Universitatea Politehnica București

Facultatea Ingineria și Managementul

Sistemelor Tehnologice
Specializarea Ingineria Nanostructurilor și Proceselor Neconvenționale

PRELUCRAREA CU FASCICUL
DE ELECTRONI

Anul Universitar
2014/2015
CUPRINS

1. GENERALITĂȚI…………………………………………………………..………3
2. GENERAREA FASCICULULUI DE ELECTRONI………………….…….…..4
3. APLICAȚII TEHNOLOGICE ALE FASCICULULUI DE ELECTRONI………6
4. CONCLUZII……………………………………………………………………...14

2
 PRELUCRAREA CU FASCICUL DE ELECTRONI

1. GENERALITĂȚI
Prelucrarea cu fascicul de electroni (Electron Beam Machining – EBM), prin
performanţele tehnologice ridicate, are aplicabilitate atât în domeniul micro cât şi al
nanotehnologiilor fiind utilizată în optica electronică, microelectronică, tehnologia informatică,
tehnica nucleară, construcţii aeronautice şi aerospaţiale etc. EBM are o arie tehnologică extrem
de vastă prin realizarea de: microsuduri de ordinul micrometrilor, debitări de materiale,
microgăuri, frezări, acoperiri de suprafeţe cu straturi subţiri, marcări, trasări, obţinerea metalelor
pure etc.

Utilizarea electronilor dirijaţi se bazează pe fenomenul de emitere a unei cantităţi de

căldură la impactul dintre electroni şi suprafaţa materialului supus prelucrării (bombardament
electronic), prin urmare, EBM face parte din categoria tennologiilor neconvenţionale termice.

În tabelul 1, sunt prezentate unele dintre principalele caracteristici de prelucrării cu

fascicul de electroni:
Tabelul 1. Caracteristici ale prelucrărilor cu fascicul de electroni (ioni) şi electroeroziune

Prelucrarea cu fascicul de
Caracteristica
electroni şi ioni

Materiale prelucrate orice materiale

Intensitatea curentului [A] 0,03...0,5

Puterea specifică [W/cm2] ≤ 1011

Mediul de lucru vid (atmosferă neutră)

Productivitatea [mm3/min] 20

După 1940, se dezvoltă bazele teoretice ale EBM, iar în 1957, în Franţa, se realizează
prima instalaţie de sudare cu fascicul de electroni. La ora actuală firme din SUA ("Temescal"),
Franţa ("Alcatel" şi "Sciaki"), Germania ("Steigerwald", Leybold-Heraeus), Rusia, Japonia etc.
produc pe scară industrială instalaţii specifice de tăiere, sudare, găurire, depuneri de straturi
subţiri etc.

Pe plan mondial, funcţionează circa 7000 de astfel de instalaţii. În România, au fost

realizate astfel de instalaţii (în special pentru sudare, tratamente termice şi depuneri de straturi
subţiri) la I.F.A., I.C.P.E. Bucureşti şi I.S.I.M. Timişoara.

2. GENERAREA FASCICULULUI DE ELECTRONI

3
 Prelucrarea cu fascicul de electroni face parte din categoria procedeelor de prelucrare
termice. Sursa termică o constituie un fascicul de electroni concentrat, având o viteză şi, ca
urmare, o energie cinetică mare care bombardează componentele de prelucrat. La impactul
fasciculului de electroni cu componentele de prelucrat, energia acestuia se transformă în
căldură şi are loc o încălzire locală, rapidă a materialului prin conducţie (fig. 1.a,b). Odată cu
creşterea puterii specifice a fasciculului profilul zonei se modifică (fig. 1.c), la puteri specifice
până la valori de 106 W/cm2 , sub acţiunea vaporilor produşi se formează un tub capilar,
înconjurat de un înveliş subţire de material topit (fig. 1.d). La puteri specifice de 108 W/cm2 , se
produce eliminarea explozivă a învelişului topit şi o străpungere a materialului pe întreaga
grosime a sa (fig. 1.e). Cele mai multe procese se desfăşoară în vid, deoarece atmosfera ar
provoca o frânare şi dispersie a fasciculului.

Elementul primar, care stă la baza fenomenelor fizice ce au loc la EBM, este particula
elementară cu sarcină negativă, electronul, caracterizat prin: sarcina e - = 1,602 10-19 C; masa
me = 9,109 10-31 kg; sarcina specifică e-/me=1,759 1011 C/kg. Numărul electronilor dintr-un atom
depinde de elementul respectiv şi este egal cu numărul atomic din tabelul periodic al lui
Mendeleev.

