METODE DE DEPUNERE IN

VID A STRATURILOR SUBIRI

REZISTENTE LA UZURA
Prof. :

Masterant :

Notiuni Introductive

Straturile subiri se aplic pe scar larg

n numeroase domenii ale tiinei i
tehnicii. Cele mai importante aplicaii ale
straturilor subiri sunt n
microelectronic, optoelectronic i
industria sculelor de achiere. n ultimii
ani interesul fa de straturile subiri a
crescut spectaculos, ca urmare a
performanelor obinute n folosirea
acestora n domenii importante i
variate.

Metodele de depunere n vid

Metode fizice de
depunere din
vapori (Physical
Vapour
Deposition)

Metode chimice de depunere din vapori

(Chemical Vapour Deposition)

Procedee
Evaporare
Pulverizare
Activare
de obtinere
Termica
in
cu
Termica
Plasma
Catonica
laser
a straturilor subtiri prin depunerea din

Clasificarea principalelor procedee de obinere a

straturilor din faz de vapori

METODA EVAPORARIITERMICE (PVD)

Evaporarea termica este fenomenul fizic
de trecere a substantelor din faza
condensata (solida) in stare de vapori, ca
urmare a incalzirii, pana la temperaturi
inferioare temperaturii de
fierbere.Trecerea substantelor din stare
solida in stare lichida si apoi in stare de
vapori, sau din stare solida in stare de
vapori, prin sublimare, precum si in sens
invers, fac parte din fenomenele
cunoscute sub denumirea de

METODA PLACARII IONICE (PVD)

Metoda placarii ionice a fost utilizata initial

pentru realizarea depunerii de nitrura de
titan prin evaporarea termica a titanului
dintr-o sursa de evaporare termica (tun
electronic), in prezenta unei descarcari
luminiscente cu atmosfera

METODA PULVERIZARII CATODICE

De obicei se folosesc ioni grei de gaz inert
(ioni pozitivi), cel mai adesea fiind folosit
argonul. In cazul utilizarii ionilor pozitivi
de gaz inert ca particule de
bombardament, sursa de generare a
acestora este descarcarea luminiscenta,
iar fenomenul de pulverizare are
denumirea de pulverizare catodica.

TEHNICA CVD (Chemical Vapour Deposition).

Depunerea CVD este o tehnic de tip gaz,

n care precursorii se gsesc n stare
chimic. Tehnologia CVD elimin o serie
de inconveniente caracteristice
tehnologiilor tradiionale: consumuri
energetice ridicate, durata mare de
tratament, control dimensional dificil,
necesitatea unor operaii ulterioare de
finisare n majoritatea cazurilor,

Activare termic (CVD)

reactorul cu perei reci

CVD
Parametrii de control ai tehnicii CVD sunt
urmtorii:
Temperatur plit i a pereilor;
temperatura plitei depinde i de
stabilitatea precursorilor
Presiunea i temperatura n vasul de
precursori i determin concentraia
precursorilor
Debitul de gaz purttor

Frecarea

Frecarea extern se manifest prin

rezistena la micarea relativ sau a
tendinei de micare a unor corpuri n
contact, nsoit de un consum de
energie.
Frecarea interioar apare n interiorul
unei pelicule continue de fluid i se
exprim prin vscozitatea fluidului.
Procesele de frecare sunt disipative de
energie. Ele au ca efect nclzirea
corpurilor n contact, deformaii ale

Uzarea
Procesul de uzare const n ndeprtarea
adaosul de material de pe suprafaa
corpurilor n frecare sau apariia de
deformaii plastice, transformri
structurale i tensiuni interne, care
conduc la modificarea strii iniiale a
suprafeelor n contact

Tribologia
etimologia cuvntului provine de la
cuvintele greceti tribos - frecare, logostiin
este tiina care se ocup cu studiul
proceselor de frecare ungere uzare,
care apar la suprafeele n contact, cu
micare relativ.
urmrete micorarea pierderilor de
energie i material prin frecare,
creterea randamentului mecanic i a
fiabilitii, reducerea cheltuielilor de

VA MULTUMESC PENTRU
ATENTIE

Mihaela Cotaie IMMA 3731