Documente Academic
Documente Profesional
Documente Cultură
În cazul ionilor, ţinând seama că m i = m A r + = 39,9 ∙ 1,67 ∙ 10-19 kg = 6,66 ∙ 10-59 kg,
formula de calcul a vitezei de deplasare a acestora va fi:
V Ar +¿=0,219 √ U =0,219 √1600 m/ s=8,76 m / s ¿
AC
(IV-30.)
Timpul necesar ionului de argon pentru a străbate spaţiul anod-catod va fi:
4,8∙ 10−2 m −2
t iAC= =0,55 ∙10 s=5,5 ms (IV-31.)
8,76 m/s
La frecvenţe de peste 50 kHz, apar două efecte importante şi anume:
- electronii, datorită oscilaţiilor în câmpul de înaltă frecvenţă dintre electrozi,
capătă suficientă energie pentru a produce suficiente coliziuni cu generare de ioni şi electroni,
eliminând astfel dependenţa descărcării de electronii secundari generaţi la impactul
electronilor cu ţinta şi scăzând tensiunea de aprindere şi presiunea de lucru a descărcării;
- electrozii nu trebuie să mai fie buni conductori electrici, deoarece înalta
frecvenţă poate fi cuplată prin orice fel de impedanţă, permițând astfel pulverizarea
dielectricilor.
La frecvenţe tipice de pulverizare de (5…30) MHz, din cauza mobilităţii scăzute,
numai un număr foarte scăzut de ioni ar reuşi să bombardeze electrozii şi anume numai cei
aflaţi mai aproape de electrodul polarizat negativ în semialternanţa respectivă, în timp ce un
număr mult mai mare de electroni ar bombarda electrodul respectiv, în semialternanţa
pozitivă, datorită mobilităţii mult mai ridicate a acestora.
Dacă ţinta unuia din electrozi este realizată din material izolant, datorită mobilităţilor
diferite ale ionilor şi electronilor, se poate obţine autopolarizarea electrozilor şi, în
consecinţă, pulverizarea numai a unui singur electrod.
Astfel, la cuplarea generatorului de RF între cei doi electrozi, în prima semialternanţă
pozitivă, un număr redus de ioni vor bombarda ţinta, crescându-i uşor potenţialul din cauza
imposibilităţii de neutralizare a sarcinii pe suprafaţa ţintei izolante.
În semialternanţa următoare, cu minus pe ţinta izolantă, un număr mult mai mare de
electroni vor bombarda ţinta, datorită mobilităţii mai mari a acestora, neutralizând sarcina
pozitivă acumulată pe ţintă şi producând totodată şi o polarizare suplimentară cu sarcini
negative uniform dispersate pe suprafaţa ţintei.
Cu fiecare nouă perioadă a tensiunii alternative, sarcina negativă se acumulează pe
ţinta izolantă, iar ca rezultat, potenţialul negativ al ţintei creşte.
Pentru a se întreţine descărcarea este necesar să se menţină cvasineutralitatea plasmei
şi pentru aceasta trebuie ca la fiecare semialternanţa aceeaşi cantitate de sarcină electrică să
se transfere din plasmă spre fiecare electrod, adică
I i ∙ t i =I e ∙t e (IV-32.)
I I
unde i și e curentul ionic, respectiv electronic, ce ajunge la ţintă
t i și t e = durata de scurgere a curenților ionici şi electronici spre ţintă
În cele din urmă apare o tensiune negativă constaţi pe ţintă, tensiune care se va
suprapune cu tensiunea alternativă de radiofrecvenţă, ceea ce este echivalent cu deplasarea
axei tensiunii de radiofrecvență, ca în figura IV-10.
Fig. IV-10 Procesul tranzitoriu de autonegativare a ţintei în pulverizare catodică în
RF
Componenta continuă Ud de antopolarizare a ţintei izolante este aproximativ egală cu
amplitudinea tensiunii variabile de radiofrecvenţă şi, practic, determină energia medie a
ionilor ce bombardează ţinta.