Electronii liberi se pot obţine prin încălzirea suprafeţei unui metal cu o anumită
cantitate de energie, care se transferă electronilor, iar aceştia părăsesc suprafaţa metalului,
având loc aşa numita emisiune termoelectronică.

Pentru a realiza prelucrarea unei piese cu ajutorul electronilor emişi, se impune

gruparea acestora într-un fascicul dirijat către piesă şi accelerarea acestora în spaţiul dintre
catodul emitor şi anod (care poate fi chiar piesa de prelucrat). Accelerarea se poate face în
două moduri: a) cu ajutorul câmpului electric; b) cu ajutorul câmpului magnetic.

Instalaţii de prelucrare cu fascicule de electroni

Aceste instalaţii sunt alcătuite, în general, din patru subansamble principale, şi

anume:

1 - dispozitivul de producere a fasciculului de electroni; producerea curentului de emisie a

catodului (Ie  0,1 A);

2 - subansamblul (instalaţia) electric pentru producerea tensiunilor de accelerare, care să

conducă la energii ale fasciculului şi/sau impulsului corespunzătoare procesului de prelucrare;

4
3 - subansamblul electric de comandă şi reglare; producerea unui curent cu intensitate reglabilă
(1...4 A) de mare stabilitate, care să acţioneze asupra sistemului de deflexie (direcţionare,
deviere), în vederea realizării următoarelor funcţiuni principale:

 focalizarea fasciculului electronic corespunzător diametrului acestuia şi distanţei de tir

(distanţa până la suprafaţa obiectiv);
 realizarea deflexiei longitudinale, transversale sau circulare;
 desfăşurarea procesului, în regim continuu sau în impulsuri;
 deplasarea, pe cale mecanică, a tunului electronic sau a piesei, corespunzător celor trei
axe de coordonate.

4 - subansamblul de realizare a vidului în incinta tunului electronic şi camera de lucru (10-2...10-4

Pa).

Tunul electronic este subansamblul principal al unei instalaţii de prelucrare cu fascicul de

electroni, asigurând principalele funcţiuni: producerea electronilor liberi, formarea fasciculului de
electroni, focalizarea şi direcţionarea acestuia.

Construcţia tunului electronic este caracteristică tipului de instalaţie şi prelucrării care urmează
a fi executată, având în principal următoarele componente (fig.2): catodul termoemisiv 1,
încorporat în catodul 2; anodul de accelerare 3; “lentilele” electromagnetice 4, necesare pentru
focalizarea fasciculului; sistemul de deflexie (deflectorul) 5, pentru dirijarea fasciculului
electronic spre piesa de prelucrat 6 şi sursa de tensiune înaltă 7.

Fig. 2. Construcţia unui tun electronic

Tunul electronic focalizează fasciculul în punctul P0 iar

bobinele electromagnetice (cu rolul de lentilă de
focalizare) focalizează fasciculul în punctul P1 situat pe

piesa de prelucrat.

Catozii termoemisivi au rolul de a realiza emisiunea electronică, putând fi de două tipuri:

5
  cu încălzire directă la temperatura de emisie - pentru curenţi de emisie cu
intensitatea sub 0,1 A;

 cu încălzire indirectă prin radiaţie sau bombardament electronic – pentru curenţi

de emisie cu intensitatea mai mare de 0,1 A.

Instalaţiile de prelucrare cu fascicule de electroni prezintă, în construcţia lor, şi echipamente

speciale de comandă pentru poziţionarea pieselor în timpul prelucrării, precum şi echipamente
pentru reglarea parametrilor electro-tehnologici.

Astfel, sistemele de poziţionare a piesei, înainte sau în timpul prelucrării, asigură

deplasarea unei mese, pe care este dispusă incinta de lucru, prin acţiunea unor servomotoare
pe cele trei direcţii comandate numeric (X, Y, Z).

În ceea ce priveşte reglarea parametrilor de lucru, instalaţiile moderne implică

autoreglarea, pe baza unor elemente de referinţă prestabilite (curentul electronilor retrodifuzaţi,
curentul preluat de piesă etc.) şi acţionarea, în vederea restabilirii puterii fasciculului, focalizării
acestuia etc.

