prag şi se notează
V P . Pentru TEC-MOS cu canal n indus, tensiunea de prag V P este pozitivă şi
are o valoare tipică în jur de 2V.
CIRCUITE CU TEC-MOS
1. Inversorul MOS.
2
2. Fie circuitul din fig. 3.3.
Se dau: , , ED=10 V
Fig. 3.3.
a) Tensiunea de alimentare ED
b) Determinarea PSF (VGS, VDS, ID).: (Masurati VGS si VDS; calculati
ID=(ED-VDS)/RD)
c) Determinați regimul de funcționare (sat.) al tranzistorului verificând
inegalitatea VDS >= VGS-VP
3
3. Fie circuitul din fig. 3.4
.
Se dau: , RG1= 100k, RG2=200k
Fig. 3.4.
a) Tensiunea de alimentare ED
b) PSF (Masurati VGS si VDS; calculati ID=(ED-VDS)/RD)
c) Determinați regimul de funcționare al tranzistorului verificând
inegalitatea cunoscută.