În realitate componenta U d este pulsatorie. Sistemul compus din substrat cu pista
dielectrică şi suprafaţa sarcinii electronice, se comportă ca un condensator care, practic, se
încarcă cu fluxul de electroni în semialternanţa pozitivă şi se descarcă cu fluxul de ioni în
semialternanța negativă.
Variația componentei Ud (ΔUd) depinde de curentul ionic, de timpul de bombardament
cu ioni a ţintei, care este dat de frecvenţa tensiunii de RF şi de capacitatea țintei.
Pentru valorile practice I i=2 A ,C ≈2 ∙ 10−3 μF.
1 1 (IV-33.)
t i= = s=7,37 ∙ 10−8 s=0,0737 μs
13,56 MHz 13,56 ∙ 10 −6
Fig. IV-15. Configurație practică a unui sistem de pulverizare catodică tip triodă cu
descărcare Pening și emisie termoelectronică.
Parametri tipici pentru pulverizarea tip triodă, prezentată în figura IV-15, sunt:
- presiunea de lucru: sub 10-3 mbar
- tensiunea de polarizare a ţintei (700...5000) V, polarizat negativ faţă de masă
- tensiunea de polarizare a anodului faţă de catod: +100 V
- curentul în descărcare: (1...10) A
- densitatea curentului pe ţintă: j = 250 mA/cm3
- viteza de depunere: (200...500) A/min
Pentru distanţa substrat-ţintă de 5 cm; presiune de 10 -3 Torr; tensiune de polarizare
ţintă: 1000 V; curent ţintă: 300 mA şi curent anodic: 7 A, vitezele de pulverizare obţinute
sunt conform tabelului IV-9:
MATERIAL Cu Ni Al Ta
VITEZA DE DEPUNERE [µ/H] 12 7 5,2 4,5
Variaţia vitezei de depunere funcţie de curentul prin ţintă, pentru câteva materiale
uzuale este prezentată în figura IV-16.
TABELUL IV-11
Rezistivitățile electrice ale diferitelor tipuri
de apă de răcire
Nr. Rezistivitatea
Tipul de apă de răcire
crt. ρ[ohm∙m]
1. Apă de mare 3,0
2. Apă de pârâu şi râu 20,0
3. Apă de iaz sau de izvor 40,0
4. Apă de subteran 50,0
5. Apă de munte 700,0
Pentru lipirea ţintelor pe Cu, dar şi pe alte materiale se utilizează cu bune rezultate
aliajul cu 50% Sn şi 50% In.
Galiul poate fi utilizat la temperatura ambiantă pentru umezirea suprafeţelor pieselor
(curăţate în prealabil), ce urmează a fi ataşate, permițând lipirea acestora cu oxidarea minimă
a suprafeţelor ce se unesc. Trebuie folosită o cantitate minimă de galiu, deoarece aceasta
formează un aliaj casant cu In şi Sn, Galiul nu poate fi utilizat în cazul pieselor din aluminiu,
deoarece la temperatura ambiantă Ga difuzează rapid.
Când este necesară o rezistenţă termică de contact cât mai scăzută, precum şi o gazare
redusă, fixarea ţintei de corpul magnetronului se poate face prin sudare.
O altă tehnică, mai simplă, este fixarea mecanică a ţintei de corpul magnetronulul. În
cazul ţintelor metalice sau din aliaje metalice nu este nevoie de pregătire specială, cu excepţia
prelucrării feţei posterioare a ţintei pentru a asigura un bun contact termic cu catodul.
Este recomandabil ca ţintele sinterizate, precum şi cele din materiale izolante să fie
lipite pe nişte plăci subţiri din cupru, care apoi să fie fixate mecanic de corpul magnetronului.
Ţintele din materiale dielectrice, precum şi cele din materiale sintetizate, în multe
cazuri sunt acoperite pe partea posterioară cu pelicule metalice şi fixate apoi prin lipire de
corpul magnetronului.
