Documente Academic
Documente Profesional
Documente Cultură
Nn
kT
(8.1)
61
Din analiza relaiei (8.1) se constat c N1 > N2 > N3 >>Ni pentru E1<E2
<E3<<Ei, adic populaia nivelului superior este mai mic dect cea a
nivelului inferior.
Se pot ns crea situaii cnd populaia nivelului superior s fie mai mare
dect cea a nivelului inferior. Aceast situaie se numete inversiune de
populaie.
Realizarea inversiunii de populaie are loc dac n urma introducerii unei
energii numit radiaie de pompaj au loc interaciuni dintre radiaiile
electromagnetice i sistemele atomice ale substanei active. Ca urmare a acestei
interaciuni se produc dou efecte diferite:
- absoria de radiaie, cnd se produce excitarea sistemului;
- emisia simultan de radiaie, cnd are loc dezexcitarea sistemului
excitat, prin interaciunea acestuia cu o cuant de energie incident de aceeai
frecven cu cea a cuantei de dezexcitare.
n funcie de modul de realizare a inversiunii de populaie se deosebesc
urmtoarele tipuri de lasere:
- cu mediu activ solid, la care inversiunea se realizeaz prin iradiere
optic;
- cu semiconductoare, la care inversiunea se realizeaz prin injecie de
electroni, prin iradiere electronic i iradiere optic;
- cu mediu activ gazos, la care inversiunea se realizeaz prin ciocniri
neelastice i prin iradiere optic;
- chimici, la care inversiunea se realizeaz prin discocieri chimice.
Interaciunea dintre radiaiile electromagnetice i substana activ se
produce n mod eficient dac are loc ntr-un spaiu denumit rezonator optic.
Forma oglinzilor de capt ale rezonatorului 1 poate fi o suprafa plan
(rezonator tip Fabry-Perot ca n figura 8.1), suprafa sferic (rezonator
62
Sistem de
focalizare
Radiaie de pompaj
Mediu activ
3
Piesa-semifabricat
concentric) sau confocal. Radiaia amplificat iese parial prin suprafaa lentilei
semitransparente 2 paralel cu lentila opac 3, formnd fasciculul laser 4,
coerent, monocrom, direcional i foarte intens. Datorit timpului scurt n care
se produce emisiunea stimulat i amplificarea ( 10-6 s) i posibilitii de a fi
condus, concentrat i focalizat, fasciculul laser poate ajunge la densiti de
putere de 1010 W/cm2, fasciculul de fotoni putnd fi focalizat pe suprafee mici i
atingnd temperaturi de peste 18 000 K, suficiente s topeasc i s vaporizeze
orice material existent.
8.2. Mecanismul fizic al prelucrri dimensionale cu fascicul de fotoni
Aplicarea practic a fasciculului laser la prelucrarea dimensional este
facilitat de proprietile caracteristice ale acestuia, cele mai importante fiind:
coerena, monocromaticitatea, direcionalitatea, intensitatea emisiei laser,
posibilitatea concentrrii, conducerii i focalizrii fasciculului laser.
Interaciunea fasciculului laser cu materialul de prelucrat n procesul de
prelucrare poate fi considerat ca o influen a sarcinii electromagnetice a undei
luminoase asupra atomilor sau moleculelor substanei. Aspectele principale ale
procesului de interaciune se determin prin ecuaia Maxwell, care coreleaz
constantele de baz ale opticii metalelor cu natura electromagnetic a luminii:
63
rot H
E
4
E
c t
c
rot E
(8.2)
c
t
(8.3)
div H 0; div E 0
(8.4)
n care:
- vectorul
permeabilitatea magnetic.
Din ecuaia (8.2), prin transformri se determin legea variaiei
amplitudinii undei de lumin care se propag n material, de forma:
I I0 e
(8.5)
n care: I0 este densitatea sarcinii dielectrice; - coeficient privind schimbarea
densitii la timpul t.
Adncimea de ptrundere a undei de lumin depinde de coeficienii de
refracie i absorie. Coeficientul de refracie n se determin din relaia:
" ( n Jk ) 2
( n" ) 2
(8.6)
n care: n, k i n sunt coeficienii de refracie, absorie i respectiv coeficientul
comun de absorie.
