Documente Academic
Documente Profesional
Documente Cultură
Sorin Hintea
Departamentul de Bazele Electronicii
Cuprins
3 regimuti de operare
VGS < Vth ID = 0 blocat
VGS > Vth VDS < Vod liniar
VDS 2
ID n VGS Vth VDS
2
VDS2/2 se neglijeaza dependenta liniara
VGS > Vth VDS > Vod saturat
n
ID VGS Vth 2
2
Cine este factorul ?
W ox
K Cox
L t ox
W,L latimea si lungimea ox permitivitatea oxidului
tranzistorului tox grosimea oxidului
Factorul K
K Cpurtatorilor
mobilitatea ox de
sarcina
Purtatori de sarcina: nMOS
electroni, pMOS goluri
La acelasi W/L
n p n p
3 regimuti de operare
|VGS| < |Vth| ID = 0 blocat
|VGS| > |Vth| |VDS| < |Vod| liniar
| VDS |2
I D p | VGS | | Vth | | VDS |
2
|VDS| /2 se neglijeaza dependenta liniara
2
p
ID | VGS | | Vth | 2
2
O regiune de tip n sau p situata sub poarta este dopata in timpul procesului de
fabricare a tranzistorului canal initial
Tranzistorul este in conductie si pentru tensiune grila-sursa VGS = 0, sau usor
negativa
Pentru VGS < Vth (in cazul pMOS |VGS| < |Vth|) se forteaza golirea canalului si
tranzistorul este comandat in blocare
Efectul canalului initial este translatarea spre valori negative (in cazul pMOS spre
valori pozitive) a carcateristicii de transfer a tranzistorului
Efectul canalului initial este translatarea spre valori negative (in cazul pMOS spre
valori pozitive) a carcateristicii de transfer a tranzistorului
nMOS pMOS
nMOS
canal initial
pMOS
canal initial
L
R on
Rs L
t W
[m] rezistivitatea materialului
t [m] grosimea conductorului
L [m] lungimea conductorului
W [m] limea conductorului
RS [/m] rezistena (de suprafata) pe unitatea de
lungime
Materialul Rs [ /m]
Metal 0,03
Difuzie 10 50
Polisilicon 15 100
canal n 104
canal p 2,5104
VDS 1 L
Ron
I DS (VGS VT ) Cox W (VGS VT )
Pentru a obine tranzistoare cu rezistena mai mic i timpi de comutaie mai mici
trebuie mrit limea W.