Pentru a se reduce gazările abundente în timpul pulverizării, ţintele de pulverizare
trebuie realizate, de regulă, din materiale dense, obţinute prin topire şi turnare în vid, dar
aceasta nu exclude de exemplu utilizarea ţintelor obţinute din materiale sinterizate.
Ţintele feromagnetice, cum ar fi cele din nichel şi cobalt, trebuie să fie destul de
subţiri, pentru a fi saturate de câmpul magnetic. Pentru magneţi din ferite, grosimea ţintei
feromagnetice nu depăşeşte 2-3 mm. Pentru ţinte din materiale clasice, grosimile uzuale sunt
de 6 şi 9 mm.
Un dezavantaj al pulverizării magnetron este acela că ţinta se erodează numai în
regiunea câmpului magnetic transversal (paralel cu planul ţintei) şi pe măsura ce eroziunea
continuă, ionii ce bombardează ţinta sunt focalizaţi într-o regiune din ce în ce mai îngustă,
conducând la un profil de eroziune în formă de „V“, rezultând astfel un coeficient de utilizare
al materialului de 2 5 % . . . 4 5%.
În scopul îmbunătăţirii utilizării materialului ţintei se foloseşte:
- mărirea grosimii ţintei în regiunea de eroziune
- suprapunerea peste câmpul magnetic constant a unui câmp magnetic oscilant
- mișcarea mecanică a sistemului magnetic (metodă utilizată la magnetroanele
cilindrice).
Creşterea gradului de utilizare al ţintelor pentru magnetroanele plane este extrem de
importantă pentru ţintele din materiale scumpe.
Sistemul magnetic, care este un element de bază al dispozitivelor de pulverizare
magnetron, trebuie să asigure la suprafața țintei un câmp magnetic de o anumită configurație
și o anumită mărime, altfel încât acesta împreună cu suprafața țintei să constituie o capcană
magnetică efectivă pentru electroni.
Componenta orizontală a câmpului magnetic la suprafața țintei de pulverizare în
sistemele magnetron, este de 200 Gs...1000 Gs. Valoarea de prag la care încetează
descărcarea magnetronului este de 80...90 Gs.
Sistemele magnetice ale dispozitivelor de pulverizare magnetron se pot realiza din
magneți permanenți, electromagneți sau dintr-o combinație a acestora.
Utilizarea magneților ale dispozitivelor de pulverizare în sistemele de pulverizare
magnetron, față de utilizarea electromagneților, prezintă anumite avantaje și anume:
- se elimină necesitatea utilizării unei surse de alimentare de c.c.
- se elimină disiparea suplimentară de căldură
- se elimină posibilitatea defectării izolației
- se reduce volumul și greutatea dispozitivului de pulverizare, în condiții
obținerii unui câmp magnetic echivalent
- se elimină posibilitatea întreruperilor accidentale de câmp magnetic.
Dezavantajele utilizării magneților permanenți în sistemele magnetron sunt:
- imposibilitatea modificării valorii câmpului magnetic în procesul de
pulverizare, în scopul modificării sau menținerii ratei de pulverizare.
- murdărirea suprafeței ţintelor de pulverizare prin atragerea de particule
magnetice de către câmpul magnetic.
Deși electromagneţii cresc complexitatea magnetroanelor, utilizarea lor poate fi
justificată, dacă se doreşte alternarea pulverizării convenţionale cu cea magnetron sau
menținerea constantă pe perioade mari a ratei de pulverizare.
Materialele magnetice adecvate pentru realizarea sistemelor magnetice ale
magnetroanelor sunt: feritele cu bariu sau cu stronţiu, aliajele AlNi şi AlNiCo şi aliajele de
pământuri rare cu cobalt.