Coeficientul de absorie
1 Wcp
Wcp
x
(8.7)
(8.8)
thelurul Th3+, holmiul H3+, erbehul Er3+, neodimul Nd3+, granatul de ytriu i
aluminiu notat YAG etc.); substanele active gazoase (de exemplu: He-Ne; NeO2, Hg, Hg-Ne etc.) lichidele active (de exemplu: soluiile de acid neodimic
dizolvat n oxiclorur de seleniu Nd3+-Se OC12 sau n oxiclorur de fosfor Nd3+POC13, euratul de bariu n alcool cu ionul activ Eu 3+, chelaii de forma EuX3,
66
67
12
10
8
9
Lichid de
rcire
7
11
5
4
3
1
2
Fig. 8.2. Schema de principiu a unei instalaii de prelucrare dimensional cu fascicul laser cu mediu
activ solid:
1 - piesa-semifabricat; 2 - masa de uzinaj fotonic; 3 - fascicol laser concentrat i focalizat; 4 - duz de
conducere i protecie; 5 - gaze de protecie; 6 - ajutaj; 7 - lentil de focalizare; 8 - lentil de deflexie;
9 - sistem de rcire; 10 - fascicol de fotoni orizontal; 11 - cavitatea de rezonan; 12 - radiaia de
pompaj; 13 - surs de alimentare.
Intrare ap
de rcire
10
Ieire ap Ieire ap
9
17
Intrare gaze
Ieire gaze
15 16
14 13 11 12
15
Intrare ap
de rcire
8
7
6
Intrare gaze
5
4
3
1
2
Fig.8.3. Schema de principiu a unei instalaii de prelucrare dimensional cu fascicul laser, cu mediu
activ gazos:
1 - piesa-semifabricat; 2 - masa de uzinaj fotonic; 3 - fascicul de fotoni concentrat i focalizat; 4 duz; 5 - ajutaj; 6 - gaze de protecie; 7 - lentile de focalizare; 8, 12 - obturator de siguran; 9 - lentil
de reflexie; 10 - sistem de rcire; 11 - fascicul de fotoni orizontal; 13 - lentil transparent; 14 cavitate de rezonan; 15 - tuburi de descrcri; 16 - sursa de curent; 17 - lentil de reflexie; 18 radiaia de pompaj.
se
0,16
q (t i t p )
Lt
(8.9)
70
h
tg
3E
3
tg q 0
1
3
D0
tg
3 E tg
D 2 D
q0
n care: D0 este
(8.10)
1 / 3
3
0
diametrul
iniial
al
(8.11)
fasciculului
laser;
E - energia
caracteristici
care
condiioneaz domeniile de utilizare sunt:
- permite prelucrarea de la distan fr ca instalaia laser s vin n
contact cu semifabricatul, folosind aparatur optic simpl (fibre optice);
- asupra materialului de prelucrat, fasciculul acioneaz fr impuls
mecanic, deci este posibil prelucrarea peliculelor i straturilor ultrasubiri, fr
pericolul deformrii;
- n zona de interaciune a fasciculului laser cu suprafaa de prelucrat se
pot atinge valori locale foarte mari ale temperaturii, suficiente s topeasc i s
vaporizeze oricare material;
- fasciculul laser poate fi concentrat i focalizat n spaii foarte mici,
impulsul putnd avea durate foarte mici i densiti de energie foarte mari, ceea
ce permite prelucrarea peliculelor foarte subiri i a orificiilor foarte mici;
72
- zona influenat termic este foarte mic (de 812 ori mai mic dect la
prelucrarea cu fascicul de electroni), suprafaa prelucrat rezultnd cu o duritate
foarte mare (de circa 68 ori mai mare dect materialul de baz);
- se pot prelucra materiale n stare de magnetizare sau plasate n cmpuri
magnetice sau electrice, deoarece fasciculul nu este deviat i nici afectat de
aceste cmpuri;
- fasciculul de fotoni este reflectat de suprafaa de prelucrat n proporie
de 1095% n funcie de constantele termofizice ale materialului i starea
suprafeei, de aceea sunt necesare msuri speciale n vederea prelucrri anumitor
suprafee (acoperiri fine antireflectante, schimbarea intensitii fasciculului n
timpul prelucrrii etc.).
Cteva din aplicaiile de mare eficien ale prelucrrii dimensionale cu
fascicul de fotoni sunt:
- execuia orificiilor ptrunse (fig. 8.5,a) sau neptrunse (fig.8.5, b) cu
diametre variind de la civa microni pn la 0,5 mm, n piese cu grosimi de
0,112,0 mm din materiale dure i extradure, electroconductoare i
neelectroconductoare (sticl, ceramic, textile, mase plastice, lemn etc.).