În cazul utilizării unor tensiuni înalte de accelerare, de peste 100kV, se impune

conducerea proceselor de prelucrare cu circuite închise de televiziune, din cauza puternicelor
emisii de raze X.

3. APLICAȚII TEHNOLOGICE ALE FASCICULULUI DE ELECTRONI

La ora actuală, în domeniile de vârf ale industriei de tehnică nucleară, construcţii de
nave cosmice, electrotehnică, automatică, mecanică fină şi în general, în tehnica miniaturizării
şi ultraminiatirizării, anumite tehnologii de prelucrare nu se pot realiza fără utilizarea fasciculelor
dirijate de electroni şi de ioni.

3.1. Sudarea cu fascicul de electroni

Aceasta constituie principala aplicaţie tehnologică a procedeului de prelucrare cu

fascicul de electroni – superior laserului – cu largi aplicaţii în: industria cosmică, aeronautică,
nucleară, electronică, electrotehnică, a autovehiculelor etc.

Prin acest procedeu este posibilă realizarea, în condiţiile unor indici tehnico - economici
superiori, a îmbinărilor dintre materiale refractare: titan, wolfram, tantal, zirconiu etc., precum şi
a unor oţeluri înalt aliate, a unor aliaje de aluminiu şi nichel, a cuplurilor de materiale cu
temperaturi de topire şi conductibilităţi termice diferite. Datorită faptului că încălzirea în zona de
sudare se face prin acţiunea fasciculului electronic, pe toată suprafaţa zonei, şi nu prin
conducţie, nu se pun probleme de compatibilitate termică, cu atât mai mult cu cât există
posibilitatea focalizării fasciculului asupra materialului cu conductibilitate termică superioară.

În cazul formării de combinaţii ale unor materiale diferite, se recomandă folosirea unor
materiale de adaos corespunzătoare, sub formă de folie dispusă între cele două materiale de
bază - de exemplu: folie de Zn pentru sudarea Cu-Al, Ni pentru Mo-oţel, Pt pentru Ta-Ni. Cu
ajutorul fasciculului de electroni se pot realiza, practic, toate tipurile constructive de suduri - cap
la cap, suduri în T, prin suprapunere, circulare, sudarea componentelor cu grosimi diferite,
sudarea structurilor metalice de rachete, avioane, nave cosmice etc. În cazul sudării unor piese

6
circulare, se folosesc construcţii speciale, care să permită rotirea piesei, pentru realizarea
cordoanelor de sudură pe circumferinţă, sau chiar tunuri circulare.

Datorită dimensiunilor reduse ale cordonului de sudură şi a zonelor influenţate termic,

acest tip de sudare se utilizează tot mai mult în industria microelectronicii şi electrotehnicii
pentru confecţionarea diferitelor componente specifice, traductoare, relee etc., iar cele mai noi
cercetări au pus în evidenţă un nou domeniu de aplicabilitate, şi anume sudura sub apă.

Sudarea cu fascicul de electroni face parte din grupa procedeelor de sudare prin topire.
Sursa termică o constituie un fascicul de electroni concentrat, având o viteză şi, ca urmare, o
energie cinetică mare care bombardează componentele de sudat. La impactul fasciculului de
electroni cu componentele de sudat, energia cinetică a acestuia se transformă în căldură şi are
loc o încălzire locală, rapidă a materialului. În fig. 1, se arată mecanismul formării sudurii cu
fascicul de electroni şi fazele încălzirii materialului. La puteri specifice de 108 W/cm2 , se
produce eliminarea explozivă a materialului topit şi o străpungere a materialului pe întreaga
grosime a sa, este specifică găuririi (perforării) şi se evită la sudare. Procedeul de sudare cu
fascicul de electroni permite realizarea într-o trecere a unor îmbinări cu grosimea de 0,05 –
300mm, funcţie de puterea tunului electronic.

Principalii parametri la sudare

Principalii parametri electrotehnologici ai procesului de sudare sunt:

- tensiunea de accelerare U,
- curentul fasciculului de electroni I,
- curentul de focalizare If,
- frecvenţa oscilaţiilor fasciculului de electroni fi,
- diametrul fasciculului d,
- distanţa de tir dt,
- distanţa focală df,
- unghiul de deflecţie φ,
- presiunea în camera tunului Pt,
- presiunea în camera de lucru Ps
- natura materialului de bază.

