Documente Academic
Documente Profesional
Documente Cultură
1
Substantele fotosensibile (fotorezist) se expun radiatiei cu
scopul transferului imaginii/desenului de pe masca (sablon) pe
substrat. Astfel radiatia luminoasa activeaza numai anumite zone din
fotorezist, lasand intacte celelalte zone.
Procedeul de fotolitografiere poate fi folosit pentru fabricarea
de hidrogeluri (structuri 3D) pe baza de polimeri sintetici
(polietilenglicol - PEG) sau naturali (gelatina, alginat, acid
hialuronic) functionalizati cu grupari adecvate (met-acrilat) pentru a
permite reactia de fotopolimerizare.
De asemenea, aceasta tehnica poate fi folosita si pentru
modificarea texturii unor suprafete in vederea imbunatatirii
interactiunii interfaciale biomaterial/celule. Astfel, o anumita
structurare a suprafetei aplicata uniform prin crearea de “pattern-uri”
de ordinul µm sau nm poate imbunatati/stimula aderenta celulara.
Polietilenglicolii (PEG) reprezinta polimeri ai etilenglicolului care au ca unitate repetitiva
HO–(CH2CH2O–) n H n = 3÷200
Tipurile de PEG sunt desemnate in practica prin cifra ce indica masa moleculara M,
consistenta PEG variind cu gradul de polimerizare n (M intre: 20 - 100 = lichid; 100 - 1000 =
semisolid; 1000 - 6000 = solid). In structura chimica a PEG se regasesc doua grupari OH
marginale ce confera acestor polimeri un caracter puternic hidrofil (usor miscibili cu apa).
Gruparile OH pot fi convertite prin diverse reactii chimice in alte grupari functionale cum ar
fi de ex. carboxil, amino, (met)acrilat etc.
Datorita solubilitatii lor in apa si biocompatibilitatii crescute, acesti polimeri sunt folositi
frecvent in diverse aplicatii biomedicale cum ar fi:
1. obtinerea de compusi conjugati PEG-proteine pentru
aplicatii farmaceutice;
2
2. tratarea cu PEG a dispozitivelor medicale pentru a reduce
adsorbtia proteinelor si adeziunea celulara (suprafete non-
aderente “protein repellent surfaces” pentru obtinerea de
materiale hemocompatibile);
Partea experimentala
Scopul acestei lucrari este simularea procesului de fotolitografiere si obtinerea prin
fotopolimerizare a unei retele polimerice pe baza de PEG-DMA cu potentiale aplicatii in
ingineria tisulara si/ sau eliberare controlata de substante bioactive.
3
Reactia de fotopolimerizare a PEG-DMA
Necesar materiale
Polietilen glicol dimetacrilat (PEG-DMA) M = 550; n =10
2,2-Dimethoxy-2-fenil-acetofenonă (DMPA) (fotoinitiator: Irgacure 651)
N-Vinil pirolidonă (NVP) pentru solubilizarea DMPA
-tub Falcon, tub Eppendorf, sisteme de agitare ciclonica, spatule, pipete, penseta; Lampa UV
365 nm; folii transparente; placi de sticla.
Mod de lucru:
1. Prepararea solutiei de initiator (DMPA) în solvent reactiv NVP
Se calculeaza cantitatea de DMPA necesara pentru a obtine 0.5 ml soluţie de
concentratie 300mg/ml initiator DMPA in NVP.
Se cantareste cantitatea calculata de initiator DMPA si se solubilizeaza in NVP.
Solubilizarea se va realiza la temperatura camerei utilizand vortex-ul (prin agitare ciclonica)
pentru un interval de timp de minim 2 min.
4
3. Pregatirea matritei si a sabloanelor de fotopolimerizare
Pe o placa de sticla se plaseaza o matrita de silicon (PDMS) cu dimensiunile de 6.5
mm x 4 mm si grosime de 1 mm.
Obs: Pentru ca matrita de silicon sa se prinda de placa de sticla fara ca solutia de polimer sa
curga, atat placa de sticla cat si matrita trebuie curatate foarte bine in prealabil. Matrita de
silicon se fixeaza pe placa de sticla imediat dupa spalare si se plaseaza in etuva la 100oC
pana cand aceastea se usuca si raman fixate (aprox- 20min).
Sabloanele de fotopolimerizare sunt reprezentate de o folie transparenta special
proiectata si printata cu un anumit model (zone opace si zone transparente) ce va juca rol de
fotomasca. Se intentioneaza obtinerea a trei tipuri de materiale: membrana polimerica (cu
folie transparenta simpla) si 3 tipuri de “sabloane”.
Hidrogelul PEG-DMA se comporta asemenea unui fotorezist negativ: zonele expuse
la radiatie fotopolimerizeaza si devin insolubile in apa, in timp ce zonele neexpuse se vor
dizolva in apa (solvent pentru monomer).
Video: https://www.youtube.com/watch?v=gVsWGC7azaM&feature=youtu.be