- execuia orificiilor multiple de la diferite filiere, matrie de injecie mase
plastice etc. (fig.8.5, c);
- execuia de perforri n filtre de diamant (fig.8.5, d), de ceramic, din
materiale extradure, n pietre preioase i semipreioase pentru lagrele
ceasornicelor i ale aparaturii de mare precizie, n diafragmele aparatelor optice
i electronice, n inelele de ferit folosite la memoria calculatoarelor etc.;
- prelucrarea canalelor i trasarea reticulelor pentru aparatura optic, cu
lime de ordinul 510 m (fig.8.5, e);
- execuia fantelor i orificiilor lenticulare de dimensiuni foarte mici i
configuraie complex (fig. 8.5, f);
73
f
d
e
Fig.8.5. Cteva din cele mai eficiente utilizri ale prelucrrii dimensionale cu fascicul de fotoni:
a - gurirea ptruns; b - gurirea neptruns; c - execuia orificiilor multiple; d - execuia orificiilor
complexe; e - trasarea reticulelor; f - execuia fantelor complexe; g - debitri; h - inscripionri i
gravri.
CARACTERISTICA
Materiale prelucrate
Puterea soecific [kW/cm2]
Mediul de lucru
REZULTATE
Orice material
1015
Specific
astfel:
-
frecare i coroziune;
77
78
81
82
83
Modelul prezentat n figura 8.15 este realizat pe suprafaa unei piese din
oel. Modelul are un tipar cu dimensiuni extrem de reduse (ptratele obinute
prin ablaie au laturile de 2 m, iar razele de racordare au 0.25 m).
Fiecare prism prezentat n figura 8.16 are dimensiunile 80m80m250m,
iar distana dintre ele este de 20m. ntreaga reea conine cteva mii de prisme
de acest fel.
Prin urmare, dac iniial suprafaa era caracterizat prin rugozitate ridicat
(fig. 8.17,a), prin topirea superficial a materialului, poate fi realizat netezirea
suprafeei la nivel microgeometric (fig.8.17,b), prin umplerea microgurilor.
n esen, n timpul procesului de finisare cu laser a suprafeelor, energia
termic trebuie s afecteze numai zona superficial a piesei de pelucrat,
respectiv, microvrfurile profilului suprafeei, deoarece nu se intenioneaz
modificarea macrogeometriei piesei.
Realizarea acestui obiectiv presupune c numai o cantitate redus a
energiei trebuie s fie concentrat n zona prelucrrii cu scopul de a evita
producerea distorsiunilor formei piesei, mai ales n cazul n care, se prelucreaz
repere cu perei subiri, frecvent ntlnite n tehnologia actual.
La polul opus, densitatea de energie extrem de ridicat, apropiat de aceea
folosit n cazul proceselor de tiere sau sudare cu laser ar afecta materialul
prelucrat pe o adncime mai mare (prin topire i vaporizare) dect este necesar
la procesul de finisare la nivel submicronic.
n scopul obinerii gradului de finisare a suprafeei cerut, parametrul
major care trebuie s fie meninut sub control este cantitatea de energie care este
adus pe suprafaa piesei de prelucrat.
Cantitatea de energie caracterisitc finisrii cu radiaie laser depinde n
mod esenial de urmtorii parametri tehnologici:
86
90
0,1
0,2
0,4
800
22
0,756
0,356
1000
27
0,932
0,372
1200
27
1,299
0,583
n tabelul 8.2, sunt prezentate valorile medii obinute dup trecerile liniare
Fig.8.22. Fotografie a suprafetei otelului ,,Orvardupa mai multe treceri de finisare cu laser.
Fig. 8.23. Comparaie ntre profilul microgeometriei n cazul mostrelor de F114,prelucrate prin
electroziune si cu fascicul de fotoni.