Caracteristicile tehnologice principale ale sudurii sunt:

a) viteza de sudare, Vs, se determină prin cercetări experimentale. Obţinerea acestor valori pe
cale experimentală, sunt frecvente în tehnologia construcţiilor de maşini, satisfăcând
necesităţile practice de proiectare a proceselor tehnologice.

b) pătrunderea sudurii, p

c) lăţimea sudurii, b este influenţată în măsură redusă de tensiunea de accelerare şi creşte cu

mărirea curentului fasciculului. Lăţimea sudurii la suprafaţa componentei este legată de
diametrul fasciculului de electroni în focar prin relaţia aproximativă:

b ≅ d8b (1)

unde: d – diametrul fasciculului de electroni.

3.2. Topirea cu fascicule de electroni

7
 Topirea materialelor metalice cu fascicul de electroni se întâlneşte sub două forme, şi
anume: topirea zonală (locală) şi topirea masei de metal.

a) topirea zonală, reprezintă o tehnică ce se aplică materialelor refractare, în scopul purificării

lor chimice sau în scopul ca dintr-un material policristalin, n, să se obţină un singur cristal de
dimensiuni mari sau pentru ambele scopuri simultan;

b) topirea masei de metal, reprezintă tehnica prin care masa de metal este topită, în nişte
cuptoare speciale folosind drept sursă unul sau mai multe tunuri electronice, în vederea obţinerii
de lingouri sau semifabricate. Datorită faptului că procedeul de topire cu fascicul de electroni
are loc în vid, metalele obţinute au un procent de impurităţi foarte scăzut, randamentul energetic
fiind mult superior celui realizat prin metodele clasice (cuptoare cu arc sau inducţie).

3.3. Găurirea cu fascicul de electroni

Folosirea EBM ca metodă de prelucrare a găurilor permite obţinerea unor caracteristici

superioare tehnico-economice, în special la prelucrarea microorificiilor cu diametre în domeniul
micronic, executate în piese de tip lagăre, filiere, injectoare, site, reţele etc., realizate din
materiale dure şi extradure - corund sintetic, rubine, safire, materiale refractare, sticlă etc.

În cazul acestui procedeu, eliminarea materialului topit are la bază fenomenul de

sublimare, adică transformarea directă din faza de solid în fază de vapori. Diametrul găurii
prelucrate depinde de mărimea timpului de impuls. Astfel, pentru diferite materiale, dependenţa
diametrului găurii prelucrate funcţie de mărimea timpului de impuls este prezentată în fig.3.
Mărimea diametrului găurii prelucrate este dependentă de adâncimea de pătrundere (), a
fasciculului electronic conform fig.4, corelaţia dintre cei doi parametrii fiind dependentă şi de
materialul prelucrat.

Fig.3. Dependenţa diametrului găurii prelucrate de timpul de impuls

8
 Fig.4. Dependenţa diametrului găurii prelucrate de adâncimea de pătrundere

Principalii parametri la găurire

Principalii parametri electrotehnologici ai procesului de găurire sunt aceeaşi ca şi la

procesul de sudare cu deosebirea că, în locul frecvenţei oscilaţiilor fasciculului de electroni este
vorba, în cazul găuririi, despre durata impulsului şi pauza dintre impulsurile fasciculului de
electroni.

Caracteristicile tehnologice principale ale găurii sunt:

a) volumul de material îndepărtat;

b) diametrul găurii;

c) adâncimea găurii.

3.4 Obţinerea straturilor subţiri

Principiul care stă la baza acestui tip de prelucrare este cel al condensării controlate în
vid a vaporilor de metal topit.

Proprietăţile stratului depus depind de calitatea suprafeţei suportului, care trebuie să fie
perfect curăţată de orice impurităţi, operaţie care se execută în vid, la temperatura de 500...850
C, cu ajutorul fasciculelor de ioni. Procedeul de acoperire a suprafeţelor cu ajutorul fasciculului
de electroni are o largă aplicabilitate, în special în industria electronică, în tehnica circuitelor
integrate (cablaje), având o productivitate mare. Se pot realiza, astfel, suprafeţe cu dimensiuni
de 1 ...20 m2, într-un timp foarte scurt de 10-5...10-2 s, densitatea de putere a fasciculului utilizat
fiind de 106...108 W/cm2.