Toate aceste materiale au câmp coercitiv mare şi inducţie remanentă mare şi se
demagnetizează repede când sunt lăsate în câmp deschis, ceea ce constituie situaţia normală
pentru catodul unui magnetron Feritele, neoxidându-se, permit amplasarea lor în circuitul de
răcire.
Magneţii permanenţi din pământuri rare cu cobalt, deşi scumpi, având energii
remanente ridicate de peste 40 kJ/m3, se utilizează pentru pulverizarea materialelor
feromagnetice, unde ţinta trebuie saturată magnetic, pentru a se putea crea un câmp magnetic
util la suprafaţa ţintei.
Cercetările pe modele şi machete au permis să se optimizeze variantele constructive
ale sistemelor magnetice din punct de vedere al simplităţii construcţiei, precum şi a mărimii
şi a geometriei câmpului magnetic, în scopul realizării unei anumite geometrii a câmpului
magnetic, pe lângă magneţi permanenţi de diferite forme şi dimensiuni, se utilizează pentru
închiderea şi reducerea pierderilor de câmp magnetic, piese polare şi juguri magnetice,
realizate din oţel moale.
Corpul magnetronului aflat sub tensiune este înconjurat de o carcasă izolantă, pentru a
asigura protecţia personalului de exploatare. Ca materiale de izolare se utilizează cu
precădere teflonul şi duramidul, materiale izolante cu gazări reduse.
La montarea magnetroanelor în interiorul camerei tehnologice, corpul acestora este
înconjurat opțional de un ecran legat la masă, care servește la reținerea plasmei numai la
suprafața țintei de pulverizare, precum și la împiedicarea bombardamentului și a pulverizării
corpului magnetronului.
Pentru a fi eficace, ecranul de limitare a plasmei trebuie să se afle la o distanță mai
mică decât spațiul întunecat catodic.
Anodul suplimentar este folosit în mod opțional cu scopul de a reduce încălzirea
stratului, ca urmare a reținerii electronilor secundari, scăpați din capcana magnetică, electroni
ce constituie sursa principală de încălzire a substratului.
Concluzii privind utilizarea pulverizării magnetron și a dispozitivelor de
pulverizare magnetron
Indicatori privind avantajele pulverizării magnetron
Pulverizarea magnetron a căpătat o largă utilizare în realizarea industrială a
acoperirilor cu rol decorativ sau funcțional, datorită eficienței procedeului precum și datorită
avantajelor și posibilităților noi pe care aceasta le asigură.
Avantajele majore oferite de pulverizarea catodică magnetron pot fi scoase în
evidență prin analizarea unor indicatori tehnică-economici și a unor caracteristici esențiale
specifice proceselor de depunere a straturilor subțiri.
Tabelul IV-13
Caracteristici tehnice comparative esențiale
Ale proceselor de pulverizare în plasmă
Diodă Magnetron
Nr. Caracteristica standard Diodă în RF
Triodă Cu țintă Cu țintă
Crt. procesului cu țintă cu țintă plană
conică plană
plană
1. Presiunea [Pa] 10 0,5 0,07 0,3…0,7 0,1…0,5
Tensiunea pe țintă
2. 3…5 1…3 0,5…1 0,4…0,7 0,4…0,7
[kV]
Puterea medie
3. 2 5 5…10 80 100
[W/cm2]
4. Densitatea 1 5 5 160 200
curentului ionic
[mA/cm2]
Distanța dintre
5. țintă și substrat 10 10 40 25 5
[cm]
Viteza de depunere
6. pentru cupru 0,5 0,8 2 3 30
[nm/s]
Aspectul mișcării Sub formă de Rotație Rotație Deplasare
7. Plan static
substratului plan static planetară planetară liniară
Temperatura de
8. încălzire a 250…300 250…300 70 50 80
substratului [°C]
Gradul de utilizare
a materialelor
9. 60…80 60…80 30 30 60…80
țintei
[%]
Eficiența
10. pulverizării 10-8 7 25 20 35 35
[cm3/J]