92
Tabelul 8.3. Selecia rezultatelor experimentale obinute la finisarea cu laser a materialului F114
CARACTERISTICA
Materiale prelucrate
Puterea specific[kW/cm2]
Mediul de lucru
Productivitatea [mm3/min]
REZULTATELE
Orice material
1015
Specific
0,1
Fig.8.25. Microfotografie a epruvetei din material F114 finisat cu laser n zona central
Fig.8.28. Suprafata unei mostre din LaserForm ST-100 prelucrata prin finisare submicronica
cu laser.
structuri fine;
REZULTATELE
Orice material
1015
Specific
0,1
10-7
5*106
Caracteristici geometrice
Puterea specific [kW/cm2]
Mediul de lucru
Productivitatea [mm3/min]
Suprafaa minim a spotului[cm2]
Densitatea maxim de putere[W/cm2]
Prelucrri Putere laser Distana standoff
anterioare
[W]
[mm]
Frezare
1500
40
Ra iniial [m]
0,802
Ra final
[m]
0,436
materialului de baz.
99
filmelor depuse s-a fcut prin AFM microscopia de for atomic , aparinnd
metodei SPM (Scanning Probe Microscopy ). De exemplu pentru o suprafa de
10x10 m, n figura 8.33,a este prezentat imaginea stratului depus iar n figura
8.33,b rugozitatea (RMS) acestei suprafee n cazul depunerii de ZnO pe un
substrat de safir (n figura 8.34,a i figurs 8.34,b sunt prezentate aceleai
elemente n cazul depunerii de ZnO pe un substrat de siliciu). S-a constatat c
depunerea realizat pe siliciu are o rugozitate mult mai buni o structur mult
mai compact;
substrat n forma sa pur sau ntr-o form de amestec obinut prin sinteza
materialului cu gazul reactiv, straturile de acoperire obinute sunt identice
cu cele obinute prin metoda tipic PVD . n cazul evaporrii laser pot
aprea depuneri de material topit . Din acest motiv pentru fiecare tip de
material evaporat trebuie selectat tipul de laser cel mai indicat.n general
regula se aplic pentru depunerea metalelor prin vapori , cele mai bune
rezultate fiind obinute prin utilizarea laserelor Nd-YAG , n timp ce
pentru materialele nemetalice se recomand laserul CO2 .
Tabelul 8.6 Depuneri de micro i nanostraturi cu laseri pulsai
Material
substrat
Material
de
depunere
Lungimea de Frecvena
und
[Hz]
[nm]
Oel
Al-Ni
355
10
Safir
ZnO
355
10
Siliciu
ZnO
266
10
Safir/siliciu+Al Al2O3/Zn
266
10
Energie
[mJ]
50
40
30
40
Arie
spot
[mm2]
0,5
1
1
1
2O3
Presiune
oxigen
[mbar]
3x10-4
nclzire Rcire
[oC/min] [oC/min]
distruge barierele chimice ale materialului vizat. Materialul este apoi divizat n
componentale sale chimice i nici o faz lichid, de tranziie, nu apare n timpul
acestui proces.
Cercetrile existente ofer informaii referitoare la microprelucrarea cu
laser a polimerilor i semiconductorilor, dar se raporteaz
mai puin la
105
Fig.8.36. Imagini ale zonelor de ablatie la diferite energii laser (l=355 nm):
a-la 0,8 mJ/cm2;b-la 1,3 mJ/cm2;c-la 1,8 mJ/cm2;d-la2,5 mJ/cm2.
Figura 8.36, prezint imagini SEM ale unor serii de orificii ablate dintr-un
compus HDPE-VGCF sub aciunea diferitelor energii laser.
La nivelul energetic situat chiar deasupra pragului ablaiei laser, care este
0.8 J/cm pentru 355 nm (fig.8.36,a), a fost observat expansiunea volumetric
tip pop-up. Diametrul i adncimea orificiilor ablate au crescut odat cu
energia.
Analiza elementelor EDS a artat aceeai compoziie chimic n zona de
pop-up ca i n zona vecin neiradiat. Inspectnd cu atenie suprafaa, s-a
observat c ablaia a fost iniiat n masa compusului n loc s aib loc la
suprafa. Acest fapt a indicat efectul tipic volumetric care are loc n ablaia
fototermal laser. Cu alte cuvinte, absorbia luminii laser incidentale i
acumularea cldurii au necesitat un anumit volum al probei.
Monomerul sau oligomerul rezultat a fost n stare gazoas producnd o
106
Fig. 8.37 Imagini ale zonelor de ablaie la diferite energii laser (=532nm):
a-la 1.6 J/cm; b-la 2.3 J/cm ;c-la 3.2 J/cm;d-la 3.8 J/cm.
Fig.8.39. Imagini SEM ale seciunii orificiilor ablate (=355nm, E=1,8J/cm2, numr de pulsuri,
succesiv 1,5,20)
108
110
111
112
113
114