3.5 Aplicaţii în domeniul microscopiei

9
 O importanţă deosebită o prezintă fasciculul de electroni în construcţia microscoapelor
electronice cu puteri de mărire de peste 106 ori, în analiza de spectroscopie a diferitelor
materiale etc. Capacitatea de mărire a unui microscop optic (2000:1 sau mai mult cu mai multe
sisteme de lentile) este limitată de lungimea de undă a luminii în domeniul vizibil.

Un microscop electronic utilizează fasciculul electronic pentru a “ilumina” obiectul de

mărit. Întrucât radiaţia electronică este caracterizată printr-o lungime de undă mai mică decât a
luminii, microscoapele electronice au rezoluţie mult mai mare decât microscoapele optice
clasice. Spre comparaţie, cea mai mică lungime de undă a luminii în domeniul vizibil este de
circa 4000 Å, iar a electronilor este în general 0,5 Å.

Microscopia electronica de baleiaj, cunoscuta si sub denumirea de SEM - Scanning

Electron Microscopy - este o tehnica speciala care permite observarea si caracterizarea la
scara micro si nanometrica a materialelor solide anorganice sau organice.

In interiorul SEM-ului, aria ce urmeaza a fi anlizata sau microvolumul analizat sunt

iradiate cu un fascicul de electroni fin focalizat si scanat intr-un rastru pe suprafata.
Interactiunea fasciculului de electroni cu materialul iradiat produce o varietate de semnale:
electroni secundari, electroni împrastiati, raze X, lumina, etc., semnale a caror analiza ofera un
mare volum de informatii despre topografia si compozitia chimica a probei. Cele mai importante
semnale sunt electronii secundari, al caror numar (tradus in intensitate a semnalului) este strans
legat de diferentele topografice si electronii retroamprastiati a caror rata de emisie este
dependenta de numerele atomice (Z) ale elementelor chimice care alcatuiesc probele supuse
analizei. In SEM sunt emise de asemenea raze X caracteristice, a caror analiza ofera informatii
calitative si cantitative despre compozitia chimica a probei examinate.

Un punct forte al SEM-ului este rezolutia inalta ce poate fi obtinuta – valori ale rezolutiei
de 1-5 nm au devenit uzuale pentru instrumentele contemporane.

O alta trasatura importanta a microscopului electronic, si de asemenea un avantaj major

fata de microscopia optica, este cel al unei apreciabile profunzimii de camp, acesta fiind unul
dintre motivele aparentei tridimensionale a fotografiilor SEM, aspect ilustrat in fig. 5.

Fig.5 Micrografie optică vs micrografie SEM a unei plachete de siliciu

Microscopul electronic cuprinde următoarele elemente componente principale:

10
 ⌂ un tun electronic care emite fasciculul de electroni care bombardează mostra şi
creează imaginea sa mărită;

⌂ “lentilele” magnetice care creează câmpul magnetic necesar pentru direcţionarea şi

focalizarea fasciculului;

⌂ sistemul de vidare (vacuumare) pentru a evita ciocnirea nedorită a electronilor cu alte

particule;

⌂ sistemul de înregistrare şi redare a imaginii produse de fascicul.

Există două tipuri principale de microscoape electronice: cu transmisie electronică

(transmission electron microscope – TEM) şi cu scanare electronică (Scanning Electron
Microscope - SEM). La tipul TEM, fasciculul electronic este direcţionat pe obiectul de mărit. O
parte din electroni este absorbită sau reflectată de suprafaţa obiectului; o altă parte trece prin
obiect şi formează o imagine mărită a mostrei. Prin urmare, mostra trebuie să aibă o grosime
foarte mică, în mod obişnuit, de ordinul 1000 Å (0,1 μm). O placă fotografică sau un ecran
fluorescent este plasată în spatele mostrei pentru a înregistra imaginea. Capacitatea de mărire
a TEM este de până la 106 ori. Exemplificarea unei imagini TEM este prezentată în fig.6.

Fig. 6. Transmisia color a unui micrograf electronic care prezintă un virus bacteriofag

Tipul SEM are marele avantaj că nu necesită ca obiectul de mărit să aibă grosime
redusă, prin urmare, pregătirea mostrei nu este necesară. Microscopul digital scanează
suprafaţa mostrei bit cu bit, spre deosebire de TEM care “priveşte” o parte mult mai mare a
obiectului de mărit. Fasciculul electronic cu diametru redus este reflectat de suprafaţa mostrei
sau produce emisii electronice secundare. Aceşti electroni sunt colectaţi şi număraţi de un
dispozitiv electronic poziţionat sub un unghi adecvat în raport cu suprafaţa mostrei. Fiecare
punct scanat al suprafeţei mostrei corespunde unui pixel pe ecranul unui monitor aparţinând
microscopului. Un pixel de pe monitor este cu atât mai strălucitor cu cât creşte numărul
electronilor detectaţi crespunzător pixelului omolog de pe mostră. Capacitatea de mărire a SEM
este mai mare de 105 ori. Spre deosebire de imaginea furnizată de microscoapele optice de
putere şi de TEM, imaginea produsă de SEM are aspect tridimensional.

SEM-urile moderne au in marea lor majoritate o structura ca cea prezentata in figura 6.

In partea superioara a coloanei electronice se afla amplasat tunul electronic care produce un
fascicul de electroni cu energii cuprinse in gama 0,1-30 keV.

11
 Fig 6. Schema functionala a unui SEM

Performantele unui tun electronic pot fi analizate prin masurarea catorva caracteristici
fizice ale acestuia:

- Curentul de emisie IE al unui tun electronic este de ordinul zecilor de µA - aproximativ

100-200µA pentru catozii termoionici de wolfram si 10-30 µA pentru catozii cu emisie in
camp.
- Stralucirea tunului electronic este definita prin analogie cu stralucirea unei surse de
radiatie electromagnetica . Ea reprezinta curentul de fascicul din unitatea de arie si din
unitatea de unghi solid. Este o marime importanta care are proprietatea de a fi constanta
independent de locul in care este masurata in calea fascicolului electronic prin coloana.
- Diametrul spotului electronic - dp este definit ca diametrul fasciculului de electroni la
intersectia acestuia cu proba anlizata.
- Curentul de fascicul - IP este valoarea curentului electronic dupa trecerea de obiectivul
coloanei electronice. Evident, in diferite zone ale coloanei- dupa diversele diafragme de
exemplu - curentul de fascicul are valori diferite, el scazand progresiv pana la valoarea
sa minima IP.
- Convergenta fasciculului
- Dimensiunea sursei este un parametru care se refera la diametrul fasciculului de
electroni in crossover, ea fiind de ordinul 50 µm pentru filamentele de wolfram si de
ordinul nanometrilor pentru catozii cu emisie in camp.
- Dispersia energetica a electronilor din fascicolul emis se datoreaza diverselor
mecanisme de emisie, ea fiind de 3-4 eV in cazul emisiei termoionice si de 0,3-0,7eV
pentru emisia in camp.

12
 - Stabilitatea curentului emis este un parametru important atunci cand SEM-ul este
utilizat in aplicatii de litografie cu fascicul de electroni, si mai putin important in activitatile
de caracterizare.
- Timpul de viata este determinat in cazul emisiei termoelectronice de fenomenele de
evaporare a catodului care lucreaza la temperaturi inalte. Sursele termoionice de
electroni prezinta avantajul de a fi ieftine si de a necesita un nivel de vid relativ scazut.
Dezavantajele rezida intr-un timp de viata limitat si o densitate scazuta a curentului
emis.
- Catozii cu emisie in camp sint fire metalice foarte ascutite, incat prezinta o raza la varf
de numai 50-100 nm. Cand un astfel de varf este supus unui potential negativ ridicat,
campul electric in jurul varfului devine foarte intens si la atingerea limitei de aproximativ
10 V/nm, bariera de potential scade atat de mult si devine atat de ingusta incat unii
electroni vor tunela, parasind catodul. Wolframul este materialul preferat pentru
utillizarea ca varf destinat emisiei in camp, deoarece prezinta suficienta robustete
mecanica, rezistand stresului indus de cimpul electric puternic. Comparativ cu catodul
termoionic care prezinta o densitate de curent de 3-5 A/cm2 , catozii cu emisie in camp
pot genera densitati de curent de pana la 105 A/cm2 .

Au fost dezvoltate şi alte tipuri de microscoape electronice, cum este hibridul cu scanare
şi transmisie electronică (Scanning Transmission Electron Microscope - STEM) care
vizualizează atomi singulari în cadrul mostrei.

Microanalizatorul electronic de probe (Electron Probe Microanalyser - EPM), este

varianta electronică a microscopului care include un dispozitiv de analiză spectroscopică cu
raze X. Acesta analizează razele X de energie ridicată care sunt emise de mostră atunci când
este bombardată cu fascicule de electroni. Pe baza faptului că atomi sau molecule diferite pot fi
identificaţi prin analizarea emisiei lor specifice de raze X, analizatorul electronic furnizează nu
numai imaginea mărită a obiectului, dar şi informaţii privind compoziţia sa chimică.

Microscopul de scanare a probelor utilizează un “palpator” care scanează mostra pentru

a produce o imagine 3D a reţelei de atomi sau molecule de pe suprafaţa mostrei analizate.
“Palpatorul” este metalic, având un vârf extrem de ascuţit, cu dimensiuni atomice. O variantă a
acestui microscop este microscopul de scanare prin tunelare (Scanning Tunnelling Microscope
- STM). Inventat în 1981, se bazează pe fenomenul fizic cuantic – tunelare – pentru a furniza
imagini detaliate ale unei substanţe electric conductoare. “Palpatorul” este apropiat la un
interstiţiu de ordinul Å, de suprafaţa de scanat, aplicându-se o tensiune redusă între cele două
elemente. Datorită interstiţiului extrem de mic, apare o scurgere de electroni între palpator şi
suprafaţa mostrei, generând un curent de valoare foarte redusă. Mărimea curentului de tunelare
depinde de mărimea interstiţiului. Prin acţiunea mecanismului de scanare, se reglează
permanent mărimea interstiţiului dintre palpator şi suprafaţa probei, pentru a menţine constant
curentul de tunelare. Traiectoria palpatorului este vizualizată, determinând astfel, profilul
suprafeţei scanate. Pe baza scanărilor succesive ale suprafeţei, se obţine reprezentarea
tridimensională computerizată a suprafeţei analizate.

Un alt tip de microscop pentru scanarea probelor este microscopul atomic de forţă
(Atomic Force Microscope - AFM), care nu utilizează curentul de tunelare, prin urmare,
materialul mostrei nu trebuie să fie conductor electric.

13
 Fig.7 AFM

La deplasarea “palpatorului” de-a lungul suprafeţei mostrei, electronii din materialul

metalic al palpatorului sesizează norii electronici aparţinând atomilor din cadrul mostrei.

AFM reglează mărimea interstiţiului pentru a menţine forţa de interacţiune constantă

dintre electronii aparţinând materialelor palpatorului, respectiv mostrei.

Un senzor înregistrează mişcările de avans şi retragere ale palpatorului şi transmite

coordonatele poziţiilor palpatorului într-un computer, care construieşte pe această bază
imaginea 3D a suprafeţei mostrei.

4. CONCLUZII
Prelucrarea cu fascicul de electroni are o arie tehnologică extrem de vastă prin
realizarea de: microsuduri de ordinul micrometrilor, debitări de materiale, microgăuri, frezări,
acoperiri de suprafeţe cu straturi subţiri, marcări, trasări, obţinerea metalelor pure etc.

Avantajele prelucrării cu fascicul de electroni sunt realizarea de adâncime sudură

cusătură adâncă și îngustă, compoziția chimică sudură de înaltă rezistență îmbinări pure,
sudate, de bună calitate, sudare metale diferite, cum ar fi cupru și oțel inoxidabil, oțel și carbura,
crom și molibden, cupru, wolfram, crom și cupru, sudarea cu fascicul de electroni poate suda
geometrie complexă a piesei de prelucrat, realizarea găurilor cu diametre în domeniul micronic,
executate în piese de tip lagăre, filiere, injectoare, site, reţele etc., realizate din materiale dure
şi extradure, obţinerea de straturi subţiri, construcţia microscoapelor electronice cu puteri de
mărire de peste 106 ori.

14
Bibliografie

1. http://www.dumitruneagu.ro/pdf/(6.3.2)APLICATIIale%20FE.pdf

2.http://www.unibuc.ro/studies/Doctorate2011Februarie/Dinescu%20Miron%20Adrian
%20-%20Configurare%20la%20scara%20nanometrica%20prin%20litografie%20cu
%20fascicul%20de%20electroni/Rezumat_Teza_doctorat_A.%20Dinescu.pdf

3. http://www.mdeo.eu/mdeo/AD/docs/SEM_seminar_2012.pdf

4. http://www.mdeo.eu/mdeo/AD/docs/SEM_seminar_2011.pdf

5. Curs Cercetarea experimentala in procese neconventionale, prof.dr.ing. Iulian

LUNCAS

6. Curs Management in micro si nanotehnologii, prof.dr.ing. Niculae MARINESCU

15